CN209715818U - 多晶硅料清洗加液装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了多晶硅料清洗加液装置，包括液压泵和喷头，所述液压泵的下方连接有液压杆，且液压杆的下端口固定安装有硅体槽，所述硅体槽的内部安装有多晶硅，且硅体槽的左右两侧均滑动连接有顶盖，所述顶盖的下端口固定安装有底槽，且底槽的左侧设置有旋转电机，且底槽的右侧安装有清洁辊，所述喷头安装于清洁辊的左右两侧，且喷头的外侧连接有水泵，所述水泵的下方连接有耐腐蚀水管，所述底槽的下底面安装有过滤网，所述旋转电机的下方固定安装有工作台，且工作台的内部活动连接有滚珠丝杆，所述滚珠丝杆的前方安装有伺服电机。该多晶硅料清洗加液装置的主要特点是实现多晶硅的自动化清洁，且可多次利用酸性清洁液，减少经济支出。

Description

多晶硅料清洗加液装置

技术领域

本实用新型涉及多晶硅技术领域，具体为多晶硅料清洗加液装置。

背景技术

多晶硅，是单质硅的一种形态。熔融的单质硅在过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则这些晶粒结合起来，就结晶成多晶硅，多晶硅常用在太阳能板上，对于多晶硅的清洗，需要对多晶硅的表面使用酸性的混合容易进行冲洗。

传统的多晶硅的清洗仅仅使用酸性混合物进行表面的冲洗，这样清洗的效果较差，很多粘贴在多晶硅表面的杂物无法清除，且为了清洗方便需要将多晶硅的外壳拆卸，增加了清洁的操作，使得清洁极其不便，并且使用的酸性清洗液使用后堆积在储液槽内，不能及时进行二次利用，占用过多的资源，为此我们提出多晶硅料清洗加液装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供多晶硅料清洗加液装置，以解决上述背景技术中提出的传统的多晶硅的清洗仅仅使用酸性混合物进行表面的冲洗，这样清洗的效果较差，很多粘贴在多晶硅表面的杂物无法清除，且为了清洗方便需要将多晶硅的外壳拆卸，增加了清洁的操作，使得清洁极其不便，并且使用的酸性清洗液使用后堆积在储液槽内，不能及时进行二次利用，占用过多的资源等问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：多晶硅料清洗加液装置，包括液压泵和喷头，所述液压泵的下方连接有液压杆，且液压杆的下端口固定安装有硅体槽，所述硅体槽的内部安装有多晶硅，且硅体槽的左右两侧均滑动连接有顶盖，所述顶盖的下端口固定安装有底槽，且底槽的左侧设置有旋转电机，且底槽的右侧安装有清洁辊，所述清洁辊的内部安装有旋转辊，所述喷头安装于清洁辊的左右两侧，且喷头的外侧连接有水泵，所述水泵的下方连接有耐腐蚀水管，所述底槽的下底面安装有过滤网，所述旋转电机的下方固定安装有工作台，且工作台的内部活动连接有滚珠丝杆，所述滚珠丝杆的前方安装有伺服电机。

优选的，所述液压杆通过液压泵与硅体槽之间构成伸缩结构，且液压泵与顶盖之间的连接方式为固定连接。

优选的，所述硅体槽与顶盖的内表面之间的连接方式为滑动连接，且硅体槽与多晶硅之间构成半包围结构。

优选的，所述旋转辊通过旋转电机与清洁辊之间构成转动结构，且清洁辊与旋转辊的外表面之间连接方式为固定连接，且清洁辊等距分布设置有4组。

优选的，所述喷头与清洁辊位于同一水平方向上，且喷头关于清洁辊的竖直中心线对称分布设置有2组。

优选的，所述耐腐蚀水管与过滤网之间构成连通结构，且过滤网贯穿于底槽的下底面。

优选的，所述旋转电机与工作台之间的连接方式为固定连接，且工作台通过滚珠丝杆与伺服电机之间构成转动结构，并且伺服电机与底槽的外表面之间的连接方式为固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1.设置的液压杆的目的是在液压泵的带动下实现多晶硅的自动化下降至清洁位置，代替人力的使用，且避免了酸性物质对人体的伤害，设置的硅体槽可以将多晶硅的背面进行包裹，减少了拆卸多晶硅外层的操作，使得清洁的效率大大提高，并且可以有效的避免酸性物质腐蚀多晶硅背部设备。

2.设置的清洁辊的目的是在旋转电机的带动下可实现自动化的清洁多晶硅的表面，相较于传统的冲洗，可以将表面覆盖的灰尘和杂物等擦除，清洁效率大大提高，设置的喷头用于为清洁辊提供酸性清洗液，清洁多晶硅的同时极大的降低了酸性清洗液的使用，减少的经济支出。

3.设置的过滤网的目的是可以将酸性清洗液与杂物进行过滤，进而实现酸性清洗液的多次利用，减少了资源的浪费，进一步减少经济支出，设置的滚珠丝杆的目的是在伺服电机的带动下可以使得清洁辊进行左右的移动，使得多晶硅被清洁的范围更广，增加该装置的清洗效率和质量。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型清洁辊处侧视结构示意图；

图3为本实用新型多晶硅处侧视结构示意图。

图中：1、液压泵；2、液压杆；3、硅体槽；4、多晶硅；5、顶盖；6、底槽；7、旋转电机；8、旋转辊；9、清洁辊；10、喷头；11、水泵；12、耐腐蚀水管；13、过滤网；14、工作台；15、伺服电机；16、滚珠丝杆。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：多晶硅料清洗加液装置，包括液压泵1和喷头10，液压泵1的下方连接有液压杆2，且液压杆2的下端口固定安装有硅体槽3，硅体槽3的内部安装有多晶硅4，且硅体槽3的左右两侧均滑动连接有顶盖5，顶盖5的下端口固定安装有底槽6，且底槽6的左侧设置有旋转电机7，且底槽6的右侧安装有清洁辊9，清洁辊9的内部安装有旋转辊8，喷头10安装于清洁辊9的左右两侧，且喷头10的外侧连接有水泵11，水泵11的下方连接有耐腐蚀水管12，底槽6的下底面安装有过滤网13，旋转电机7的下方固定安装有工作台14，且工作台14的内部活动连接有滚珠丝杆16，滚珠丝杆16的前方安装有伺服电机15，液压杆2通过液压泵1与硅体槽3之间构成伸缩结构，且液压泵1与顶盖5之间的连接方式为固定连接，其作用是设置的液压杆2的目的是在液压泵1的带动下实现多晶硅4的自动化下降至清洁位置，代替人力的使用，且避免了酸性物质对人体的伤害，硅体槽3与顶盖5的内表面之间的连接方式为滑动连接，且硅体槽3与多晶硅4之间构成半包围结构，其作用是设置的硅体槽3可以将多晶硅4的背面进行包裹，减少了拆卸多晶硅4外层的操作，使得清洁的效率大大提高，并且可以有效的避免酸性物质腐蚀多晶硅4背部设备，旋转辊8通过旋转电机7与清洁辊9之间构成转动结构，且清洁辊9与旋转辊8的外表面之间连接方式为固定连接，且清洁辊9等距分布设置有4组，其作用是设置的清洁辊9的目的是在旋转电机7的带动下可实现自动化的清洁多晶硅4的表面，相较于传统的冲洗，可以将表面覆盖的灰尘和杂物等擦除，清洁效率大大提高，喷头10与清洁辊9位于同一水平方向上，且喷头10关于清洁辊9的竖直中心线对称分布设置有2组，其作用是设置的喷头10用于为清洁辊9提供酸性清洗液，清洁多晶硅4的同时极大的降低了酸性清洗液的使用，减少的经济支出，耐腐蚀水管12与过滤网13之间构成连通结构，且过滤网13贯穿于底槽6的下底面，其作用是设置的过滤网13的目的是可以将酸性清洗液与杂物进行过滤，进而实现酸性清洗液的多次利用，减少了资源的浪费，进一步减少经济支出，旋转电机7与工作台14之间的连接方式为固定连接，且工作台14通过滚珠丝杆16与伺服电机15之间构成转动结构，并且伺服电机15与底槽6的外表面之间的连接方式为固定连接，其作用是设置的滚珠丝杆16的目的是在伺服电机15的带动下可以使得清洁辊9进行左右的移动，使得多晶硅4被清洁的范围更广，增加该装置的清洗效率和质量。

工作原理：该装置主要由液压泵1和喷头10组成，使用该装置时，首先将该连接电源，然后即可将需要清洗的多晶硅4塞入硅体槽3的内部，由于硅体槽3采用U型结构，使得硅体槽3与多晶硅4构成半包围结构，并将需要清洁的一面冲下，该装置可以不用拆卸多晶硅4，可以单独对一个表面进行清洁，然后启动液压泵1，使得液压泵1带动液压杆2进而使得硅体槽3带着内部的多晶硅4向下移动，硅体槽3的两侧与顶盖5的内表面之间相对滑动，保证下降的平稳，当下降到合适高度后，即可启动旋转电机7，使得旋转电机7带动旋转辊8进而使得旋转辊8外表面的清洁辊9刷洗多晶硅4的表面，而清洁辊9受到左右两侧的喷头10的冲洗，喷头10内流通着清洁所需的酸性混合清洗液，随着旋转电机7的不断启动，同时启动伺服电机15，使得工作台14在滚珠丝杆16的外侧滚动，进而实现旋转电机7的左右移动，这样就可以将多晶硅4的下底面进行全面的清洁，通过清洁辊9的洗刷可以将多晶硅4表面掺杂的杂物进行彻底清洁，而清洗后的酸性清洗液和杂物自然落入底槽6的内部，通过过滤网13的过滤，可以将杂物与清洗液分离，使得清洗液在水泵11的带动下穿过过滤网13，并经过耐腐蚀水管12流入到两侧的喷头10内进行多次的使用，进而可以减少经济的支出，经过一段时间将底槽6内堆积的杂物清洁出去即可，这就是该装置的使用流程和工作原理。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.多晶硅料清洗加液装置，包括液压泵(1)和喷头(10)，其特征在于：所述液压泵(1)的下方连接有液压杆(2)，且液压杆(2)的下端口固定安装有硅体槽(3)，所述硅体槽(3)的内部安装有多晶硅(4)，且硅体槽(3)的左右两侧均滑动连接有顶盖(5)，所述顶盖(5)的下端口固定安装有底槽(6)，且底槽(6)的左侧设置有旋转电机(7)，且底槽(6)的右侧安装有清洁辊(9)，所述清洁辊(9)的内部安装有旋转辊(8)，所述喷头(10)安装于清洁辊(9)的左右两侧，且喷头(10)的外侧连接有水泵(11)，所述水泵(11)的下方连接有耐腐蚀水管(12)，所述底槽(6)的下底面安装有过滤网(13)，所述旋转电机(7)的下方固定安装有工作台(14)，且工作台(14)的内部活动连接有滚珠丝杆(16)，所述滚珠丝杆(16)的前方安装有伺服电机(15)。

2.根据权利要求1所述的多晶硅料清洗加液装置，其特征在于：所述液压杆(2)通过液压泵(1)与硅体槽(3)之间构成伸缩结构，且液压泵(1)与顶盖(5)之间的连接方式为固定连接。

3.根据权利要求1所述的多晶硅料清洗加液装置，其特征在于：所述硅体槽(3)与顶盖(5)的内表面之间的连接方式为滑动连接，且硅体槽(3)与多晶硅(4)之间构成半包围结构。

4.根据权利要求1所述的多晶硅料清洗加液装置，其特征在于：所述旋转辊(8)通过旋转电机(7)与清洁辊(9)之间构成转动结构，且清洁辊(9)与旋转辊(8)的外表面之间连接方式为固定连接，且清洁辊(9)等距分布设置有4组。

5.根据权利要求1所述的多晶硅料清洗加液装置，其特征在于：所述喷头(10)与清洁辊(9)位于同一水平方向上，且喷头(10)关于清洁辊(9)的竖直中心线对称分布设置有2组。

6.根据权利要求1所述的多晶硅料清洗加液装置，其特征在于：所述耐腐蚀水管(12)与过滤网(13)之间构成连通结构，且过滤网(13)贯穿于底槽(6)的下底面。

7.根据权利要求1所述的多晶硅料清洗加液装置，其特征在于：所述旋转电机(7)与工作台(14)之间的连接方式为固定连接，且工作台(14)通过滚珠丝杆(16)与伺服电机(15)之间构成转动结构，并且伺服电机(15)与底槽(6)的外表面之间的连接方式为固定连接。