CN209652443U - 一种BITAC或n-BITAC电解槽结构 - Google Patents
一种BITAC或n-BITAC电解槽结构 Download PDFInfo
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Abstract
一种BITAC或n‑BITAC电解槽结构,它包括阳极室和阴极室,阳极室内设置有阳极电极,阴极室内设置有阴极电极,阳极室的密封面上设置有阳极垫片,阴极室的密封面上设置有阴极垫片,所述阳极垫片和阴极垫片之间夹持有离子膜,其特征在于阳极室的密封面和阴极室的密封面间绝缘,且阴极垫片的内边缘伸至阴极室内。本实用新型由于阳极室的密封面和阴极室的密封面间不会因不绝缘而发生电解,从而杜绝了电腐蚀的发生。因此本实用新型一种BITAC或n‑BITAC电解槽结构具有运行过程中密封面不会发生电腐蚀,提高使用寿命的优点。另外阴极垫片的内边缘将离子膜向阳极室方向施力的趋势,降低了电解电耗。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种BITAC或n-BITAC电解槽结构。
背景技术
离子膜电解槽是氯碱工业利用电解食盐水(NaCl)生产烧碱(NaOH) 和氯气(Cl2)、氢气(H2)的专用设备,其中日本产的BITAC或n-BITAC 电解槽因密封垫片的设计和安装问题极易造成电解槽槽体的电腐蚀。
参见图3和图4,一组电解槽由阳极室(带阳极电极)、阳极垫片、离子膜、阴极垫片、阴极室(带阴极电极)组成,阳极室是进盐水(NaCl溶液),阴极室是碱液补充纯水,直流电从阳极导向阴极,阳极室NaCl电离成Na+和Cl-。阴极室电离成H+和OH-。离子膜是一种选择性通过膜,仅可通过Na+,阳极室产品为Cl2,阴极室产品为NaOH水溶液和H2。阴阳极电极分别为镍、钛表面加涂铂系贵金属的活性层。在介质电解的同时,电极也要承受电解反应,阳极侧为氧化反应,阴极侧为还原反应。
由于原有的BITAC或n-BITAC电解槽结构的阳极垫片和阴极垫片均粘贴在电解槽槽体边框密封面相对一侧的外周,阳极垫片和阴极垫片的内圈边缘分别距离阳极室密封面内侧边和阴极室密封面内侧边有一定间距,一般分别为5mm和3mm。因此在电解槽工作时,密封面会有一部分暴露出来,暴露出来的部分会造成电腐蚀,降低了BITAC或n-BITAC电解槽的使用寿命。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述不足,提供运行过程中密封面不会发生电腐蚀,提高使用寿命的一种BITAC或n-BITAC电解槽结构。
本实用新型的目的是这样实现的:
一种BITAC或n-BITAC电解槽结构,它包括阳极室和阴极室,阳极室内设置有阳极电极,阴极室内设置有阴极电极,阳极室的密封面上设置有阳极垫片,阴极室的密封面上设置有阴极垫片,所述阳极垫片和阴极垫片之间夹持有离子膜,其特征在于阳极室的密封面和阴极室的密封面间绝缘,且阴极垫片的内边缘伸至阴极室内。
作为一种优选,其中阳极垫片的内边缘与阳极室的密封面的内边缘齐平。
作为一种优选,阴极垫片的内边缘伸至阴极室内的距离为2-3mm。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
本实用新型一种BITAC或n-BITAC电解槽结构由于阳极室的密封面和阴极室的密封面不会暴露在电解液中,从而杜绝了电腐蚀的发生。因此本实用新型一种BITAC或n-BITAC电解槽结构具有运行过程中密封面不会发生电腐蚀,提高使用寿命的优点。另外阴极垫片的内边缘将离子膜向阳极室方向施力的趋势,使离子膜贴向阳极,有降低电解电耗的优点。
附图说明
图1为本实用新型的一种BITAC或n-BITAC电解槽结构示意图。
图2为图1的A处局部放大图。
图3为原厂的BITAC或n-BITAC电解槽结构示意图。
图4为图3的B处局部放大图。
其中:
阳极室1
阴极室2
阳极垫片3
阴极垫片4
离子膜5。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
参见图1和图2,本实用新型涉及的一种BITAC或n-BITAC电解槽结构,它包括阳极室1和阴极室2,阳极室1内设置有阳极电极,阴极室2 内设置有阴极电极,阳极室1的密封面上设置有阳极垫片3,阴极室2的密封面上设置有阴极垫片4,所述阳极垫片3和阴极垫片4之间夹持有离子膜5,其中阳极垫片3的内边缘与阳极室1的密封面的内边缘齐平,阴极垫片4的内边缘伸出阴极室2的密封面的内边缘至阴极室2内,阴极垫片4的内边缘伸至阴极室2内的距离为2-3mm,从而使得阳极室1的密封面和阴极室2的密封面间绝缘,不会发生电解,从而杜绝了电腐蚀的发生。伸入阴极室2内的阴极垫片4具有一个将离子膜5向阳极室1方向施力的趋势,使离子膜贴住阳极,消除因阳极液产生的电阻,降低了电解电耗。
以上仅是本实用新型的具体应用范例,对本实用新型的保护范围不构成任何限制。凡采用等同变换或者等效替换而形成的技术方案,均落在本实用新型权利保护范围之内。
Claims (1)
1.一种BITAC或n-BITAC电解槽结构,它包括阳极室(1)和阴极室(2),阳极室(1)内设置有阳极电极,阴极室(2)内设置有阴极电极,阳极室(1)的密封面上设置有阳极垫片(3),阴极室(2)的密封面上设置有阴极垫片(4),所述阳极垫片(3)和阴极垫片(4)之间夹持有离子膜(5),其特征在于阳极室(1)的密封面和阴极室(2)的密封面间绝缘,且阴极垫片(4)的内边缘伸至阴极室(2)内;
其中阳极垫片(3)的内边缘与阳极室(1)的密封面的内边缘齐平;
阴极垫片(4)的内边缘伸至阴极室(2)内的距离为2-3mm。
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CN201821896575.6U CN209652443U (zh) | 2018-11-16 | 2018-11-16 | 一种BITAC或n-BITAC电解槽结构 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN115287687A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-11-04 | 广东卡沃罗氢科技有限公司 | 一种电解槽密封结构 |
CN115323417A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-11-11 | 广东卡沃罗氢科技有限公司 | 一种工业电解槽 |
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CN115323417A (zh) * | 2022-05-17 | 2022-11-11 | 广东卡沃罗氢科技有限公司 | 一种工业电解槽 |
CN115287687B (zh) * | 2022-05-17 | 2024-04-02 | 广东卡沃罗氢科技有限公司 | 一种电解槽密封结构 |
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