CN209768115U - 抗干扰电磁屏蔽膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种抗干扰电磁屏蔽膜，其包括按照从上至下的顺序依次贴合的第一氧化铁层、第一金属镍层、第一金属铜层、第二金属镍层、第一不锈钢层、涤沦层、第二不锈钢层、第三金属镍层、第二金属铜层、第四金属镍层和第二氧化铁层；合理在涤沦层的两表面上进行电镀形成具有良好致密性的第一、第二不锈钢层和第一、第二、第三、第四金属镍层以及第一、第二金属铜层与第一、第二氧化铁层，不锈钢层能提升结合力，机械性能好，金属铜层和金属镍层相覆合，导电效果好，更能提升屏蔽性能，抗干扰能力强，氧化铁层具有较好的电磁波吸收效果，进一步提升屏蔽效果，另外综合性能好，具有优异的机械性能、结构稳定性、耐辐射性和柔韧性。
Description
技术领域
本实用新型涉及屏蔽膜技术领域，特别涉及一种抗干扰电磁屏蔽膜。
背景技术
公开号“107072130A”，名称为“一种电磁屏蔽膜”的中国发明专利申请公开了一种电磁屏蔽膜，所述电磁屏蔽膜包括依次连接的载体膜层、绝缘层、第一导电胶层、金属层、第二导电胶层和离型膜层，其中所述第一导电胶层含有铝粉和/或镁粉，所述第二导电胶层含有镍粉和/或钴粉。其虽然能实现较好的电磁屏蔽效果，但是在机械性能、结构稳定性及吸收电磁波性上仍有提升空间。
实用新型内容
针对上述不足，本实用新型目的在于提供一种结构设计巧妙、合理，屏蔽效果佳，且机械性能好、结构稳定性高的抗干扰电磁屏蔽膜。
本实用新型为实现上述目的，所提供的技术方案是：一种抗干扰电磁屏蔽膜，其包括第一氧化铁层、第二氧化铁层、第一金属镍层、第二金属镍层、第三金属镍层、第四金属镍层、第一金属铜层、第二金属铜层、第一不锈钢层、第二不锈钢层和涤沦层，第一氧化铁层、第一金属镍层、第一金属铜层、第二金属镍层、第一不锈钢层、涤沦层、第二不锈钢层、第三金属镍层、第二金属铜层、第四金属镍层和第二氧化铁层按照从上至下的顺序依次贴合。
作为本实用新型的一种改进，所述第一氧化铁层和第二氧化铁层的厚度均为3～5微米。
作为本实用新型的一种改进，所述第一金属镍层、第二金属镍层、第三金属镍层和第四金属镍层的厚度均为3～5微米。
作为本实用新型的一种改进，所述第一金属铜层和第二金属铜层的厚度均为5～7微米。
作为本实用新型的一种改进，所述第一不锈钢层、第二不锈钢层的厚度均为5～7微米。
作为本实用新型的一种改进，所述涤沦层的厚度为0.012～0.3毫米。
本实用新型的有益效果为：本实用新型结构设计巧妙，合理在涤沦层的两表面上进行电镀形成具有良好致密性的第一、第二不锈钢层和第一、第二、第三、第四金属镍层以及第一、第二金属铜层与第一、第二氧化铁层，不锈钢层能提升结合力，机械性能好，金属铜层和金属镍层相覆合，导电效果好，更能提升屏蔽性能，抗干扰能力强，氧化铁层具有较好的电磁波吸收效果，进一步提升屏蔽效果，另外综合性能好，具有优异的机械性能、结构稳定性、耐辐射性和柔韧性，利于广泛推广应用。
附图说明
图1是本实用新型的截面结构示意图。
具体实施方式
实施例：参见图1，本实用新型实施例提供一种抗干扰电磁屏蔽膜，其包括第一氧化铁层1、第二氧化铁层2、第一金属镍层3、第二金属镍层4、第三金属镍层5、第四金属镍层6、第一金属铜层7、第二金属铜层8、第一不锈钢层9、第二不锈钢层10和涤沦层11。较佳的，所述第一氧化铁层1和第二氧化铁层2的厚度均为3～5微米，优选为4微米。所述第一金属镍层3、第二金属镍层4、第三金属镍层5和第四金属镍层6的厚度均为3～5微米，优选为4微米。所述第一金属铜层7和第二金属铜层8的厚度均为5～7微米，优选为4微米。所述第一不锈钢层9、第二不锈钢层10的厚度均为5～7微米，优选为4微米。所述涤沦层11的厚度为0.012～0.3毫米，优选为4微米。
所述第一氧化铁层1、第一金属镍层3、第一金属铜层7、第二金属镍层4、第一不锈钢层9、涤沦层11、第二不锈钢层10、第三金属镍层5、第二金属铜层8、第四金属镍层6和第二氧化铁层2按照从上至下的顺序依次贴合。较佳的，还在第一氧化铁层1和第二氧化铁层2的外表面上涂覆有纳米涂层，具有防水、防油和防氧化功能，有效延长使用寿命。
在涤沦层11的上、下表面经电镀相应形成第一不锈钢层9和第二不锈钢层10，能提升结合力，机械性能好，结构稳定性高、不易分层。第一金属镍层3、第一金属铜层7和第二金属镍层4形成上具有导电功能的上屏蔽复合层，第三金属镍层5、第二金属铜层8和第四金属镍层6形成上具有导电功能的下屏蔽复合层，通过上屏蔽复合层和下屏蔽复合层来大大提升屏蔽性能，抗干扰能力强。上、下表面采用第一氧化铁层1和第二氧化铁层2进行覆盖，具有较好的电磁波吸收功能，能吸收在使用过程中产生的磁性，防止磁性对产生影响，进一步提升屏蔽性能，耐辐射性，而且柔韧性高，综合性能好。
根据上述说明书的揭示和教导，本实用新型所属领域的技术人员还可以对上述实施方式进行变更和修改。因此，本实用新型并不局限于上面揭示和描述的具体实施方式，对本实用新型的一些修改和变更也应当落入本实用新型的权利要求的保护范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本实用新型构成任何限制，采用与其相同或相似的其它膜体，均在本实用新型保护范围内。
Claims (6)
1.一种抗干扰电磁屏蔽膜，其特征在于，其包括第一氧化铁层、第二氧化铁层、第一金属镍层、第二金属镍层、第三金属镍层、第四金属镍层、第一金属铜层、第二金属铜层、第一不锈钢层、第二不锈钢层和涤沦层，第一氧化铁层、第一金属镍层、第一金属铜层、第二金属镍层、第一不锈钢层、涤沦层、第二不锈钢层、第三金属镍层、第二金属铜层、第四金属镍层和第二氧化铁层按照从上至下的顺序依次贴合。
2.根据权利要求1所述的抗干扰电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第一氧化铁层和第二氧化铁层的厚度均为3～5微米。
3.根据权利要求1所述的抗干扰电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第一金属镍层、第二金属镍层、第三金属镍层和第四金属镍层的厚度均为3～5微米。
4.根据权利要求1所述的抗干扰电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第一金属铜层和第二金属铜层的厚度均为5～7微米。
5.根据权利要求1所述的抗干扰电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第一不锈钢层、第二不锈钢层的厚度均为5～7微米。
6.根据权利要求1-5中任意一项所述的抗干扰电磁屏蔽膜，其特征在于，所述涤沦层的厚度为0.012～0.3毫米。
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