CN209520777U - 一种抛光机研磨液回收循环装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种抛光机研磨液回收循环装置，包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩和回收抛光液的回收循环水箱，所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面，所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间，回流斜坡面的底部与工作台连成一体，工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网，回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器；所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。本实用新型抛光机研磨液回收循环装置将抛光机内排出的抛光液进行筛滤后，将过滤后的抛光液再次的抽回到抛光机上的进液机构，完成抛光液的回收利用，减少了资源浪费，且提高了加工车间的清洁度。
Description
技术领域
本实用新型金属及非金属结构件加工领域，尤其涉及电子3C行业手机外壳打磨抛光的抛光机研磨液回收循环装置。
背景技术
抛光液的高效循环利用，是整个抛光行业的普遍现象，而怎样快速的过滤清理抛光液中的杂质，则是整个行业在循环利用抛光液时，需要特别考虑的问题。目前，现有的抛光液过滤循环系统使用效果还不够理想，主要一方面是抛光液的回收利用率很低(小于50％)，造成的浪费带来的是工序成本降不下来；另一方面管路的复杂使得清洁保养工作量繁杂。以上各种不足有待进一步改善。
现有技术中的磨削加工的五轴抛光机，在抛光过程中使用抛光粉溶液，每台抛光机的抛光粉溶液都是采用单机自循环。这种单机自循环的方式产生的导轨油及杂质会汇入抛光粉溶液中，降低抛光粉溶液浓度，加大抛光粉的添加量，浪费抛光粉；较多的抛光粉会喷洒到机台内部，也带来很大的清洁问题。。
实用新型内容
有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种抛光机研磨液回收循环装置，该抛光机研磨液回收循环装置的抛光液回收利用率高，降低了抛光粉的浪费。
本实用新型通过以下技术手段解决上述技术问题：
本实用新型的一种抛光机研磨液回收循环装置，所述抛光机包括工作台和主轴，所述抛光机研磨液回收循环装置包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩和回收抛光液的回收循环水箱，所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面，所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间，回流斜坡面的底部与工作台连成一体，工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网，回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器；所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。
进一步，所述循环水泵的出液口与抛光机上的进液机构相互连通。
进一步，所述抛柔性透明遮罩具有四面，所述四面柔性透明遮罩分别位于主轴的前、后、左、右四个方位；还包括用于控制和调整所述柔性透明遮罩位置和高度的调控机构，所述调控机构包括两个对称设置在抛光机主轴两端吊臂上面的气缸，所述两个气缸倾斜设置，气缸的推杆端部与位于主轴前侧的柔性透明遮罩连接。
进一步，所述两个气缸倾斜35-55度。
本实用新型的有益效果：
本实用新型抛光机研磨液回收循环装置，包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩和回收抛光液的回收循环水箱，所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面，所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间，回流斜坡面的底部与工作台连成一体，工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网，回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器；所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。本实用新型抛光机研磨液回收循环装置将抛光机内排出的抛光液进行筛滤后，将过滤后的抛光液再次的抽回到抛光机上的进液机构，完成抛光液的回收利用，减少了资源浪费，且提高了加工车间的清洁度。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步描述。
图1为现有抛光机的立体结构示意图；
图2为现有抛光机的内部立体结构示意图；
图3为安装有本实用新型抛光机研磨液回收循环装置的抛光机的内部立体结构示意图。
具体实施方式
以下将结合附图对本实用新型进行详细说明：
如图1-3所示，本实施例中的一种抛光机研磨液回收循环装置，所述抛光机研磨液回收循环装置安装在抛光机上，所述抛光机包括工作台1和主轴2，所述抛光机研磨液回收循环装置包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩3和回收抛光液的回收循环水箱4，所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面5，所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间，回流斜坡面的底部与工作台连成一体，回收循环水箱4可随工作台同步移动，工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网6，回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器，还包括控制器，所述控制器分别与液面传感器和循环水泵电连接；所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。具体地，所述循环水泵的出液口与抛光机上的进液机构相互连通。
本实用新型的一种抛光机研磨液回收循环装置的工作原理：众所周知在实际各式各类抛光过程中，抛光液在耗材与工件的作用下会飞溅起来，通常是控制在机床钣金内部，最后汇集从后底部排液口流入外部冷却水箱。本实用新型采用的方式是控制抛光液飞溅在工作台上即被回收到回收循环水箱内。具体地，在抛光机的工作台的四周设置底部与工作台制成一体的回流斜坡面，所述回流斜坡面上部向工作台外侧倾斜，形成导流面，另外，在抛光机主轴上设置随抛光机主轴上下同步运动的柔性透明遮罩，在抛光液体飞溅时会被柔性透明遮罩挡下来落入回流斜坡面内，通过过滤筛网后，进入回收循环水箱然后由循环水泵供给进液机构开始重复利用。
作为上述技术方案的进一步改进，所述抛柔性透明遮罩具有四面，所述四面柔性透明遮罩分别位于主轴的前、后、左、右四个方位，位于主轴前侧的柔性透明遮罩的两端不与左右两侧的柔性透明遮罩固定连接；还包括用于控制和调整所述柔性透明遮罩位置和高度的调控机构，所述调控机构包括两个对称设置在抛光机主轴两端吊臂7上面的气缸8，所述两个气缸倾斜设置，气缸的推杆端部与位于主轴前侧的柔性透明遮罩连接，所述两个气缸倾斜45度，气缸的推杆的轴向朝向斜上方，所述气缸可与控制器连接。上述改进设置的有益效果在于：当抛光机调整主轴上砂轮9位置时，可以控制气缸动作，气缸推动柔性透明遮罩使柔性透明遮罩向斜上方远离主轴，从而使柔性透明遮罩不会与砂轮发生碰撞，同时柔性透明遮罩向上的运动可以将被加工的工件10暴露出来，便于加工工人取放工件。
最后说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
Claims (4)
1.一种抛光机研磨液回收循环装置，其特征在于：包括设置在抛光机主轴四面的柔性透明遮罩和回收抛光液的回收循环水箱，所述回收循环水箱包括设置在四周的回流斜坡面，所述四周的回流斜坡面将抛光机的工作台包围在中间，回流斜坡面的底部与工作台连成一体，工件台上工件座到回收循环水箱之间设置有过滤筛网，回收循环水箱内部设有循环水泵和液面传感器；所述柔性透明遮罩位于回流斜坡面上方。
2.根据权利要求1所述的抛光机研磨液回收循环装置，其特征在于：所述循环水泵的出液口与抛光机上的进液机构相互连通。
3.根据权利要求2所述的抛光机研磨液回收循环装置，其特征在于：所述柔性透明遮罩具有四面，所述四面柔性透明遮罩分别位于主轴的前、后、左、右四个方位；还包括用于控制和调整所述柔性透明遮罩位置和高度的调控机构，所述调控机构包括两个对称设置在抛光机主轴两端吊臂上面的气缸，所述两个气缸倾斜设置，气缸的推杆端部与位于主轴前侧的柔性透明遮罩连接。
4.根据权利要求3所述的抛光机研磨液回收循环装置，其特征在于：所述两个气缸倾斜35-55度。
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| CN201822169337.1U CN209520777U (zh) | 2018-12-23 | 2018-12-23 | 一种抛光机研磨液回收循环装置 |
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2018
- 2018-12-23 CN CN201822169337.1U patent/CN209520777U/zh not_active Expired - Fee Related
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