CN209714855U - 有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于水性表面处理剂制备设备领域，公开了一种有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，包括搅拌釜，所述搅拌釜设有夹套，搅拌釜釜顶设有进料口，所述搅拌釜釜底设有出料口，釜支架用来支撑和固定搅拌釜；所述釜支架一侧设有立杆，立杆顶端与气缸固定连接，气缸的伸缩杆固定连接横杆；所述横杆设有搅拌电机与研磨电机，所述搅拌电机驱动搅拌机构，所述研磨电机驱动研磨机构，所述搅拌机构与研磨机构穿过搅拌釜的顶部进入搅拌釜内。本实用新型通过搅拌机构与研磨机构联合作用，消除研磨机构的搅拌死角，保障了有机硅改性的水性表面处理剂制备过程中的搅拌与研磨充分，缩短分散时间，提高生产效率，提高水性表面处理剂产品质量。

Description

有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置

技术领域

本实用新型属于水性表面处理剂制备设备领域，特别涉及一种有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置。

背景技术

在有机硅改性的水性表面处理剂的制备过程中，需要对糊状的有机硅氧烷及树脂等原料进行搅拌混匀，搅拌过程中，物料是否能达到均质化以及颗粒的细化程度直接影响表面处理剂的产品质量。

目前主要通过常规的剪切分散装置处理。剪切分散装置是由高速旋转的转子与定子工作腔配合，依靠高的线速度，产生强劲的剪切力，对不同粘度的浆状物料进行离心挤压、高速切割及碰撞，使物料得到分散、均质、粉碎及混合的设备。

为了获得较高的分散速度，剪切分散装置的定转子直径尺寸通常较小，因此，其分散对象由较小的局部物料逐渐向外部扩散，当分散物料较多或者较浓稠时，需要较长的分散时间，降低生产效率，同时，容易存在搅拌死角。而且，较长的分散时间不利于粒子尺寸的继续减小，反而呈现团聚现象。对于水性表面处理剂来讲，不能保证搅拌效果的同时，还会带来不可控的变化。

在有机硅改性的水性表面处理剂的制备过程中，有时需要对糊状的有机硅氧烷及树脂等原料进行搅拌混匀同时进行加热或保温，目前在搅拌的同时无法做到加热或保温。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，在带有夹套的反应釜中同时设置搅拌装置和剪切研磨装置，提高有机硅改性的水性表面处理剂的生产效率。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，包括搅拌釜1，所述搅拌釜1设有夹套2，所述夹套2侧壁下端设有导热油进口3，所述夹套2侧壁上端设有导热油出口4，所述搅拌釜1釜顶设有进料口5，所述搅拌釜1釜底设有出料口6，釜支架7用来支撑和固定搅拌釜1；所述釜支架7一侧设有立杆8，立杆8顶端与气缸9固定连接，气缸9的伸缩杆固定连接横杆10；所述横杆10设有搅拌电机11与研磨电机12，所述搅拌电机11驱动搅拌机构13，所述研磨电机12驱动研磨机构14，所述搅拌机构13与研磨机构14穿过搅拌釜1的顶部进入搅拌釜1内，所述搅拌机构13包括与搅拌电机11固定连接的搅拌杆131及搅拌杆底端设有的搅拌桨132；所述研磨机构14包括与研磨电机12固定连接的定子141及与研磨电机12可转动连接的转子142；所述定子141底端设有定子分散头141a，所述转子142穿过定子分散头141a，并在底端设有转子分散头142b；所述定子分散头141a套置于转子分散头142b、并且所述转子分散头142b外径与定子分散头141a内径匹配。

进一步的，所述转子分散头142b的高度等于定子分散头的高度141a。

进一步的，所述搅拌杆131下端还设有搅拌分散刀133。

进一步的，所述定子分散头141a设有工作齿A，所述转子分散头142b设有工作齿B，所述工作齿A与工作齿B反向设置。

进一步的，所述定子分散头141a远离工作齿A的一端端面设有通孔C，转子分散头142b远离工作齿B的一端端面设有通孔C，所述通孔C设有多个，呈均匀分布。

本实用新型的有益效果为：

本实用新型的搅拌机构运用搅拌桨和搅拌分散刀的搭配，有机硅改性的水性表面处理剂的制备过程中，物料在得到充分搅拌的基础上，能够得到剪切分散，有利于物料颗粒的细化和均质化。

本实用新型通过搅拌机构与研磨机构联合作用，消除研磨机构的搅拌死角，保障了有机硅改性的水性表面处理剂制备过程中的搅拌与研磨充分，缩短分散时间，提高生产效率，优化颗粒细化效果，提高水性表面处理剂产品质量。

本实用新型搅拌釜设有夹套，满足有机硅改性的水性表面处理剂的制备过程中边搅拌研磨边加热的需求。

附图说明

图1为本实用新型示意图；

图2为转子示意图；

图3为定子分散头端面与转子分散头端面俯视图；

其中，1-搅拌釜，2-夹套，3-导热油进口，4-导热油出口，5-进料口，6-出料口，7-釜支架，8-立杆，9-气缸，10-横杆；11-搅拌电机，12-研磨电机，13-搅拌机构，14-研磨机构，131-搅拌杆，132-搅拌桨，133-搅拌分散刀，141-定子，142-转子，141a-定子分散头，142b-转子分散头。

具体实施方式

下面结合附图说明本实用新型的具体实施方式。

如图1所示，有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，包括搅拌釜1，所述搅拌釜1设有夹套2，所述夹套2侧壁下端设有导热油进口3，所述夹套2侧壁上端设有导热油出口4，所述搅拌釜1釜顶设有进料口5，所述搅拌釜1釜底设有出料口6，釜支架7用来支撑和固定搅拌釜1；所述釜支架7一侧设有立杆8，立杆8顶端与气缸9固定连接，气缸9的伸缩杆固定连接横杆10；所述横杆10设有搅拌电机11与研磨电机12，所述搅拌电机11驱动搅拌机构13，所述研磨电机12驱动研磨机构14，所述搅拌机构13与研磨机构14穿过搅拌釜1的顶部进入搅拌釜1内，所述搅拌机构13包括与搅拌电机11固定连接的搅拌杆131及搅拌杆下端依次设有的搅拌分散刀133、搅拌桨132；所述研磨机构14包括与研磨电机12固定连接的定子141及与研磨电机12可转动连接的转子142；所述定子141底端设有定子分散头141a，所述转子142穿过定子分散头141a，并在底端设有转子分散头142b；所述定子分散头141a套置于转子分散头142b、并且所述转子分散头142b外径与定子分散头141a内径匹配；所述转子分散头142b的高度等于定子分散头的高度141a。所述定子分散头141a设有工作齿A，所述转子分散头142b设有工作齿B，所述工作齿A向下设置，工作齿B向上设置，所述定子分散头141a远离工作齿A的一端端面设有七个通孔C，转子分散头142b远离工作齿B的一端端面设有七个通孔C，呈均匀分布。

本实用新型的工作过程为：关闭搅拌釜1底的出料口6，经进料口5投入物料，向夹套中通入导热油，为有机硅改性的水性表面处理剂的制备提供热源；通过气缸9调节横杆10高度，以调节搅拌机构13和研磨机构14在物料中的位置，调节到合适位置后，开启研磨电机12和搅拌电机11，驱动搅拌机构13和研磨机构14工作；在搅拌桨132的作用下，物料被完全搅动，不存在搅拌死角，在搅拌分散刀的作用下，物料颗粒得到初步细化，在高速旋转的转子142产生的离心力作用下，物料从工作头的上下进料区，同时从轴向吸入工作腔。强劲的离心力将物料从径向甩入定、转子分散头之间狭窄精密的间隙中，同时受到离心挤压、液层摩擦、液力撞击等综合作用力，有机硅改性的水性表面处理剂颗粒得到细化，浆料得到均质化。

Claims (6)

1.有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，包括搅拌釜（1），所述搅拌釜（1）设有夹套（2），所述夹套（2）侧壁下端设有导热油进口（3），所述夹套侧壁上端设有导热油出口（4），所述搅拌釜（1）釜顶设有进料口（5），所述搅拌釜（1）釜底设有出料口（6），釜支架（7）用来支撑和固定搅拌釜（1）；所述釜支架（7）一侧设有立杆（8），立杆（8）顶端与气缸（9）固定连接，气缸（9）的伸缩杆固定连接横杆（10）；所述横杆（10）设有搅拌电机（11）与研磨电机（12），所述搅拌电机（11）驱动搅拌机构（13），所述研磨电机（12）驱动研磨机构（14），所述搅拌机构（13）与研磨机构（14）穿过搅拌釜（1）的顶部进入搅拌釜（1）内，其特征在于，所述搅拌机构（13）包括与搅拌电机（11）固定连接的搅拌杆（131）及搅拌杆底端设有的搅拌桨（132）；所述研磨机构（14）包括与研磨电机（12）固定连接的定子（141）及与研磨电机（12）转动连接的转子（142）；所述定子（141）底端设有定子分散头（141a），所述转子（142）穿过定子分散头（141a），并在底端设有转子分散头(142b)；所述定子分散头（141a）套置于转子分散头(142b)、并且所述转子分散头(142b)外径与定子分散头（141a）内径匹配。

2.根据权利要求1所述的有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，其特征在于：所述搅拌杆（131）下端设有搅拌分散刀（133）。

3.根据权利要求1所述的有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，其特征在于：所述定子分散头（141a）设有工作齿A，所述转子分散头(142b)设有工作齿B。

4.根据权利要求3所述的有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，其特征在于：所述工作齿A与工作齿B反向设置。

5.根据权利要求1或3任一项所述的有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，其特征在于：所述定子分散头（141a）远离工作齿A的一端端面设有通孔C，转子分散头(142b)远离工作齿B的一端端面设有通孔C，所述通孔C设有多个，呈均匀分布。

6.根据权利要求1所述的有机硅改性的水性表面处理剂搅拌研磨装置，其特征在于：所述转子分散头(142b)的高度等于定子分散头（141a）的高度。