CN209722284U - 一种改善连续生产线镀膜温度的装置和真空镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种改善连续生产线镀膜温度的装置和真空镀膜设备,该改善连续生产线镀膜温度的装置安装于放置有镀膜基片的镀膜室中,包括冷水板、冷水组件以及隔热屏;以面向所述镀膜基片的板面为正面方向,所述冷水板具有相对设置的正板面以及背板面;所述冷水组件包括间隔叠设于所述冷水板正板面的基板、以及安装于所述基板上的冷水管,所述冷水管具有连通冷却水的入水端和供所述冷却水流出的出水端,出水端和入水端穿过冷水板的边缘而与镀膜室的内壁可拆卸连接;所述隔热屏间隔叠设于所述冷水组件上,且所述隔热屏上放置有所述镀膜基片。本实用新型的技术方案可提高对镀膜基片的冷却效果,且结构简单、拆卸方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,特别涉及一种改善连续生产线镀膜温度的装置和真空镀膜设备。
背景技术
目前,随着各类柔性产品及高端显示产品的广泛推出,对于镀膜过程中基片表面的温度控制要求越来越高,由于柔性基片通常不耐高温,或者有些镀膜产品的基片本身虽然可以耐高温,但是,由于在制程中涉及到很多道镀膜工序,当前一道工序的材料不耐高温时,就会导致后续的镀膜工序也必须在低温下完成,因此,在这些镀膜过程中就必须采用低温镀膜方式,即在生产线中必须合理设计水冷机构,以便能够及时降低基材表面的温度,有效的保证溅射镀膜的成膜效果,从而满足更低温度要求的镀膜工艺。然而,由于目前同类连续镀膜生产线中的冷却装置多为整体冷却方式,故具有结构不方便拆卸,对基材的冷却效果不够的缺点,无法进一步满足现实中越来越多的需要进行低温镀膜的产品生产需求。
实用新型内容
本实用新型的主要目的是提供一种改善连续生产线镀膜温度的装置,旨在提高对镀膜基片的冷却效果,且结构简单、拆卸方便。
为实现上述目的,本实用新型提出的改善连续生产线镀膜温度的装置,该改善连续生产线镀膜温度的装置安装于放置有镀膜基片的镀膜室中,包括冷水板、冷水组件以及隔热屏;以面向所述镀膜基片的板面为正面方向,所述冷水板具有相对设置的正板面以及背板面;所述冷水组件包括间隔叠设于所述冷水板正板面的基板、以及安装于所述基板上的冷水管,所述冷水管具有连通冷却水的入水端和供所述冷却水流出的出水端,所述出水端和所述入水端穿过所述冷水板的边缘而与所述镀膜室的内壁可拆卸连接;所述隔热屏间隔叠设于所述冷水组件上,且所述隔热屏上放置有所述镀膜基片。
可选地,所述冷水板包括多层分板,多层所述分板之间呈间隔式层叠设置。
可选地,两相邻的所述分板之间夹设有绝缘固定件。
可选地,所述绝缘固定件为绝缘陶瓷座。
可选地,所述冷水管在所述基板上呈迂回弯折设置。
可选地,所述改善连续生产线镀膜温度的装置还包括连接法兰,所述冷水管的出水端穿设过所述连接法兰,所述连接法兰与所述镀膜室的箱体之间通过螺钉固定连接。
可选地,所述连接法兰上设有供所述冷水管的出水端穿过的穿设孔,所述冷水管的外周面与所述穿设孔的内壁面之间的缝隙通过焊接密封。
可选地,所述连接法兰与所述镀膜室的箱体之间夹设有密封圈。
可选地,所述改善连续生产线镀膜温度的装置由不锈钢材料制成。
本实用新型还提出一种真空镀膜设备,包括改善连续生产线镀膜温度的装置,该改善连续生产线镀膜温度的装置安装于放置有镀膜基片的镀膜室中,包括冷水板、冷水组件以及隔热屏;以面向所述镀膜基片的板面为正面方向,所述冷水板具有相对设置的正板面以及背板面;所述冷水组件包括间隔叠设于所述冷水板正板面的基板、以及安装于所述基板上的冷水管,所述冷水管具有连通冷却水的入水端和供所述冷却水流出的出水端,所述出水端和所述入水端穿过所述冷水板的边缘而与所述镀膜室的内壁可拆卸连接;所述隔热屏间隔叠设于所述冷水组件上,且所述隔热屏上放置有所述镀膜基片。
本实用新型的技术方案中,由于在镀膜室中设有片状式的冷水板、冷水组件以及隔热屏,且冷水组件的基板上安装有冷水管,故相较于目前常见的整体式冷却方式,本装置具有结构紧密、受热面大、冷却效果好等优点,这样,通过本装置就能及时降低镀膜基片表面的温度,实现对镀膜过程中的镀膜基片的温升控制,有效保证低温镀膜环境和溅射镀膜的成膜效果,从而满足低温镀膜工艺的要求。而且,在本实用新型的技术方案中,由于本改善连续生产线镀膜温度的装置与镀膜室的箱体内壁之间为可拆卸连接,故本装置除了冷却效果好的优点之外,还具有结构简单、拆卸方便等优点,从而可以实现对溅射沉积物进行定期处理,有利于真空镀膜设备的定期更换维护。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
图1为本实用新型改善连续生产线镀膜温度的装置一实施例的前视图;
图2为图1中的改善连续生产线镀膜温度的装置的爆炸图;
图3为图2中A处的放大示意图;
图4为图1中改善连续生产线镀膜温度的装置的俯视图;
图5为图4中B处的放大示意图;
图6为图1中改善连续生产线镀膜温度的装置的左视图;
图7为图6中C处的放大示意图。
附图标号说明:
标号 | 名称 | 标号 | 名称 |
1 | 冷水板 | 11 | 分板 |
12 | 绝缘固定件 | 2 | 冷水组件 |
3 | 隔热屏 | 21 | 基板 |
22 | 冷水管 | 221 | 入水端 |
222 | 出水端 | 4 | 连接法兰 |
41 | 螺钉 | 111 | 让位凹槽 |
42 | 密封圈 |
本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
需要说明,若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……),则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等,如果该特定姿态发生改变时,则该方向性指示也相应地随之改变。
另外,若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述,则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外,各个实施例之间的技术方案可以相互结合,但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础,当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在,也不在本实用新型要求的保护范围之内。
本实用新型提出一种改善连续生产线镀膜温度的装置。
参照图1至图3,在本实用新型一实施例中,该改善连续生产线镀膜温度的装置安装于放置有镀膜基片(未图示)的镀膜室(未图示)中,包括冷水板1、冷水组件2以及隔热屏3;以面向镀膜基片的板面为正面方向,冷水板1具有相对设置的正板面以及背板面;冷水组件2包括间隔叠设于冷水板1正板面的基板21、以及安装于基板21上的冷水管22,冷水管22具有连通冷却水的入水端221和供冷却水流出的出水端222,出水端222和入水端221穿过冷水板1的边缘而与镀膜室的内壁可拆卸连接;隔热屏3间隔叠设于冷水组件2上,且隔热屏3上放置有镀膜基片。
在此需说明的是,在本镀膜生产线上,真空镀膜设备具有抽成一定真空度的镀膜室,该镀膜室中设有溅射靶(未图示)和镀膜基片,镀膜基片放置于隔热屏3上,溅射靶位于镀膜基片对面以方便在镀膜基片上溅射镀膜。目前,很多产品的镀膜过程必须采用低温镀膜方式,然而,由于目前同类连续镀膜生产线中的冷却装置多为整体冷却方式,故具有结构不方便拆卸,对基材的冷却效果不够的缺点,无法进一步满足现实中越来越多的需要进行低温镀膜的产品生产需求。
在本实施例中,由于在镀膜室中设有片状式的冷水板1、冷水组件2以及隔热屏3,且冷水组件2的基板21上安装有冷水管22,故相较于目前常见的整体式冷却方式,本装置具有结构紧密、受热面大、冷却效果好等优点,这样,通过本装置就能及时降低镀膜基片表面的温度,实现对镀膜过程中的镀膜基片的温升控制,有效保证低温镀膜环境和溅射镀膜的成膜效果,从而满足低温镀膜工艺的要求。而且,在本实用新型的技术方案中,由于本改善连续生产线镀膜温度的装置与镀膜室的箱体内壁之间为可拆卸连接,故本装置除了冷却效果好的优点之外,还具有结构简单、拆卸方便等优点,从而可以实现对溅射沉积物进行定期处理,有利于真空镀膜设备的定期更换维护。
进一步地,参照图4至图7,在本实施例中,冷水板1包括多层分板11,多层分板11之间呈间隔式层叠设置。具体地,两相邻的分板11之间夹设有绝缘固定件12。可以理解,此设置可增加散热板面,且通过绝缘固定件12将多层分板11分隔固定,还可以保证散热空间。在此,绝缘固定件12优选为绝缘陶瓷座,螺栓可依次穿设各个分板11以及夹设于两分板11之间的绝缘陶瓷座而将多层分板11固定连接成一整体。当然,于其他实施例中,绝缘固定件12还可以是其他较硬的绝缘块状物,例如但不限于塑胶块等。此外,在本实施例中,本改善连续生产线镀膜温度的装置由多块冷水板1、冷水组件2以及隔热屏3拼接而成。各个板块之间可使用连接件连接,而冷水板1、冷水组件2以及隔热屏3在层叠方向上也通过连接件固定连接,而这些连接件例如但不限于是内六角圆柱头螺钉及平垫圈等。
在本实施例中,改善连续生产线镀膜温度的装置优选由耐腐蚀性能好的不锈钢材料制成。特别地,材料可进一步优选为304不锈钢,从而可保证装置经久耐用。然本设计不限于此,在本实用新型的技术方案中,由于金属的热传导效率高,故还可以选择符合工艺要求的其他种类的金属材料。
参照图2和图3,在本实施例中,具体地,冷水管22在基板21上呈迂回弯折设置。在实际生产过程中,冷却水从入水端221流入冷水管22,并在弯弯曲曲的管体中一边流动,一边实现热交换使得冷水板1和隔热屏3的温度降低而冷却水的温度升高,最后,升温后的冷却水通过出水端222再流入外部管道,这样,就可以实现对本装置以及镀膜基片的降温或温度控制。可以理解,当冷水管22呈迂回弯折设置时,大大增加有效散热面积,进而提高散热效率和散热均匀性,达到快速高效的冷却效果,确保镀膜基片对于温度的要求得以实现。
进一步地,参照图3、图5和图7,在本实施例中,改善连续生产线镀膜温度的装置还包括连接法兰4,冷水管22的入水端221和出水端222均穿设过连接法兰4,连接法兰4与镀膜室的箱体之间通过螺钉41固定连接。具体地,连接法兰4上设有供冷水管22穿过的穿设孔(未标示),在冷水板1的上边缘凹设有可供冷水管22的入水端221和出水端222容置的让位凹槽111;冷水管22的外周面与穿设孔的内壁面之间的缝隙通过焊接密封,且进一步地,连接法兰4与镀膜室的箱体之间夹设有呈O型设置的密封圈42。这样,在本实施例的技术方案中,通过冷水管22与镀膜室的箱体之间采用水管穿设连接法兰4并焊接缝隙,同时,连接法兰4与镀膜室的箱体螺钉41固定,且中间夹设有密封圈42来增强密封的方式,使得改善连续生产线镀膜温度的装置具有结构简单、密闭性好能保证镀膜室真空工作环境、装拆方便等优点。
本实用新型还提出一种真空镀膜设备,该真空镀膜设备包括改善连续生产线镀膜温度的装置,该改善连续生产线镀膜温度的装置的具体结构参照上述实施例,由于本真空镀膜设备采用了上述所有实施例的全部技术方案,因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果,在此不再一一赘述。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是在本实用新型的发明构思下,利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种改善连续生产线镀膜温度的装置,安装于放置有镀膜基片的镀膜室中,其特征在于,包括:
冷水板,以面向所述镀膜基片的板面为正面方向,所述冷水板具有相对设置的正板面以及背板面;
冷水组件,所述冷水组件包括间隔叠设于所述冷水板正板面的基板、以及安装于所述基板上的冷水管,所述冷水管具有连通冷却水的入水端和供所述冷却水流出的出水端,所述出水端和所述入水端穿过所述冷水板的边缘而与所述镀膜室的内壁可拆卸连接;以及,
隔热屏,所述隔热屏间隔叠设于所述冷水组件上,且所述隔热屏上放置有所述镀膜基片。
2.如权利要求1所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,所述冷水板包括多层分板,多层所述分板之间呈间隔式层叠设置。
3.如权利要求2所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,两相邻的所述分板之间夹设有绝缘固定件。
4.如权利要求3所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,所述绝缘固定件为绝缘陶瓷座。
5.如权利要求2所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,所述冷水管在所述基板上呈迂回弯折设置。
6.如权利要求5所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,所述改善连续生产线镀膜温度的装置还包括连接法兰,所述冷水管的入水端和出水端穿设过所述连接法兰,所述连接法兰与所述镀膜室的箱体之间通过螺钉固定连接。
7.如权利要求6所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,所述连接法兰上设有供所述冷水管穿过的穿设孔,所述冷水管的外周面与所述穿设孔的内壁面之间的缝隙通过焊接密封。
8.如权利要求6所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,所述连接法兰与所述镀膜室的箱体之间夹设有密封圈。
9.如权利要求1至8任一项所述的改善连续生产线镀膜温度的装置,其特征在于,所述改善连续生产线镀膜温度的装置由不锈钢材料制成。
10.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括如权利要求1至9任意一项所述的改善连续生产线镀膜温度的装置。
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CN201822244617.4U CN209722284U (zh) | 2018-12-28 | 2018-12-28 | 一种改善连续生产线镀膜温度的装置和真空镀膜设备 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111850501A (zh) * | 2020-07-20 | 2020-10-30 | 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 | 一种基片架结构及真空蒸镀装置 |
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- 2018-12-28 CN CN201822244617.4U patent/CN209722284U/zh active Active
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