CN209785406U - 纳米微雕技术镭射防伪标志结构体及其首饰 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体及其首饰，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。该防伪标志结构体具有若干个用于反射镭射激光的点状体，其中若干个点状体能够以点成线、以线成面的方式形成特定图形，并以反射的方式展示在显示面上，达到防伪目的。
Description
技术领域
本实用新型涉及防伪印刷装饰材料领域，特别涉及一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体及其首饰。
背景技术
随着经济的发展，广大群众对于微雕产品的热爱愈发强烈。在当前市场中，存在许多微雕结构，微雕结构通常包括许多图形、图案、文字或色彩，在进行人为辨识观测时能够获得与众不同的视觉效果。此外，对于当前市场环境下的首饰，市面上假冒伪劣产品越来越多，商家的声誉和利益都受到极大的损害，因此商家对包装防伪性能的要求越来越高，尽可能做到别人无法仿造的程度。具有较强视觉冲击性且难于仿造的包装防伪功能受到商家的青睐。
镭射全息防伪标识具有较强的视觉冲击性和趣味性，并且其制作过程和精度要求较高，一般设备及技术无法仿造，因此受到各行各业的一致认可，在烟标、酒盒、化妆品盒、牙膏盒、不干胶、软包装等包装印刷产品上都有较多应用。然而，镭射全息防伪目前更多倾向于纸质包装的应用，在首饰领域的应用还具有一定的局限性，对当前的企业商标品牌尚未达到真正的防伪要求。
鉴于此，迫切需要一种结合纳米微雕技术与镭射防伪技术结合的防伪结构，使其能够应用于大多数首饰，并且在镭射激光照射下能够达到显示图形的目的，同时实现了防伪验证。
公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本实用新型的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。
针对上述现象，本实用新型提出了一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体及其首饰，应用于首饰配件，包括但不限于使用镶嵌、爪镶、包镶等技术运用，旨在解决上述存在的问题，致力于装饰配件行业的发展，保护企业的品牌商标权利。
实用新型内容
为了满足上述要求，本实用新型的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，目的在于提出一种结构，能够应用于首饰配件，包括但不限于使用镶嵌、爪镶、包镶等技术运用，实现防伪效果。
本实用新型的第二个目的在于提供一种包括纳米微雕技术镭射防伪标志结构体首饰。
为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。
进一步技术方案为，所述点状体的高度为0.001-0.100mm，所述点状体的上端均处于一个平面或曲面。
进一步技术方案为，所述安装面设有胶水或粘性物质，用于安装于首饰结构上。
进一步技术方案为，所述安装面设有安装结构，所述的安装结构采用卡槽或燕尾槽，用于与首饰结构连接；或，所述标志结构体与首饰结构固定连接。
进一步技术方案为，所述点状体上端设有保护层，用于保护点状体不会脱落衰减。
本实用新型还公开了一种首饰，包括如上述任一项所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体。
相比于现有技术，本实用新型的有益效果在于：该防伪标志结构体具有若干个用于反射镭射激光的点状体，其中若干个点状体能够以点成线、以线成面的方式形成特定图形，并以反射的方式展示在显示面上，达到防伪目的。同时，包含防伪标志结构体的首饰因为镭射防伪功能实现了较强视觉冲击效果，加工简单。此外，由于防伪标志结构体具备保护层，实现了微雕内容不可剔除，真正做到一物一码稳定性，不会产生产品褪色，脱落等情况，能够减少商标防伪衰减情况，该技术真正保证了防伪功能的持久性和唯一性。
下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步描述。
附图说明
图1是本实用新型一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体具体实施例结构示意图；
图2是图1实施例结构后视图(反面)示意图；
图3是图1实施例使用镭射激光笔验证防伪标志结构体防伪效果产生投射立体结构的示意图。
附图标记
1 标志结构体 2 装饰面
3 防伪层 4 点状体
5 安装面 6 安装结构
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明。
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
如图1以及图2所示的结构，为本实用新型一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，包括具有防伪层3的标志结构体1；所述标志结构体1设有一个装饰面2，以及用于安装与首饰结构的安装面5，其中安装面5位于标志结构体另一端或其他面，所述标志结构体1包括但不限于柱体、条状体、快状体、管状体等；所述装饰面2用于设置图形文字画像，所述防伪层3设置于装饰面2上；所述防伪层3包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体4，所述点状体4连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。
如图3所示的实施例中，当所述防伪层被镭射激光照射时，图中侧面展示的芯片为标志结构体，所述防伪层朝向白纸与镭射激光笔方向，所述防伪层可在显示面反射出防伪信息(即图中的投射立体结构，可以展示为图形或画像或字体)，其中，所述显示面为白纸(仅作为示例，亦可应用于其他显示面)，使用镭射激光笔进行防伪验证。
如图3所示的实施例中，图中侧面展示的芯片为标志结构体，所述防伪层朝向白纸与镭射激光笔方向，当镭射激光笔的射线方向与标志结构体(芯片)成30-45°夹角时观测效果最佳，能够在投射出的立体结构上清晰地看出上述防伪图档数据中预设的字体或画像，增强防伪效果。
优选地，所述点状体4的高度为0.001-0.100mm，所述点状体4的上端均处于一个平面或曲面。
其中，所述点状体4的最佳高度为0.005mm。
如图1以及图2所示的实施例中，所述安装面5设有胶水或粘性物质，用于安装于首饰结构上。
如图2所示的实施例中，所述安装面5设有安装结构6，所述的安装结构6采用卡槽或燕尾槽，用于与首饰结构连接；
或，所述标志结构体1与首饰结构固定连接，即采用螺栓连接或焊接或铆接。所述首饰结构与标志结构体均设有用于固定连接的孔，采用螺栓或铆钉或焊接等方式使标志结构体1与首饰结构连接。
优选地，所述点状体4上端设有保护层，用于保护点状体4不会脱落衰减。其中，所述保护层可采用但不限于非金属保护层和金属保护层两大类，在点状体4表面覆盖各种保护层，把被保护金属与腐蚀性介质隔开，是防止金属腐蚀的有效方法。它们是用化学方法，物理方法和电化学方法实现的。
如图3所示的实施例中，当镭射激光笔的射线方向与标志结构体成30-45°夹角时观测效果最佳，能够在投射出的立体结构上清晰地看出上述防伪图档数据中预设的字体或画像，增强防伪效果。
本实用新型还公开了一种首饰，包括如上述任一项所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体。
综上所述，本实用新型的防伪标志结构体具有若干个用于反射镭射激光的点状体，其中若干个点状体能够以点成线、以线成面的方式形成特定图形，并以反射的方式展示在显示面上，达到防伪目的。同时，包含防伪标志结构体的首饰因为镭射防伪功能实现了较强视觉冲击效果，加工简单。此外，由于防伪标志结构体具备保护层，实现了微雕内容不可剔除，真正做到一物一码稳定性，不会产生产品褪色，脱落等情况，能够减少商标防伪衰减情况，该技术真正保证了防伪功能的持久性和唯一性。
在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不应理解为必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例进行接合和组合。
对本领域的技术人员来说，可根据以上描述的技术方案以及构思，做出其他各种相应的改变以及形变，而所有的这些改变以及形变应该属于本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，包括具有防伪层的标志结构体；所述标志结构体设有一个装饰面，以及用于安装与首饰结构的安装面；所述装饰面用于设置图形文字画像，所述防伪层设置于装饰面上；所述防伪层包括以纳米微雕技术制成并规则分布的若干个点状体，所述点状体连线形成特殊的文字、图形或画像，用于反射光线并在浅色显示面形成所述点状体连线形成的文字、图形或画像。
2.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述点状体的高度为0.001-0.100mm，所述点状体的上端均处于一个平面或曲面。
3.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述安装面设有粘性物质，用于安装于首饰结构上。
4.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述安装面设有安装结构，所述的安装结构采用卡槽或燕尾槽，用于与首饰结构连接；或，所述标志结构体与首饰结构固定连接。
5.根据权利要求1所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体，其特征在于，所述点状体上端设有保护层，用于保护点状体不会脱落衰减。
6.一种首饰，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的一种纳米微雕技术镭射防伪标志结构体。
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