CN209849390U - 一种硅原料清洁设备 - Google Patents

Abstract

本公开提供一种硅原料清洁设备，涉及太阳能光伏技术领域，能够解决清洁效率较低的问题。具体技术方案为：一种硅原料清洁设备，包括机架、动力装置、传送装置、第一清洁装置和第二清洁装置；动力装置、传送装置、第一清洁装置和第二清洁装置分别设置在机架上；动力装置用于对传送装置提供动力；传送装置用于传送硅原料；第一清洁装置和第二清洁装置用于清洁硅原料；第一清洁装置包括储水器和水管，水管分别设置于传送装置的作业平面的上方和下方。第一清洁装置和第二清洁装置分别对硅原料进行清洗，提升了硅原料的清洗质量和清洁效率。

Description

一种硅原料清洁设备

技术领域

本公开涉及太阳能光伏技术领域，尤其涉及一种硅原料清洁设备。

背景技术

随着世界经济的不断发展，现代化建设对高效能源需求不断增长。光伏发电逐渐成为人类社会可持续发展的主要能源，也日益受到世界各国的重视并得到大力发展。硅原料作为光伏发电中硅片生产的一种基础材料，有着广泛的市场需求，硅原料的洁净度对硅片的品质优劣有最直接的影响。随着行业竞争日趋激烈，对硅原料的洁净度要求更加严苛，成本管控更加精细。现有针对硅原料的清洁都是人工进行清洗，存在不可控的因素，导致清洗后的硅原料的洁净度不稳定，达不到洁净度的还需要返工再处理。这样一来导致硅原料的清洁效率较低。

实用新型内容

本公开实施例提供一种硅原料清洁设备，能够解决清洁效率较低的问题。

所述技术方案如下：

一种硅原料清洁设备，包括机架、动力装置、传送装置、第一清洁装置和第二清洁装置；动力装置、传送装置、第一清洁装置和第二清洁装置分别设置在机架上；动力装置用于对传送装置提供动力；传送装置用于传送硅原料；第一清洁装置和第二清洁装置用于清洁硅原料；第一清洁装置包括储水器和水管，水管分别设置于传送装置的作业平面的上方和下方。

传送装置对硅原料进行传输，第一清洁装置和第二清洁装置分别对硅原料进行清洗，第一清洁装置使用水对传送装置上的硅原料进行清洁，第二清洁装置对硅原料进一步清洗，清洗的更彻底，从而提升了硅原料的清洗质量和清洁效率。

在本公开的较佳实施例中，上述水管开设有出水孔，出水孔相对于传送装置的作业平面倾斜15至20度。

在本公开的较佳实施例中，上述第一清洁装置还包括增压泵，储水器通过增压泵与水管连接。

在本公开的较佳实施例中，上述第二清洁装置包括毛刷，毛刷分别设置于传送装置的作业平面的上方和下方。

在本公开的较佳实施例中，上述动力装置包括电机和减速机，电机对减速机提供动力，减速机对传送装置提供动力。

在本公开的较佳实施例中，上述传送装置包括传动辊、传输轮和传输带，传动辊设置于机架并且相对于机架可转动，传输轮设置于传动辊的一端，相邻传输轮通过传输带传输动力。

在本公开的较佳实施例中，上述传输轮包括主轮以及与主轮连接的辅轮。

在本公开的较佳实施例中，上述传送装置包括多个传输组件，每个传送组件包括第一传输轮、第二传输轮和第三传输轮，第一传输轮的主轮与第二传输轮的主轮通过传输带传输动力；第二传输轮的辅轮与第三传输轮的辅轮通过传输带传输动力。可以根据需要对传输组件进行组合，灵活性更高。

应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

图1是本公开实施例提供的硅原料清洁设备的立体示意图；

图2是本公开实施例提供的传送装置的局部放大图；

图3是本公开实施例提供的第二清洁装置的局部放大图；

图4是本公开实施例提供的动力装置的局部放大图。

图标：1-动力装置；2-传送装置；3-硅原料；4-第一清洁装置； 5-第二清洁装置；51-第一毛刷；52-第二毛刷；6-传输带；7-轴承； 8-传动辊。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

直拉法生产硅单晶工艺中，机加工后回收的硅原料表面(以下统称“复拉料”)已被污染，残留大量灰尘、金属、油脂等污染物，表面需经过试剂清洗处理后成为拉制单晶的原料，以实现循环利用，达到“料”尽其用、降本增效的目的。现有的试剂清洗工艺为：试剂清洗、人工擦拭和设备浸泡漂洗。

本公开的发明人发现，由于试剂具有一定粘度，故硅料在清洗机中浸泡漂洗前，先由人工对表面残留物进行擦拭，再送入硅料清洗机中反复浸泡漂洗后才能用于拉制单晶，其问题在于：1、人工擦拭复拉料表面，存在不可控的人为因素，导致清洗后的复拉料品质不稳定，且人工成本较高；2、硅料清洗机对复拉料进行浸泡漂洗，为保证漂洗彻底，耗水、耗电、耗时，效率较低并且成本高。

请参照图1至4，本实施例提供一种硅原料清洁设备，包括机架、动力装置1、传送装置2、第一清洁装置4和第二清洁装置5。动力装置1设置于机架，对传送装置2提供动力；传送装置2设置于机架，对硅原料3进行传输；第一清洁装置4设置于机架，对硅原料3进行清洁；第一清洁装置包括储水器和水管，水管分别设置于传送装置的作业平面的上方和下方；

第二清洁装置5对硅原料3进一步清洁。传送装置2对硅原料进行传输，第一清洁装置4和第二清洁装置5对硅原料3进行清洗，第一清洁装置4使用水对传送装置2上的硅原料3进行清洁，第二清洁装5置对硅原料3进一步清洗，清洗的更彻底，从而提升了硅原料的清洗质量和清洁效率。

动力装置1包括电机和减速机。电机驱动减速机，减速机将动力输送到传送装置2。应理解，在其实实施例中，动力装置1包括电机，电机直接驱动传送装置2。在一个示例中，电机是变频电机。

传送装置2包括轴承7、传动辊8、传输轮和传输带6。轴承7设置于机架上，传动辊8的两端分别与轴承7配合，传输轮设置于传动辊8的一端，相邻传输轮之间通过传输带6传输动力。在一个示例中，传输轮是链轮，传输带6是链条，链轮与链条配合传输动力。在本实施例中，轴承7采用陶瓷制成，传动辊8由聚丙烯(Polypropylene，PP)制成，传输带6由PP制成；应理解，轴承7、传动辊8和传输带6可以采用其它材料制成。

传送装置2包括多个传输组件，每个传送组件包括三个传输轮，即第一传输轮、第二传输轮和第三传输轮。每个传输轮包括主轮以及与主轮连接的辅轮，主轮与辅轮同步转动。第一传输轮的主轮与第二传输轮的主轮通过传输带6传输动力；第二传输轮的辅轮与第三传输轮的辅轮通过传输带6传输动力；第三传输轮的主轮与第四传输轮的主轮通过传输带6传输动力。

第一清洁装置4也称为布水装置，第一清洁装置4在传送装置2的作业平面的上方和下方，第一清洁装置4在传送装置2的作业平面的上方和下方呈双向布置。应理解，在其它实施例中，第一清洁装置4设置于传送装置2 的作业平面的上方或下方。第一清洁装置4包括储水器、水管和增压泵。储水器通过增压泵与水管连接以提供高压的清洁水；应理解，储水器可以直接与水管连接。在本实施例中，水管设置于传送装置2的传动辊8的上方和下方，清洁效果更好；应理解，在其它实施例中，水管设置于传送装置2的传动辊8的上方和下方。水管开设有出水孔，出水孔相对于传送装置2的倾斜角度为15至20度。过增压泵提高供水压力，增强水动能所形成的机械冲击力。高压的水流从出水孔流出，对传动辊8上的硅原料3进行清洗，清洗更干净。

在本实施例中，硅原料清洁设备还包括第二清洁装置5，第二清洁装置5 配合第一清洁装置4，清洁效果更好；应理解，硅原料清洁设备可以只包括第一清洁装置4或第二清洁装置5。

第二清洁装置5设置于传送装置2。第二清洁装置5连接到机架、第一清洁装置4或相邻传动辊8之间，在本实施例中，第二清洁装置5安装于第一清洁装置4的间隙或空隙中。第二清洁装置5包括分别设置于传送装置2 的作业平面的上方和下方的毛刷。在本实施例中，第二清洁装置5包括第一毛刷51和第二毛刷52；应理解，在其它实施例中第二清洁装置5包括第一毛刷51或第二毛刷52。第一毛刷51和第二毛刷52分别从不同的角度对硅原料3进行清洁，通过毛刷与硅原料3表面的摩擦将硅原料3的表面脏污刷除，刷掉硅原料3上的异物，提高硅原料3的清洁质量。

硅原料清洁设备还包括第一控制器和第二控制器，第一控制器用于控制动力装置1的启动、停止、正转和反转，第二控制器用于控制布水装置的喷水间隙和喷水时长。

硅原料清洁设备使用方法如下：将试剂清洗后的硅料放入硅原料3清洗设备的传送装置2上，借助高压水动能形成的机械冲击力将附着在硅原料3 表面的残留试剂及其他残留物冲洗，同时通过设置于传动辊8之间的第二清洁装置彻底去除粘着力较大的其他残留物，达到彻底冲洗的目的。布水装置的高压冲洗时间持续10秒以上；高压出水方向倾斜为15至20°(以传送装置2的作业平面为水平面参照)；确保硅料凸出面朝上，不能与传送滚轴接触，避免冲洗掉的水不能及时脱离硅料表面，影响冲洗效果。从而，清洁效果更好，清洁质量更好，清洁效率更高。

本说明书描述了本实用新型的实施例的示例，并不意味着这些实施例说明并描述了本实用新型的所有可能形式。应理解，说明书中的实施例可以多种替代形式实施。附图无需按比例绘制；可放大或缩小一些特征以显示特定部件的细节。公开的具体结构和功能细节不应当作限定解释，仅仅是教导本领域技术人员以多种形式实施本实用新型的代表性基础。本领域内的技术人员应理解，参考任一附图说明和描述的多个特征可以与一个或多个其它附图中说明的特征组合以形成未明确说明或描述的实施例。说明的组合特征提供用于典型应用的代表实施例。然而，与本实用新型的教导一致的特征的多种组合和变型可以根据需要用于特定应用或实施。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (8)

1.一种硅原料清洁设备，其特征在于，包括机架、动力装置、传送装置、第一清洁装置和第二清洁装置；

所述动力装置、传送装置、第一清洁装置和第二清洁装置分别设置在所述机架上；

所述动力装置用于对所述传送装置提供动力；

所述传送装置用于传送硅原料；

所述第一清洁装置和所述第二清洁装置用于清洁所述硅原料；

所述第一清洁装置包括储水器和水管，所述水管分别设置于所述传送装置的作业平面的上方和下方。

2.根据权利要求1所述的硅原料清洁设备，其特征在于，所述水管开设有出水孔，所述出水孔相对于所述传送装置的作业平面倾斜15至20度。

3.根据权利要求1所述的硅原料清洁设备，其特征在于，所述第一清洁装置还包括增压泵，所述储水器通过所述增压泵与所述水管连接。

4.根据权利要求1所述的硅原料清洁设备，其特征在于，所述第二清洁装置包括毛刷，所述毛刷分别设置于所述传送装置的所述作业平面的上方和下方。

5.根据权利要求1所述的硅原料清洁设备，其特征在于，所述动力装置包括电机和减速机，所述电机对所述减速机提供动力，所述减速机对所述传送装置提供动力。

6.根据权利要求5所述的硅原料清洁设备，其特征在于，所述传送装置包括传动辊、传输轮和传输带，所述传动辊设置于所述机架并且相对于所述机架可转动，所述传输轮设置于所述传动辊的一端，相邻所述传输轮通过所述传输带传输动力。

7.根据权利要求6所述的硅原料清洁设备，其特征在于，所述传输轮包括主轮以及与所述主轮连接的辅轮。

8.根据权利要求7所述的硅原料清洁设备，其特征在于，所述传送装置包括多个传输组件，每个所述组件包括第一传输轮、第二传输轮和第三传输轮，所述第一传输轮的所述主轮与所述第二传输轮的所述主轮通过所述传输带传输动力；所述第二传输轮的所述辅轮与所述第三传输轮的所述辅轮通过所述传输带传输动力。