CN209865405U - 沉淀池集水槽清洗装置 - Google Patents

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高骏
汪文煌
陈天龙
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Abstract

本实用新型揭示了一种沉淀池集水槽清洗装置,沉淀池两侧固定有相互平行的轨道,每个所述轨道上设有位移机构,两个所述位移机构上横跨有桁架,沿所述桁架的一侧设有行走架和行走齿条,清洗机构的背板上安装有沿行走架滑动的行走轮,所述背板上固定有行走电机,所述行走电机的驱动行走齿轮旋转,所述行走齿轮与行走齿条啮合,所述行走架设有两根分别为上行走架和下行走架,安装在上行走架上的行走轮和安装在下行走架上的行走轮均由三个轮子构成。本实用新型的优点在于该装置能够自动的沿着集水槽进行清洗,工作自动化程度高,并且会根据工况调整部件位置,稳定性好,工作安全可靠。

Description

沉淀池集水槽清洗装置
技术领域
本实用新型涉及自动化清洗设备领域。
背景技术
沉淀池是水处理的常用设备,用于污水的沉淀,去除大颗粒悬浮物,一般在沉淀池的上方沿水平面设置多条集水槽,用于收集沉淀池上方的清水,长时间使用后,集水槽的内外壁会滋生青苔,并容易附着污渍。目前会采用横跨沉淀池的桁架方式,在桁架上安装清洗刷对集水槽进行清洗,但是这种清洗机构工作稳定性差,容易出现故障。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是实现一种能够自动清洗集水槽,工作稳定可靠的清洗装置。
为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案为:沉淀池集水槽清洗装置,沉淀池两侧固定有相互平行的轨道,每个所述轨道上设有位移机构,两个所述位移机构上横跨有桁架,沿所述桁架的一侧设有行走架和行走齿条,清洗机构的背板上安装有沿行走架滑动的行走轮,所述背板上固定有行走电机,所述行走电机的驱动行走齿轮旋转,所述行走齿轮与行走齿条啮合,所述行走架设有两根分别为上行走架和下行走架,安装在上行走架上的行走轮由三个轮子构成,包括两个夹持上行走架两侧的上夹持轮,以及位于上行走架上部的上滑动轮,安装在下行走架上的行走轮也由三个轮子构成,包括两个夹持下行走架两侧的下夹持轮,以及位于下行走架下部的下滑动轮。
所述行走轮的轮子均通过轮轴固定在背板的轮架上,所述上滑动轮、下滑动轮、上夹持轮其中一个轮子、以及下夹持轮其中一个轮子均采用弹性固定结构固定在轮架上,所述弹性固定结构包括设置在轮架上的滑槽、安装在滑槽上的滑块、施力方向与滑槽延伸方向一致的支撑弹簧,所述支撑弹簧一端固接在轮架上,另一端固接在滑块上,所述轮子通过轮轴固定在滑块上,所述支撑弹簧向滑块施加压力使轮子压紧行走架。
所述行走齿条位于两根所述行走架之间,所述行走齿条和行走架相互平行,所述背板上固定有夹紧轮,所述夹紧轮配合行走齿轮夹持行走齿条。
所述背板上固定有至少一个水平设置的滑轨,每个所述滑轨上安装有个两个移动块,两个间距调节板固定在独立的移动块上,每个所述间距调节板的顶端或底端固定有水平设置的间距调节齿条,所述背板上固定有两个间距调节电机,每个所述间距调节电机上安装有与其中一个间距调节齿条啮合的间距调节齿轮,所述背板上安装有感应间距调节板位置的行程开关。
每个所述间距调节板上固定有安装支架,所述安装支架上固定有升降机构,所述升降机构包括竖直方向固定的两个链轮和安装在链轮上的链条,所述链条上固定有随链条位移的安装板,所述安装板上固定有旋转机构,所述旋转机构包括清洁电机、与清洁电机联接的旋转轴,所述旋转轴的末端设有用于清洁集水槽的毛刷。
每个所述间距调节电机的输出轴与间距调节齿轮之间通过扭力传感器连接。
所述位移机构包括沿轨道行走的主动轮和从动轮,所述主动轮由位移电机驱动旋转,所述从动轮设有感应从动轮旋转信息的编码器。
所述主动轮设有感应主动轮旋转信息的编码器。
本实用新型的优点在于该装置能够自动的沿着集水槽进行清洗,工作自动化程度高,并且会根据工况调整部件位置,稳定性好,工作安全可靠。
附图说明
下面对本实用新型说明书中每幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明:
图1为沉淀池集水槽清洗装置结构示意图;
图2为桁架剖视图;
图3、4为行走轮结构示意图;
图5、6为间距调节机构示意图;
图7、8为清洗机构示意图;
图9、10为位移机构结构示意图;
上述图中的标记均为:1、桁架;2、位移机构;3、清洗机构;4、行走架;5、行走轮;6、行走齿条;7、行走齿轮;8、行走电机;9、背板;10、间距调节板;11、滑轨;12、间距调节电机;13、间距调节齿轮;14、间距调节齿条;15;行程开关;16、安装支架;17、升降机构;18、旋转机构;19、旋转轴;20、毛刷;21、从动轮;22、编码器;23、主动轮。
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,本实用新型的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等,作进一步详细的说明,以帮助本领域技术人员对本实用新型的实用新型构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
如图1所示,沉淀池集水槽清洗装置设有固定在沉淀池两侧轨道,两个轨道相互平行,供清洗装置横跨沉淀池作业,每个轨道上设有位移机构2,两个位移机构2上横跨有桁架1,为了方便更加清楚的描述技术方案,本实用新型以桁架1为X轴方向,轨道为Y轴方向,与桁架1和轨道均垂直的竖直方向为Z轴方向。
沿桁架1的一侧设有行走架4和行走齿条6,行走架4和行走齿条6沿X轴方向布置,行走架4为供行走轮5滑动的杆结构,优选截面为方形的钢管,清洗机构3的背板9上安装有沿行走架4滑动的行走轮5,为了更加可靠的固定清洗机构3,行走架4设有两根分别为上行走架4和下行走架4,行走齿条6位于两根行走架4之间,行走齿条6和行走架4相互平行。
如图2-4所示,安装在上行走架4上的行走轮5由三个轮子构成,包括两个夹持上行走架4两侧的上夹持轮,以及位于上行走架4上部的上滑动轮,安装在下行走架4上的行走轮5也由三个轮子构成,包括两个夹持下行走架4两侧的下夹持轮,以及位于下行走架4下部的下滑动轮,即每个行走轮5的三个轮子从三个方向夹持所在的行走架4,下行走架4上方没有轮子,上行走架4下方没有轮子,每个轮子均是通过轮轴固定在背板9的轮架上,每个轮轴均与行走架4垂直,则轮子能够沿着行走架4滚动。
由于桁架1一般跨度大,即便刚度再大,也会因自重而发生向下弯曲的情况,这就使得清洗机构3沿桁架1行走到桁架1中间位置时出现出轨或无法提供动力的情况。为了克服桁架1弯曲问题,上滑动轮、下滑动轮、上夹持轮其中一个轮子、以及下夹持轮其中一个轮子均采用弹性固定结构固定在轮架上,弹性固定结构包括设置在轮架上的滑槽、安装在滑槽上的滑块、施力方向与滑槽延伸方向一致的支撑弹簧,支撑弹簧一端固接在轮架上,另一端固接在滑块上,轮子通过轮轴固定在滑块上,安装上滑动轮、下滑动轮的滑槽沿Z轴方向设置,安装上夹持轮和下夹持轮的滑槽沿Y轴方向设置,滑槽为夹持轮子提供了活动的区间,能够克服行走架4的变形,并且支撑弹簧向滑块施加压力使轮子压紧行走架4,保证行走轮5可靠的支撑在行走架4上。
驱动清洁机构行走的动机为背板9上固定的行走电机8,行走电机8的驱动行走齿轮7旋转,行走齿轮7与行走齿条6啮合,如图4所示,背板9上固定有夹紧轮,所述夹紧轮配合行走齿轮7夹持行走齿条6,能够保证行走齿轮7与行走齿条6可靠的啮合。
每个位移机构2包括沿轨道行走的主动轮23和从动轮21,主动轮23由位移电机驱动旋转,从动轮21设有感应从动轮21旋转信息的编码器22,优选主动轮23设有感应主动轮23旋转信息的编码器22。如图9、10所示,编码器22均输出信号至PLC,由PLC控制主动轮23转动,当同侧的主动轮23和从动轮21行走步长不相同,则表示单侧发生了打滑现象,当不同侧主动轮23行走步长不相同,则表示两侧行走发生偏差,无论发生打滑还是偏差均可以根据预设设定的程序自我调节,也可以停机报警,人工进行调节,通过简单的机构调整,解决了位移机构2易出轨的问题。
如图5、6所示背板9上固定有至少一个水平设置的滑轨11,优选设置两个,上下布置固定在背板9上,两个滑轨11相互平行,均沿着X轴方向布置,每个滑轨11上安装有个两个移动块,移动块可以沿着滑轨11滑动,每个滑轨11上的两个移动块,左侧的两个与一块间距调节板10固接,右侧的两个与另一块间距调节板10固接,每个间距调节板10的顶端或底端固定有水平设置的间距调节齿条14,间距调节齿条14沿X轴设置,背板9上固定有两个间距调节电机12,每个间距调节电机12上安装有与其中一个间距调节齿条14啮合的间距调节齿轮13,则通过驱动间距调节电机12旋转,能够使两个间距调节板10沿X轴方向平移,即能够调整两个间距调整板的间距,同时能够控制两个毛刷20的间距,能够更好的同时清洁集水槽的两侧。
背板9上安装有感应间距调节板10位置的行程开关15,行程开关15可以安装设置多个,安装在间距调节板10位移行程两个端点位置的背板9上,通过行程开关15监控每个间距调节板10的位移位置,行程开关15输出信号至PLC,可以自动、智能的控制间距调节板10的间距。此外,每个间距调节电机12的输出轴与间距调节齿轮13之间通过扭力传感器连接,扭力传感器也输出信号至PLC。扭力传感器可以获得毛刷20挤压集水槽壁的力度,可以在毛刷20损坏后,通过控制毛刷20与集水槽的间距,仍能保持较好的清洁效果,
毛刷20固定在竖直设置的旋转轴19底端,旋转轴19顶端固定与清洁电机连接,连接方式可以根据需要设计,如图7、8所示,清洁电机转动则能够驱动毛刷20旋转,对集水槽进行清洁。每个间距调节板10上固定有安装支架16,安装支架16上固定有升降机构17,升降机构17包括竖直方向固定的两个链轮和安装在链轮上的链条,链条上固定有随链条位移的安装板,安装板上固定有旋转机构18,旋转机构18包括清洁电机、与清洁电机联接的旋转轴19。
上面结合附图对本实用新型进行了示例性描述,显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制,只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进,或未经改进将本实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (8)

1.沉淀池集水槽清洗装置,沉淀池两侧固定有相互平行的轨道,每个所述轨道上设有位移机构,两个所述位移机构上横跨有桁架,沿所述桁架的一侧设有行走架和行走齿条,清洗机构的背板上安装有沿行走架滑动的行走轮,所述背板上固定有行走电机,所述行走电机的驱动行走齿轮旋转,所述行走齿轮与行走齿条啮合,其特征在于:所述行走架设有两根分别为上行走架和下行走架,安装在上行走架上的行走轮由三个轮子构成,包括两个夹持上行走架两侧的上夹持轮,以及位于上行走架上部的上滑动轮,安装在下行走架上的行走轮也由三个轮子构成,包括两个夹持下行走架两侧的下夹持轮,以及位于下行走架下部的下滑动轮。
2.根据权利要求1所述的沉淀池集水槽清洗装置,其特征在于:所述行走轮的轮子均通过轮轴固定在背板的轮架上,所述上滑动轮、下滑动轮、上夹持轮其中一个轮子、以及下夹持轮其中一个轮子均采用弹性固定结构固定在轮架上,所述弹性固定结构包括设置在轮架上的滑槽、安装在滑槽上的滑块、施力方向与滑槽延伸方向一致的支撑弹簧,所述支撑弹簧一端固接在轮架上,另一端固接在滑块上,所述轮子通过轮轴固定在滑块上,所述支撑弹簧向滑块施加压力使轮子压紧行走架。
3.根据权利要求2所述的沉淀池集水槽清洗装置,其特征在于:所述行走齿条位于两根所述行走架之间,所述行走齿条和行走架相互平行,所述背板上固定有夹紧轮,所述夹紧轮配合行走齿轮夹持行走齿条。
4.根据权利要求1、2或3所述的沉淀池集水槽清洗装置,其特征在于:所述背板上固定有至少一个水平设置的滑轨,每个所述滑轨上安装有个两个移动块,两个间距调节板固定在独立的移动块上,每个所述间距调节板的顶端或底端固定有水平设置的间距调节齿条,所述背板上固定有两个间距调节电机,每个所述间距调节电机上安装有与其中一个间距调节齿条啮合的间距调节齿轮,所述背板上安装有感应间距调节板位置的行程开关。
5.根据权利要求4所述的沉淀池集水槽清洗装置,其特征在于:每个所述间距调节板上固定有安装支架,所述安装支架上固定有升降机构,所述升降机构包括竖直方向固定的两个链轮和安装在链轮上的链条,所述链条上固定有随链条位移的安装板,所述安装板上固定有旋转机构,所述旋转机构包括清洁电机、与清洁电机联接的旋转轴,所述旋转轴的末端设有用于清洁集水槽的毛刷。
6.根据权利要求5所述的沉淀池集水槽清洗装置,其特征在于:每个所述间距调节电机的输出轴与间距调节齿轮相连,所述间距调节齿轮与间距调节齿条相连,所述间距调节齿条安装在间距微调板上,所述间距微调板安装在间距微调移动块上,所述间距微调移动块安装在间距调节板上,所述间距微调板与间距调节板之间通过扭力传感器连接。
7.根据权利要求1或6所述的沉淀池集水槽清洗装置,其特征在于:所述位移机构包括沿轨道行走的主动轮和从动轮,所述主动轮由位移电机驱动旋转,所述从动轮设有感应从动轮旋转信息的编码器。
8.根据权利要求7所述的沉淀池集水槽清洗装置,其特征在于:所述主动轮设有感应主动轮旋转信息的编码器。
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