CN209412308U - 一种真空镀膜装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空镀膜装置，包括依次连接的动力输入轴、万向节、支撑架及转盘，所述动力输入轴用于提供动力，所述动力输入轴和万向节驱动转盘转动，待镀膜工件在所述转盘中，随所述转盘的转动而转动，以实现工件的镀膜。本实用新型中的真空镀膜装置，能够满足轴承滚珠等球形或类球形工件的真空镀膜需求，工件的整个球面可以均匀镀膜。镀膜后工件表面的表面圆度、粗糙度及膜层厚度能得到保证，解决了镀膜不均匀及效果差的问题。同时可用于不同直径的球形工件的真空镀膜，装置体积小，结构简单，实用性、通用性强，镀膜工件数量多，镀膜品质好，成品率高，可以在空间有限的镀膜设备真空室内放置多个镀膜装置，提高效率。

Description

一种真空镀膜装置

技术领域

本实用新型属于镀膜装置技术领域，具体涉及一种真空镀膜装置。

背景技术

球形工件因其转动灵活、连接方便等优点，日渐受到设备、转向等企业的青睐，轴承中的滚珠就是球形工件的典型代表。轴承主要用于支撑机械旋转体，可以在使用过程中降低机械载荷及摩擦系数，直接决定着重大装备和主机产品的性能和可靠性，被誉为装备制造的心脏部件，滚珠是轴承的核心部件，是机械装备的心脏的心脏。

真空镀膜技术是在真空条件下，利用气体放电使气体电离，然后通过蒸发或轰击高纯靶材，将其均匀沉积在所需镀膜的基体表面的方法，包括磁控溅射、离子束溅射、脉冲激光沉积、热蒸发、电子束蒸发等。

球形工件的真空镀膜一直是行业难题，因为真空镀膜的工件都需要有夹具夹装，将工件固定，这样必然造成部分部位被遮盖而出现漏镀和镀膜不均，而滚珠等球形工件需要整个球体均匀完整镀膜。因此传统夹具不能适应球形工件的镀膜需求，而设计一种简单、普实的球形工件专用夹具是非常必要的。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种真空镀膜装置，以克服现有技术中的不足。

为实现前述目的，本实用新型采用的技术方案包括：

本实用新型实施例提供了一种真空镀膜装置，包括依次连接的动力输入轴、万向节、支撑架及转盘，所述动力输入轴用于提供动力，所述动力输入轴和万向节驱动转盘转动，待镀膜工件在所述转盘中，随所述转盘的转动而转动，以实现工件的镀膜。

在一些实施例中，所述转盘呈开口状。

在一些实施例中，所述转盘上设有多个孔洞。

在一些实施例中，所述转盘为类半球形。

在一些实施例中，所述转盘与水平面呈0°-45°的夹角。

在一些实施例中，所述动力输入轴和万向节驱动转盘自转，待镀膜工件随所述转盘的自转而进行自转和/或公转。

在一些实施例中，所述真空镀膜装置位于真空镀膜腔体内。

在一些实施例中，所述动力输入轴用于提供动力，并通过万向节将力矩传递至所述转盘。

在一些实施例中，所述转盘匀速转动，待镀膜工件随所述转盘的匀速转动而匀速转动。

在一些实施例中，所述待镀膜工件的形状为球形和/或类球形。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果包括：

本实用新型的真空镀膜装置，能够满足轴承滚珠等球形或类球形工件的抗磨减磨真空镀膜需求，工件的整个球面可以均匀镀膜。镀膜后工件表面的表面圆度、粗糙度及膜层厚度能得到保证，解决了镀膜不均匀及效果差的问题。

本实用新型可用于不同直径的球形工件的真空镀膜，装置体积小，结构简单，实用性、通用性强，镀膜工件数量多，镀膜品质好，成品率高。可以在空间有限的镀膜设备真空室内放置多个镀膜装置，提高效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例中真空镀膜装置的结构示意图。

图中：1、动力输入轴；2、万向节；3、支撑架；4、转盘；5、开口；6、孔洞。

具体实施方式

鉴于现有技术中的不足，本案发明人经长期研究和大量实践，得以提出本实用新型的技术方案。如下将对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明。

本实用新型实施例提供的一种真空镀膜装置，包括依次连接的动力输入轴、万向节、支撑架及转盘，所述动力输入轴用于提供动力，所述动力输入轴和万向节驱动转盘转动，待镀膜工件在所述转盘中，随所述转盘的转动而转动，以实现工件的镀膜。

在一些实施方案中，所述转盘呈开口状。

在一些实施方案中，所述转盘上设有多个孔洞。

在一些实施方案中，所述转盘为类半球形。

在一些实施方案中，所述转盘与水平面呈0°-45°的夹角。

在一些实施方案中，所述动力输入轴和万向节驱动转盘自转，待镀膜工件随所述转盘的自转而进行自转和/或公转。

在一些实施方案中，所述真空镀膜装置位于真空镀膜腔体内。

在一些实施方案中，所述动力输入轴用于提供动力，并通过万向节将力矩传递至所述转盘。

在一些实施方案中，所述转盘匀速转动，待镀膜工件随所述转盘的匀速转动而匀速转动。

在一些实施方案中，所述待镀膜工件的形状为球形和/或类球形。

本实用新型中的真空镀膜装置，可以应用于磁控溅射和多弧离子镀等，但不限于此。

以下通过实施例并结合附图进一步详细说明本实用新型的技术方案。然而，所选的实施例仅用于说明本实用新型，而不限制本实用新型的范围。

请参见图1，该实施例提供的一种真空镀膜装置，包括依次连接的动力输入轴1、万向节2、支撑架3及转盘4，动力输入轴1用于提供动力，动力输入轴1和万向节2驱动转盘4转动，待镀膜工件在转盘4中，随转盘4的转动而转动，以实现工件的镀膜。

其中，待镀膜工件的形状为球形和/或类球形，优选为球形工件。

转盘4的内壁光滑，为类半球形，呈开口状，转盘4的顶部具有开口5，侧壁布满孔洞6。真空镀膜装置在工作时，转盘4与水平面呈0°-45°的夹角。支撑架3用于支撑转盘4。

动力输入轴1用于将动力从外部引入，并通过万向节2将力矩从竖直方向的动力输入轴传递给倾斜的旋转转盘4上，动力输入轴1和万向节2驱动转盘4自转，待镀膜工件置于转盘中，随转盘4的自转而进行自转和/或公转。

其中，转盘4可以随着转动轴进行匀速自转，待镀膜工件随转盘的匀速转动而匀速地自转和/或公转，并束缚在转盘内不会掉出转盘。在镀膜过程中，整个镀膜装置置于真空镀膜腔体内。

在进行工件镀膜时，进行如下步骤：

将真空镀膜装置置于真空镀膜腔体内，以对工件进行镀膜；

将待镀膜工件放置在转盘4中，启动外部动力，通过动力输入轴1和万向节2带动转盘4匀速转动，转盘4中的工件随着转盘做自传和公转，通过转盘顶部开口和侧壁孔洞，保证工件整个球面完全镀膜的要求，最终完成工件表面的镀膜处理。

工件镀膜后随机测量膜层厚度，厚度为2.8μm左右。

当工件选用球形滚珠时，其在实际镀TiN膜后，工件的整个球面都可以均匀镀膜。镀膜后工件表面的表面圆度、粗糙度及膜层厚度都能得到保证。

本实用新型的真空镀膜装置，能够满足轴承滚珠等球形或类球形工件的真空镀膜需求，工件的整个球面可以均匀镀膜。镀膜后工件表面的表面圆度、粗糙度及膜层厚度能得到保证，解决了镀膜不均匀及效果差的问题。同时可用于不同直径的球形工件的真空镀膜，装置体积小，结构简单，实用性、通用性强，镀膜工件数量多，镀膜品质好，成品率高，可以在空间有限的镀膜设备真空室内放置多个镀膜装置，提高效率。

应当理解，以上所述的仅是本实用新型的一些实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型的创造构思的前提下，还可以做出其它变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种真空镀膜装置，其特征在于：包括依次连接的动力输入轴、万向节、支撑架及转盘，所述动力输入轴用于提供动力，所述动力输入轴和万向节驱动转盘转动，待镀膜工件在所述转盘中，随所述转盘的转动而转动，以实现工件的镀膜。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘呈开口状。

3.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘上设有多个孔洞。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘为类半球形。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘与水平面呈0°-45°的夹角。

6.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述动力输入轴和万向节驱动转盘自转，待镀膜工件随所述转盘的自转而进行自转和/或公转。

7.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述真空镀膜装置位于真空镀膜腔体内。

8.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述动力输入轴用于提供动力，并通过万向节将力矩传递至所述转盘。

9.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述转盘匀速转动，待镀膜工件随所述转盘的匀速转动而匀速转动。

10.根据权利要求1所述的真空镀膜装置，其特征在于：所述待镀膜工件的形状为球形和/或类球形。