CN208266263U - 一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，包括传送台、隔断板和辊筒，所述传送台的上端安装有镀膜仓，且镀膜仓的上端连接有真空泵，所述隔断板设置于镀膜仓的内部，且隔断板的外侧安装有固定螺栓，所述隔断板的下端安置有空气隔离室，且空气隔离室的左右两端设置有气体放置室。该立式多层连续真空磁控镀膜生产线镀膜仓通过隔断板和固定螺栓与空气隔离室构成拆卸结构，可以将隔断板与镀膜仓连接，使空气隔离室与镀膜仓连接固定，可以通过固定螺栓将空气隔离室与镀膜仓之间的位置固定，可以通过外接气体管可以将气体流通到气体放置室的内部，气体放置室内部的气体对于所需镀膜的产品进行喷洒式镀膜。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，具体为一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线。
背景技术
真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法，例如，真空镀铝、真空镀铬等，真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺，简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
市场上的镀膜线只能镀单一或者同种气体的膜层的问题，为此，我们提出一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，以解决上述背景技术中提出的市场上的镀膜线只能镀单一或者同种气体的膜层的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，包括传送台、隔断板和辊筒，所述传送台的上端安装有镀膜仓，且镀膜仓的上端连接有真空泵，所述隔断板设置于镀膜仓的内部，且隔断板的外侧安装有固定螺栓，所述隔断板的下端安置有空气隔离室，且空气隔离室的左右两端设置有气体放置室，所述气体放置室的外侧连接有外接气体管，所述辊筒设置于镀膜仓内部的下端，且辊筒的外侧连接有传送皮带，所述传送皮带的下端安装有伺服电机，所述传送台的下端设置有控制面板，且控制面板的左右两侧均设置有底座，所述底座的内部固定有连接凹槽，且连接凹槽的外侧连接有连接凸块，所述镀膜仓的外侧安置有检视窗。
优选的，所述镀膜仓通过隔断板和固定螺栓与空气隔离室构成拆卸结构，且隔断板与空气隔离室构成一体化结构。
优选的，所述隔断板与固定螺栓构成活动结构，且隔断板与固定螺栓之间的尺寸相吻合。
优选的，所述气体放置室与外接气体管为一组，共有4组，且每两组之间关于镀膜仓的中心线互相对称。
优选的，所述辊筒通过传送皮带与伺服电机构成转动结构，且其转动范围为0-360°。
优选的，所述底座通过连接凹槽与连接凸块构成螺纹结构，且连接凸块垂直贯穿于连接凹槽的内部。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该立式多层连续真空磁控镀膜生产线镀膜仓通过隔断板和固定螺栓与空气隔离室构成拆卸结构，可以将隔断板与镀膜仓连接，使空气隔离室与镀膜仓连接固定，可以通过固定螺栓将空气隔离室与镀膜仓之间的位置固定，可以通过外接气体管可以将气体流通到气体放置室的内部，气体放置室内部的气体对于所需镀膜的产品进行喷洒式镀膜，辊筒通过传送皮带与伺服电机构成转动结构，通过伺服电机可以控制辊筒的滚动方向，从而使所需镀膜产品可往返，可以将底座与基体连接，通过连接凸块贯穿于连接凹槽的内部，将底座与基体之间连接固定，从而使其位置不会发生改变，设有往返功能，中间有气体隔离室，可以同时镀不同布气的两种膜层，如镀二氧化硅加石墨，铬加二氧化钛，铝加二氧化硅等在同时镀膜中不会相互污染，解决了连续镀膜机不能同时镀不同气体要求的工艺问题，提高了镀层效率和镀膜质量。
附图说明
图1为本实用新型内部结构示意图；
图2为本实用新型镀膜仓正面放大结构示意图；
图3为本实用新型图1中A处放大结构示意图。
图中：1、传送台，2、镀膜仓，3、真空泵，4、隔断板，5、固定螺栓，6、空气隔离室，7、气体放置室，8、外接气体管，9、辊筒，10、传送皮带，11、伺服电机，12、控制面板，13、底座，14、连接凹槽，15、连接凸块，16、检视窗。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，包括传送台1、镀膜仓2、真空泵3、隔断板4、固定螺栓5、空气隔离室6、气体放置室7、外接气体管8、辊筒9、传送皮带10、伺服电机11、控制面板12、底座13、连接凹槽14、连接凸块15和检视窗16，传送台1的上端安装有镀膜仓2，且镀膜仓2的上端连接有真空泵3，隔断板4设置于镀膜仓2的内部，且隔断板4的外侧安装有固定螺栓5，隔断板4与固定螺栓5构成活动结构，且隔断板4与固定螺栓5之间的尺寸相吻合，可以通过固定螺栓5将空气隔离室6与镀膜仓2之间的位置固定，隔断板4的下端安置有空气隔离室6，且空气隔离室6的左右两端设置有气体放置室7，镀膜仓2通过隔断板4和固定螺栓5与空气隔离室6构成拆卸结构，且隔断板4与空气隔离室6构成一体化结构，可以将隔断板4与镀膜仓2连接，使空气隔离室6与镀膜仓2连接固定，气体放置室7的外侧连接有外接气体管8，气体放置室7与外接气体管8为一组，共有4组，且每两组之间关于镀膜仓2的中心线互相对称，可以通过外接气体管8可以将气体流通到气体放置室7的内部，气体放置室7内部的气体对于所需镀膜的产品进行喷洒式镀膜，辊筒9设置于镀膜仓2内部的下端，且辊筒9的外侧连接有传送皮带10，传送皮带10的下端安装有伺服电机11，辊筒9通过传送皮带10与伺服电机11构成转动结构，且其转动范围为0-360°，通过伺服电机11可以控制辊筒9的滚动方向，从而使所需镀膜产品可往返，传送台1的下端设置有控制面板12，且控制面板12的左右两侧均设置有底座13，底座13的内部固定有连接凹槽14，且连接凹槽14的外侧连接有连接凸块15，底座13通过连接凹槽14与连接凸块15构成螺纹结构，且连接凸块15垂直贯穿于连接凹槽14的内部，将底座13与基体连接，通过连接凸块15贯穿于连接凹槽14的内部，将底座13与基体之间连接固定，从而使其位置不会发生改变，镀膜仓2的外侧安置有检视窗16。
工作原理：对于这一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，首先启动伺服电机11，伺服电机11开始转动，伺服电机11带动传送皮带10转动，传送皮带10带动辊筒9进行滚动，将所需镀膜的产品传送到镀膜仓2的内部，启动真空泵3，使镀膜仓2内部进行真空镀膜，通过外接气体管8可以将气体流通到气体放置室7的内部，气体放置室7内部的气体对于所需镀膜的产品进行喷洒式镀膜，将隔断板4与镀膜仓2连接，使空气隔离室6与镀膜仓2连接固定，通过固定螺栓5将其之间的位置固定，通过伺服电机11可以控制辊筒9的滚动方向，从而使所需镀膜产品可往返，通过控制面板12可以对于整个流水线进行调控，将底座13与基体连接，通过连接凸块15贯穿于连接凹槽14的内部，将底座13与基体之间连接固定，从而使其位置不会发生改变，通过检视窗16可以观察到整个镀膜仓2内部镀膜情况，就这样完成整个立式多层连续真空磁控镀膜生产线的使用过程。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，包括传送台(1)、隔断板(4)和辊筒(9)，其特征在于：所述传送台(1)的上端安装有镀膜仓(2)，且镀膜仓(2)的上端连接有真空泵(3)，所述隔断板(4)设置于镀膜仓(2)的内部，且隔断板(4)的外侧安装有固定螺栓(5)，所述隔断板(4)的下端安置有空气隔离室(6)，且空气隔离室(6)的左右两端设置有气体放置室(7)，所述气体放置室(7)的外侧连接有外接气体管(8)，所述辊筒(9)设置于镀膜仓(2)内部的下端，且辊筒(9)的外侧连接有传送皮带(10)，所述传送皮带(10)的下端安装有伺服电机(11)，所述传送台(1)的下端设置有控制面板(12)，且控制面板(12)的左右两侧均设置有底座(13)，所述底座(13)的内部固定有连接凹槽(14)，且连接凹槽(14)的外侧连接有连接凸块(15)，所述镀膜仓(2)的外侧安置有检视窗(16)。
2.根据权利要求1所述的一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，其特征在于：所述镀膜仓(2)通过隔断板(4)和固定螺栓(5)与空气隔离室(6)构成拆卸结构，且隔断板(4)与空气隔离室(6)构成一体化结构。
3.根据权利要求1所述的一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，其特征在于：所述隔断板(4)与固定螺栓(5)构成活动结构，且隔断板(4)与固定螺栓(5)之间的尺寸相吻合。
4.根据权利要求1所述的一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，其特征在于：所述气体放置室(7)与外接气体管(8)为一组，共有4组，且每两组之间关于镀膜仓(2)的中心线互相对称。
5.根据权利要求1所述的一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，其特征在于：所述辊筒(9)通过传送皮带(10)与伺服电机(11)构成转动结构，且其转动范围为0-360°。
6.根据权利要求1所述的一种立式多层连续真空磁控镀膜生产线，其特征在于：所述底座(13)通过连接凹槽(14)与连接凸块(15)构成螺纹结构，且连接凸块(15)垂直贯穿于连接凹槽(14)的内部。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113061870A (zh) * | 2021-04-02 | 2021-07-02 | 泸州韶光智造科技有限公司 | 一种用于光学薄膜元器件的连续真空镀膜生产线及方法 |
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2018
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