CN209456557U - 磁控溅射镀膜室及镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种磁控溅射镀膜室及镀膜装置，其中镀膜室包括壳体，壳体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口，壳体的内部与抽真空设备相连，壳体的内部设有镀膜辊和多个导辊，镀膜辊和导辊均与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下镀膜辊和多个导辊均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口运送至织物出口；镀膜辊的下方还设有多个溅射源，多个溅射源与镀膜辊之间形成镀膜间隙，相邻的溅射源之间设有溅射源挡板，溅射源挡板与镀膜辊之间形成有供织物通过的间隙。本实用新型通过在相邻溅射源之间设置溅射源挡板以消除相邻溅射源在溅射时的相互影响，使得织物镀膜层的厚度更加均匀。

Description

磁控溅射镀膜室及镀膜装置

技术领域

本实用新型涉及织物镀膜技术，尤其涉及一种磁控溅射镀膜室及镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是一种生成薄膜材料的技术，在真空室内镀膜材料的原子或分子从表面离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜一般是指用物理的方法沉积薄膜，主要有蒸发镀膜、离子镀和溅射镀膜。其中溅射镀膜中的磁控溅射镀膜以其膜基结合牢度好、效率高、无污染等优点被广泛应用。磁控溅射是为了在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射效率的方法。其原理是：把基材和靶材安装于真空室内，在处于低压状态气体的辉光放电中形成正、负离子及电子。正离子轰击作为阴极的靶材，使靶材原子被溅射出来，在基材上形成薄膜，从而实现基体材料的各种功能化。现有技术中，磁控溅射镀膜技术主要用于玻璃、塑料薄膜等材料的镀膜，很少应用于织物，对于织物磁控溅射镀膜的技术研究较少。

图1为现有技术中磁控溅射镀膜机的结构简图；请参照图1。图1中示出了一种磁控溅射镀膜机，其可应用于织物的磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜机主要包括真空室1，真空室1内设有镀膜辊2，在镀膜辊2上方的左右两侧分别设有收布轮3和放布轮4，真空室1内还设有多个导向轮5，镀膜辊2的下方设有靶材罩6和模板7，靶材罩6内设有多个溅射源，靶材罩6和镀膜辊2之间的间隙即为靶材溅射区域，模板7位于该区域中。在进行织物镀膜时，缠绕在收布轮3上的织物经导向轮5的引导后缠绕在镀膜辊2上，缠绕在镀膜辊2上的织物经过靶材溅射区域时，从靶材罩6内射出的靶材粒子流穿过模板7的镂空区域，从而在织物表面形成具有一定图案的生色膜层。

但是，现有技术的磁控溅射镀膜机其织物的放卷、镀膜和收卷均在真空室1内进行，由于受真空室1内部空间的限制，现有技术的磁控溅射镀膜机只能够应用于小批量的织物的加工，不利于实现织物的大批量流水线生产。此外，现有技术的磁控溅射镀膜机其靶材罩6内的溅射源在进行溅射时会受到相邻溅射源的影响，使得最终镀膜层的厚度不易控制。

实用新型内容

为了克服现有技术下的上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射镀膜室及镀膜装置，本实用新型的磁控溅射镀膜室能够有效的消除相邻溅射源在溅射镀膜时的相互影响，有效保证镀膜层的厚度；且本实用新型的磁控溅射镀膜室能够适用于织物的大批量流水线生产。

本实用新型提供一种磁控溅射镀膜室，包括壳体，所述壳体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口，所述壳体的内部与抽真空设备相连，所述壳体的内部设有镀膜辊和多个导辊，所述镀膜辊和导辊均与驱动设备相连，在所述驱动设备的驱动下所述镀膜辊和多个所述导辊均沿相同的方向转动，以将织物由所述织物入口运送至所述织物出口；所述镀膜辊的下方还设有多个溅射源，多个所述溅射源与所述镀膜辊之间形成镀膜间隙，相邻的所述溅射源之间设有溅射源挡板，所述溅射源挡板与所述镀膜辊之间形成有供所述织物通过的间隙。

如上所述的磁控溅射镀膜室，可选的，多个所述导辊中至少包括一个主动辊，所述主动辊和所述镀膜辊与所述驱动设备相连。

如上所述的磁控溅射镀膜室，可选的，所述溅射源沿所述镀膜辊的周向方向等间距设置。

如上所述的磁控溅射镀膜室，可选的，多个所述溅射源中的靶材相同或不同。

如上所述的磁控溅射镀膜室，可选的，还设有连接所述镀膜辊和多个所述溅射源的冷却系统。

如上所述的磁控溅射镀膜室，可选的，所述壳体内部还设有水平隔板，所述水平隔板的一端与所述壳体的内壁固定连接，另一端与所述镀膜辊之间形成有供所述织物通过的间隙，所述水平隔板将所述壳体的内部分成传送室和溅射室，所述传送室位于所述溅射室的上方，多个所述导辊位于所述传送室内，多个所述溅射源位于所述溅射室内。

如上所述的磁控溅射镀膜室，可选的，所述传送室和所述溅射室均与所述抽真空设备相连。

如上所述的磁控溅射镀膜室，可选的，所述织物入口、织物出口、所述溅射源挡板与所述镀膜辊之间的间隙和所述水平隔板与所述镀膜辊之间的间隙均大于所述织物厚度1-5mm。

本实用新型还提供一种镀膜装置，包括多个如上所述的磁控溅射镀膜室，相邻的所述磁控溅射镀膜室之间设有真空隔离室，所述真空隔离室连接所述抽真空设备，所述真空隔离室内设有多个导辊，多个所述导辊中至少包括一个主动辊，所述主动辊与所述驱动设备相连。

如上所述的镀膜装置，可选的，所述真空隔离室表面设有观察窗口，所述真空隔离室还连接有监测系统，所述监测系统包括设置在所述真空隔离室内的传感器，所述传感器与外部处理器通讯连接。

本实用新型提供的磁控溅射镀膜室及镀膜装置，其镀膜室包括壳体，壳体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口，壳体的内部与抽真空设备相连，壳体的内部设有镀膜辊和多个导辊，镀膜辊和导辊均与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下镀膜辊和多个导辊均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口运送至织物出口；镀膜辊的下方还设有多个溅射源，多个溅射源与镀膜辊之间形成镀膜间隙，相邻的溅射源之间设有溅射源挡板，溅射源挡板与镀膜辊之间形成有供织物通过的间隙。本实用新型通过在相邻溅射源之间设置溅射源挡板以消除相邻溅射源在溅射时的相互影响，使得织物镀膜层的厚度更加均匀；本实用新型的镀膜室设有织物入口和织物出口，织物在镀膜室中只进行镀膜作业，可以通过串联多个镀膜室的形式实现织物镀膜的大批量流水线生产。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为现有技术中磁控溅射镀膜机的结构简图；

图2为本实用新型一实施例提供的磁控溅射镀膜系统的结构简图；

图3为本实用新型一实施例提供的磁控溅射过渡室的结构简图；

图4为本实用新型另一实施例提供的磁控溅射镀膜系统的结构简图；

图5为本实用新型另一实施例提供的磁控溅射过渡室的结构简图；

图6为本实用新型一实施例提供的磁控溅射镀膜装置的局部结构图。

附图标记：

1-真空室； 2-镀膜辊；

3-收布轮； 4-放布轮；

5-导向轮； 6-靶材罩；

7-模板； 110-放卷室；

111-放布轮； 120-烘干室；

121-烘干装置； 130-前过渡室；

131-冷却装置； 132-壳体；

133-织物入口； 134-织物出口；

135-竖直挡板； 136-通孔；

137-保护板； 140-镀膜装置；

141-镀膜室； 142-真空隔离室；

143-壳体； 144-织物入口；

145-织物出口； 146-镀膜辊；

147-溅射源； 148-溅射源挡板；

149-水平隔板； 150-后过渡室；

160-收卷室； 161-收布轮；

170-导辊； 210-放卷室；

211-烘干装置； 212-放布轮；

220-前过渡室； 221-预过渡室；

222-真空过渡室； 223-冷却装置；

224-织物入口； 225-织物出口；

226-竖直挡板； 227-通孔；

228-保护板； 230-后过渡室；

240-收卷室； 241-收布轮。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。在不冲突的情况下，下述的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

需要说明的是，在本实用新型的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于方便描述不同的部件，而不能理解为指示或暗示顺序关系、相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。

下面将结合附图详细的对本实用新型的内容进行描述，以使本领域技术人员能够更加详细的了解本实用新型的内容。

实施例一

图2为本实施例一实施例提供的磁控溅射镀膜系统的结构简图；请参照图2。本实施例提供一种磁控溅射镀膜系统，包括依次相连的放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160，放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160均与抽真空设备相连，放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160中均设有多个用于运送织物的导辊170，导辊170与驱动设备相连，导辊170在驱动设备的驱动下沿相同的方向转动，以将织物由放卷110室运送至收卷室160中；其中，烘干室120内设有烘干装置121，前过渡室130内设有冷却装置131。

具体的，本实施例的磁控溅射镀膜系统中其放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160均与抽真空设备相连，即整个系统运行在真空环境下，放卷室110上设有供织物放入的开口，将织物放入放卷室110后将开口关闭，使整个系统与外界大气隔离，打开抽真空设备将系统内部抽到预设的真空度后再进行织物的溅射镀膜，系统在溅射镀膜的过程中时刻保持真空状态，可以有效的保证镀膜的质量。

本实施例在使用时，放入放卷室110内的织物在导辊170的驱动下沿相同的方向转动，以将织物由放卷110室运送至收卷室160中。在此过程中，烘干室120可以将织物内多余的水分烘干；前过渡室130可以将残留在织物表面的水分迅速液化凝固，并从织物的表面滴落，进而防止了由于织物回潮而在表面形成隔离层的风险；镀膜装置140可以对织物进行镀膜作业；后过渡室150可以使织物散去镀膜过程中积累的热量；收卷室160用于收集织物，收集完毕后将收卷室160内的气压降至与外界大气相同后再打开设置在其上的取出口将织物取出，从而完成一次生产作业。由于本实施例的放卷、镀膜和收卷在均在不同的腔室内进行，且系统的整体空间体积较现有技术明显增大，从而实现了织物的大批量流水线生产。

本实施例提供的磁控溅射镀膜系统，包括依次相连的放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160，放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160均与抽真空设备相连，放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160中均设有多个用于运送织物的导辊170，导辊170与驱动设备相连，导辊170在驱动设备的驱动下沿相同的方向转动，以将织物由放卷110室运送至收卷室160中；其中，烘干室120内设有烘干装置121，前过渡室130内设有冷却装置131。相比于现有技术的磁控溅射镀膜机，本实施例通过设置烘干室120和前过渡室130，烘干室120内设有烘干装置121，前过渡室130内设有冷却装置，从而可以利用烘干装置121将织物内多余的水分烘干，并利用冷却装置131使得经烘干室120烘干后残留在织物表面的水分迅速液化凝固，并从织物的表面滴落，进而防止了由于织物回潮而在表面形成隔离层的风险，有利于提高镀膜效果。此外，通过设置依次相连的放卷室110、烘干室120、前过渡室130、镀膜装置140、后过渡室150和收卷室160使得织物的放卷、镀膜和收卷在不同的腔室内进行，使得磁控溅射镀膜系统可以容纳更大体积的织物，有利于实现织物的大批量流水线生产。

进一步地，本实施例中的导辊170包括主动辊和从动辊，烘干室110、前过渡室120、镀膜装置130和后过渡室140中均设有至少一个主动辊，主动辊连接驱动设备。放卷室110中设有放布轮111，放布轮111连接驱动设备。收卷室160内设有收布轮161，收布轮161连接驱动设备。本实施例在驱动设备的驱动下使得与驱动设备相连的放布轮111、主动辊和收布轮161沿同一方向转动，从而带动织物和从动辊的运动，实现织物的运送。织物在传动过程中的张力要求选取合适的包角角度布置导辊170，驱动设备可以包括多个驱动电机，且个驱动电机的频率可根据需要进行选择。

进一步地，本实施例中的烘干装置121为红外烘干装置和/或微波烘干装置。由于本实施例运行在真空状态下，而真空不传导热能，因此，在真空状态下需要以射线形式的热加热物体。对于织物而言，其燃点很低，应采用能量控制较容易的射线形式进行加热。本实施例中采用红外烘干装置和/或微波烘干装置进行加热，红外烘干装置可以为红外辐射灯、红外辐射灯组或红外辐射灯箱等。此外，微波烘干装置能够去除织物内部的气体和水分，使织物的含水量降低，且其加热过程短，效率高，节省成本。由于微波对水分子的选择性加热，通常织物内部含水较多，加热时由内向外，与水份扩散方向一致而且内外温差小，不会出现常规干燥热分布不匀的现象，因此将红外烘干装置和微波烘干装置结合进行烘干其效果更好。

图3为本实用新型一实施例提供的磁控溅射过渡室的结构简图；请参照图3。本实施方式的磁控溅射过渡室为上述磁控溅射镀膜系统中的前过渡室130，磁控溅射过渡室包括壳体132，壳体132相对的两侧壁上分别设有织物入口133和织物出口134，壳体132的内部与抽真空设备相连，壳体132的内部设有多个导辊170，导辊170与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下多个导辊170均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口133运送至织物出口134，壳体132的内部还设有冷却装置131。

本实施例提供的磁控溅射过渡室，设置在烘干室120和镀膜装置140之间，包括壳体132，壳体132相对的两侧壁上分别设有织物入口133和织物出口134，壳体132的内部与抽真空设备相连，壳体132的内部设有多个导辊170，导辊170与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下多个导辊170均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口133运送至织物出口134，壳体132的内部还设有冷却装置131。本实施例通过在过渡室内设置冷却装置131，使得织物经过过渡室时能够迅速的降低温度，从而使得经烘干室120烘干后残留在织物表面的水分迅速液化凝固，并从织物的表面滴落，进而防止了由于织物回潮而在表面形成隔离层的风险，有利于提高镀膜效果。

进一步地，本实施例中冷却装置131可以选为水冷装置，当然本领域技术人员也可以根据需要选择其他适宜的冷却装置，本实施例对此不做进一步限定。

进一步地，本实施例中的冷却装置131设置在壳体132的底壁上，冷却装置131包括多根相互串联的冷却水管，冷却水管的入口和出口均与外部制冷装置相连，以实现冷却水的循环利用。

进一步地，本实施例的多个导辊170中至少包括一个主动辊，主动辊与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下，主动辊通过织物带动从动辊沿同一方向转动，从而将从动辊从织物入口133运送至织物出口134。

其中，该驱动设备可选为驱动电机等现有技术下常用的设备。

进一步地，本实施例的磁控溅射过渡室内还设有多个竖直挡板135，多个竖直挡板135将磁控溅射过渡室分成多个腔室，由烘干室120至镀膜装置140的方向上多个腔室中的真空度逐级升高，多个腔室可均与抽真空设备相连，从而可以使得抽真空时间大大降低，节省生产时间。采用真空度逐级升高的腔室还能够有效的保护镀膜装置140的稳定性。

进一步地，本实施例中竖直挡板135上均设有供织物通过的通孔136，织物入口133、织物出口134和通孔136的尺寸略大于织物的厚度，即只要能够满足织物正常通过即可，且越小越好，从而有效增加空气流阻，减小相邻腔室内真空度相互影响。在一个可选的实施方式中，织物入口133、织物出口134和通孔136的尺寸均大于织物厚度1-5mm，当然，本领域技术人员清楚的是上述尺寸可根据实际需要进行确定。

更进一步地，通孔136水平设置或倾斜设置，相邻的通孔136的高度不同。倾斜设置的通孔136及相邻两个通孔136的高度差都能进一步增大流阻，减少相邻腔室之间的影响。

进一步地，织物入口133、织物出口134和通孔136的上方还设有保护板137，保护板137与壳体132铰接连接，保护板137的转动可将织物入口133、织物出口134或通孔136封堵上，在真空状态下，保护板137水平设置，当相邻腔室出现故障时，真空度急剧降低，此时，保护板137所在腔室的真空度发生改变，保护板137降落，旋转90°挡住上述开孔，从而保护系统后面的腔室不受损害。

实施例二

图4为本实用新型另一实施例提供的磁控溅射镀膜系统的结构简图；图5为本实用新型另一实施例提供的磁控溅射过渡室的结构简图；请参照图4-图5。本实施例提供一种磁控溅射镀膜系统，包括依次相连的放卷室210、前过渡室220、镀膜装置140、后过渡室230和收卷室240，放卷室210和收卷室240均与大气联通，前过渡室220、镀膜装置140和后过渡室230均与抽真空设备相连，放卷室210、前过渡室220、镀膜装置140、后过渡室230和收卷室240中均设有多个用于运送织物的导辊170，导辊170与驱动设备相连，导辊170在驱动设备的驱动下沿相同的方向转动，以将织物由放卷室210运送至收卷室240中；其中，放卷室210内设有烘干装置211，前过渡室220包括互连接的预过渡室221和真空过渡室222，预过渡室221与放卷室210相连，真空过渡室222与镀膜装置140相连，真空过渡室222内设有冷却装置223。

具体的，本实施例中的放卷室210和收卷室240均与大气联通，从而可以实现在正常的大气压下对系统进行放卷和收卷工作，进而实现了织物的流水线大批量生产，使得本实施例的系统能够用于任意长度的织物的镀膜。

本实施例的前过渡室220包括互连接的预过渡室221和真空过渡室222，预过渡室221可以将系统的真空度逐渐降低至预设值，保证真空过渡室222和镀膜装置140运行在真空状态下。本实施例在使用时，放入放卷室210内的织物在导辊170的驱动下沿相同的方向运动，以将织物由放卷210室运送至收卷室240中。在此过程中，烘干装置211可以将织物内多余的水分烘干；前过渡室220可以使织物逐渐进入真空环境下，并将残留在织物表面的水分迅速液化凝固，并从织物的表面滴落，进而防止了由于织物回潮而在表面形成隔离层的风险；镀膜装置140可以对织物进行镀膜作业；后过渡室230可以使织物散去镀膜过程中积累的热量；收卷室240用于收集织物，从而完成一次生产作业。由于本实施例的放卷、镀膜和收卷在均在不同的腔室内进行，且系统的整体空间体积较现有技术明显增大，从而实现了织物的大批量流水线生产。

本实施例提供的磁控溅射镀膜系统，包括依次相连的放卷室210、前过渡室220、镀膜装置140、后过渡室230和收卷室240，放卷室210和收卷室240均与大气联通，前过渡室220、镀膜装置140和后过渡室230均与抽真空设备相连，放卷室210、前过渡室220、镀膜装置140、后过渡室230和收卷室240中均设有多个用于运送织物的导辊170，导辊170与驱动设备相连，导辊170在驱动设备的驱动下沿相同的方向转动，以将织物由放卷室210运送至收卷室240中；其中，放卷室210内设有烘干装置211，前过渡室220包括互连接的预过渡室221和真空过渡室222，预过渡室221与放卷室210相连，真空过渡室222与镀膜装置140相连，真空过渡室222内设有冷却装置223。相比于现有技术的磁控溅射镀膜机，本实施例通过在放卷室210内设置烘干装置221，在真空过渡室222内设置冷却装置223，从而可以利用烘干装置221将织物内多余的水分烘干，并利用冷却装置223使得经烘干后残留在织物表面的水分迅速液化凝固，并从织物的表面滴落，进而防止了由于织物回潮而在表面形成隔离层的风险，有利于提高镀膜效果。此外，通过设置依次相连的放卷室210、前过渡室220、镀膜装置140、后过渡室230和收卷室240使得织物的放卷、镀膜和收卷在不同的腔室内进行，使得磁控溅射镀膜系统可以容纳更大体积的织物，有利于实现织物的大批量流水线生产。本实施例的放卷室210和收卷室240均与大气联通，织物的投入和取出均在大气环境下进行，不受真空度的影响，从而可以实现织物在大气状态下的大批量连续生产。

进一步地，本实施例中的导辊170包括主动辊和从动辊，前过渡室220、镀膜装置140和后过渡室230中均设有至少一个主动辊，主动辊连接驱动设备。放卷室210中设有放布轮212，放布轮212连接驱动设备。收卷室240内设有收布轮241，收布轮241连接驱动设备。本实施例在驱动设备的驱动下使得与驱动设备相连的放布轮212、主动辊和收布轮241沿同一方向转动，从而带动织物和从动辊的运动，实现织物的运送。织物在传动过程中的张力要求选取合适的包角角度布置导辊170，驱动设备可以包括多个驱动电机，且个驱动电机的频率可根据需要进行选择。

进一步地，本实施例中的烘干装置211为红外烘干装置和/或微波烘干装置。由于本实施例运行在真空状态下，而真空不传导热能，因此，在真空状态下需要以射线形式的热加热物体。对于织物而言，其燃点很低，应采用能量控制较容易的射线形式进行加热。本实施例中采用红外烘干装置和/或微波烘干装置进行加热，红外烘干装置可以为红外辐射灯、红外辐射灯组或红外辐射灯箱等。此外，微波烘干装置能够去除织物内部的气体和水分，使织物的含水量降低，且其加热过程短，效率高，节省成本。由于微波对水分子的选择性加热，通常织物内部含水较多，加热时由内向外，与水份扩散方向一致而且内外温差小，不会出现常规干燥热分布不匀的现象，因此将红外烘干装置和微波烘干装置结合进行烘干其效果更好。

下面请继续参照图5，本实施方式的磁控溅射过渡室为上述磁控溅射镀膜系统中的前过渡室220，磁控溅射过渡室包括相互连接的预过渡室221和真空过渡室222，预过渡室221与放卷室210相连，真空过渡室222与镀膜装置140相连，预过渡室221和真空过渡室222上分别设有织物入口224和织物出口225，预过渡室221和真空过渡室222均与抽真空设备相连，预过渡室221和真空过渡室222内均设有多个导辊170，导辊170与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下多个导辊170均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口224运送至织物出口225，真空过渡室222内还设有冷却装置223。

本实施例提供的磁控溅射过渡室设置在放卷室210和镀膜装置140之间，相互连接的预过渡室221和真空过渡室222，预过渡室221与放卷室210相连，真空过渡室222与镀膜装置140相连，预过渡室221和真空过渡室222上分别设有织物入口224和织物出口225，预过渡室221和真空过渡室222均与抽真空设备相连，预过渡室221和真空过渡室222内均设有多个导辊170，导辊170与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下多个导辊170均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口224运送至织物出口225，真空过渡室222内还设有冷却装置223。本实施例通过在真空过渡室222内设置冷却装置223，使得织物经过真空过渡室222时能够迅速的降低温度，从而使得经烘干后残留在织物表面的水分迅速液化凝固，并从织物的表面滴落，进而防止了由于织物回潮而在表面形成隔离层的风险，有利于提高镀膜效果；此外本实施例通过设置与抽真空设备相连的预过渡室221将系统的真空度降低，使得织物逐渐进入真空环境中，以达到镀膜的环境要求。

进一步地，本实施例中冷却装置223可以选为水冷装置，当然本领域技术人员也可以根据需要选择其他适宜的冷却装置，本实施例对此不做进一步限定。

进一步地，本实施例中的冷却装置223设置在真空过渡室222的底部，冷却装置223包括多根相互串联的冷却水管，冷却水管的入口和出口均与外部制冷装置相连，以实现冷却水的循环利用。

进一步地，本实施例的多个导辊170中至少包括一个主动辊，主动辊与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下，主动辊通过织物带动从动辊沿同一方向转动，从而将从动辊从织物入口224运送至织物出口225。

其中，该驱动设备可选为驱动电机等现有技术下常用的设备。

进一步地，本实施例的预过渡室221和真空过渡室222内还设有多个竖直挡板226，多个竖直挡板226将预过渡室221和真空过渡室222分成多个腔室，由放卷室210至镀膜装置140的方向上多个腔室中的真空度逐级升高，多个腔室可均与抽真空设备相连，从而可以使得抽真空时间大大降低，节省生产时间。采用真空度逐级升高的腔室还能够有效的保护镀膜装置140的稳定性。

进一步地，本实施例中的竖直挡板226上均设有供织物通过的通孔227，织物入口224、织物出口225和通孔227的尺寸略大于织物的厚度，即只要能够满足织物正常通过即可，且越小越好，从而有效增加空气流阻，减小相邻腔室内真空度相互影响。在一个可选的实施方式中，织物入口224、织物出口225和通孔227的尺寸均大于织物厚度1-5mm，当然，本领域技术人员清楚的是上述尺寸可根据实际需要进行确定。

更进一步地，通孔227水平设置或倾斜设置，相邻的通孔227的高度不同。倾斜设置的通孔227及相邻两个通孔227的高度差都能进一步增大流阻，减少相邻腔室之间的影响。

进一步地，位于真空过渡室222中的通孔227的上方还设有保护板228，保护板228与真空过渡室222的侧壁铰接连接，保护板228的转动可将通孔227封堵上，在真空状态下，保护板228水平设置，当相邻腔室出现故障时，真空度急剧降低，此时，保护板228所在腔室的真空度发生改变，保护板228降落，旋转90°挡住上述开孔，从而保护系统后面的腔室不受损害。

实施例三

图6为本实用新型一实施例提供的磁控溅射镀膜装置的局部结构图；请参照图6。本实施例提供的磁控溅射镀膜装置140可应用于上述实施例一或实施例二所述的磁控溅射镀膜系统中，磁控溅射镀膜装置140包括多个磁控溅射镀膜室141，相邻的磁控溅射镀膜室141之间设有真空隔离室142，真空隔离室142连接抽真空设备，真空隔离室142内设有多个导辊170，多个导辊170中至少包括一个主动辊，主动辊与驱动设备相连，以带动织物向前运动。真空隔离室142能够有效防止相邻镀膜室141之间串气。

进一步地，本实施例的真空隔离室142表面设有观察窗口，真空隔离室还连接有监测系统，监测系统包括设置在真空隔离室内的传感器，传感器与外部处理器通讯连接。传感器可以包括温度传感器和压力传感器，工作人员根据监测到的温度和压力结合织物表面的镀膜情况可以实时调整工艺参数。

本实施例的磁控溅射镀膜室141，包括壳体143，壳体143相对的两侧壁上分别设有织物入口144和织物出口145，壳体143的内部与抽真空设备相连，壳体143的内部设有镀膜辊146和多个导辊170，镀膜辊146和导辊170均与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下镀膜辊146和多个导辊170均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口144运送至织物出口145；镀膜辊146的下方还设有多个溅射源147，多个溅射源147与镀膜辊146之间形成镀膜间隙，相邻的溅射源147之间设有溅射源挡板148，溅射源挡板148与镀膜辊146之间形成有供织物通过的间隙。

本实施例提供的磁控溅射镀膜装置，其镀膜室141包括壳体143，壳体143相对的两侧壁上分别设有织物入口144和织物出口145，壳体143的内部与抽真空设备相连，壳体143的内部设有镀膜辊146和多个导辊170，镀膜辊146和导辊170均与驱动设备相连，在驱动设备的驱动下镀膜辊146和多个导辊170均沿相同的方向转动，以将织物由织物入口144运送至织物出口145；镀膜辊146的下方还设有多个溅射源147，多个溅射源147与镀膜辊146之间形成镀膜间隙，相邻的溅射源147之间设有溅射源挡板148，溅射源挡板148与镀膜辊146之间形成有供织物通过的间隙。本实施例通过在相邻溅射源147之间设置溅射源挡板148以消除相邻溅射源147在溅射时的相互影响，使得织物镀膜层的厚度更加均匀；本实施例的镀膜室141设有织物入口144和织物出口145，织物在镀膜室中只进行镀膜作业，可以通过串联多个镀膜室141的形式实现织物镀膜的大批量流水线生产。

进一步地，本实施例中的多个导辊170中至少包括一个主动辊，主动辊和镀膜辊146与驱动设备相连。

进一步地，本实施例中的溅射源147沿镀膜辊146的周向方向等间距设置。即溅射源147到镀膜辊146之间的距离均相等，从而使溅射时各溅射源内的靶材粒子通过的距离相等，有效保证了镀膜层的质量。

更进一步地，本实施例中多个溅射源147中的靶材相同或不同。即多个溅射源147中的靶材可以根据需要设置成相同的靶材，也可以设置成不同的靶材，本实施例对此不做进一步限定。同时本实施例也不对溅射源147的数量进行限定，在一个可选的实施方式中，溅射源147的数量为4-6个。

可选的，还设有连接镀膜辊146和多个溅射源147的冷却系统，冷却系统可以为水冷系统，用于为溅射源147和镀膜辊146进行降温，保证镀膜作业的正常进行，利用镀膜辊间接为织物降温，避免织物温度过高而焦化。

进一步地，壳体143内部还设有水平隔板149，水平隔板149的一端与壳体143的内壁固定连接，另一端与镀膜辊146之间形成有供织物通过的间隙，水平隔板149将壳体143的内部分成传送室和溅射室，传送室位于溅射室的上方，多个导辊170位于传送室内，多个溅射源147位于溅射室内。水平隔板149将壳体143的内部分成传送室和溅射室，传送室和溅射室可以均连接抽真空设备。传送室可以起到真空隔离室的作用，能够有效降低气体的扩散，保持真空度，也能够加快溅射源147所在区域的抽气速度，节省抽气时间，降低抽气及生产成本。

进一步地，织物入口144、织物出口145、溅射源挡板148与镀膜辊146之间的间隙和水平隔板149与镀膜辊146之间的间隙均略大于织物的厚度，即只要能够满足织物正常通过即可，且越小越好，从而有效增大流阻，减小了气体的扩散，避免串气，更利于磁控溅射镀膜及真空度的维持。在一个可选的实施方式中，织物入口144、织物出口145、溅射源挡板148与镀膜辊146之间的间隙和水平隔板149与镀膜辊146之间的间隙均大于织物厚度1-5mm，当然，本领域技术人员清楚的是上述尺寸可根据实际需要进行确定。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围。

Claims (8)

1.一种磁控溅射镀膜室，其特征在于，包括壳体，所述壳体相对的两侧壁上分别设有织物入口和织物出口，所述壳体的内部与抽真空设备相连，所述壳体的内部设有镀膜辊和多个导辊，所述镀膜辊和导辊均与驱动设备相连，在所述驱动设备的驱动下所述镀膜辊和多个所述导辊均沿相同的方向转动，以将织物由所述织物入口运送至所述织物出口；所述镀膜辊的下方还设有多个溅射源，多个所述溅射源与所述镀膜辊之间形成镀膜间隙，相邻的所述溅射源之间设有溅射源挡板，所述溅射源挡板与所述镀膜辊之间形成有供所述织物通过的间隙。

2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜室，其特征在于，多个所述导辊中至少包括一个主动辊，所述主动辊和所述镀膜辊与所述驱动设备相连。

3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述溅射源沿所述镀膜辊的周向方向等间距设置。

4.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜室，其特征在于，多个所述溅射源中的靶材相同或不同。

5.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜室，其特征在于，还设有连接所述镀膜辊和多个所述溅射源的冷却系统。

6.根据权利要求1-5中任一所述的磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述壳体内部还设有水平隔板，所述水平隔板的一端与所述壳体的内壁固定连接，另一端与所述镀膜辊之间形成有供所述织物通过的间隙，所述水平隔板将所述壳体的内部分成传送室和溅射室，所述传送室位于所述溅射室的上方，多个所述导辊位于所述传送室内，多个所述溅射源位于所述溅射室内。

7.根据权利要求6所述的磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述传送室和所述溅射室均与所述抽真空设备相连。

8.根据权利要求7所述的磁控溅射镀膜室，其特征在于，所述织物入口、织物出口、所述溅射源挡板与所述镀膜辊之间的间隙和所述水平隔板与所述镀膜辊之间的间隙均大于所述织物厚度1-5mm。