CN209205921U - 一种硅片用自动清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种硅片用自动清洗装置，包括承载板以及安装架，所述安装架安置于承载板上壁面，且侧壁面安装有动态清洗结构，所述承载板上壁面且位于动态清洗结构下方安装有超声震动结构，本实用新型涉及硅片清洗技术领域，通过动态清洗结构实现了硅片的动态清洗过程，通过超声震动结构使得清洗的更加彻底，通过上述结构的相互配合，实现了硅片自动动态清洗的功能。

Description

一种硅片用自动清洗装置

技术领域

本实用新型涉及硅片清洗技术领域，具体为一种硅片用自动清洗装置。

背景技术

微电子技术正在悄悄走进航空航天、工业、农业和国防，也正在悄悄进入每一个家庭，小小硅片的巨大“魔力”是我们的前人根本无法想象的。

然而目前在硅片清洗过程中，若使用专业的硅片清洗机不仅成本加高，而且维修费用较高昂，使用普通的清洗机只能成完成静态的清洗过程，清洗过程单一，无法保证硅片的清洗效率，鉴于此，针对上述问题，深入研究，遂有本案产生。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片用自动清洗装置，解决了目前在硅片清洗过程中，若使用专业的硅片清洗机不仅成本加高，而且维修费用较高昂，使用普通的清洗机只能成完成静态的清洗过程，清洗过程单一，无法保证硅片的清洗效率的问题。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种硅片用自动清洗装置，包括承载板以及安装架，所述安装架安置于承载板上壁面，且侧壁面安装有动态清洗结构，所述承载板上壁面且位于动态清洗结构下方安装有超声震动结构；

所述动态清洗结构，其包括：第一伺服电机、连接杆、Y型旋转杆、活动杆、固定杆以及放置架；

所述第一伺服电机安置于安装架侧壁面，所述连接杆安置于第一伺服电机驱动端上，所述Y型旋转杆安置于连接杆上，所述活动杆活动连接与Y型旋转杆上，所述固定杆安置于活动杆侧壁面，所述放置架安置于Y型旋转杆另一侧端头上；

所述超声震动结构，其包括：第二伺服电机、安装板、支撑杆、一对结构相同的超声波发生器、一对结构相同的超声波换能器以及洗液盆；

所述第二伺服电机安置于承载板上壁面，所述安装板安置于第二伺服电机驱动端上，所述支撑杆安置于安装板上壁面，一对所述超声波发生器安置于安装板上壁面且位于支撑杆两侧，一对所述超声波换能器安置于一对所述超声波发生器端头上，所述洗液盆安置于支撑杆上。

优选的，所述洗液盆侧壁面安装有排水阀：该排水阀用于排放清洗液。

优选的，所述放置架内开设有卡槽：该卡槽用于固定硅片。

优选的，所述洗液盆侧壁面安装有喷头：该喷头用于二次清洗。

优选的，所述承载板下壁面安装有万向轮：该万向轮用于装置辅助移动。

优选的，所述洗液喷内壁面安装有密封垫：该密封垫放置清洗液泄漏泄漏。

有益效果

针对上述问题，本实用新型提供了一种硅片用自动清洗装置。具备以下有益效果:该装置设计合理，通过动态清洗结构实现了硅片的动态清洗过程，通过超声震动结构使得清洗的更加彻底，解决了目前在硅片清洗过程中，若使用专业的硅片清洗机不仅成本加高，而且维修费用较高昂，使用普通的清洗机只能成完成静态的清洗过程，清洗过程单一，无法保证硅片的清洗效率的问题。

附图说明

图1为本实用新型所述一种硅片用自动清洗装置主视结构示意图；

图2为本实用新型所述一种硅片用自动清洗装置俯视结构示意图；

图3为本实用新型所述一种硅片用自动清洗装置侧视结构示意图。

图中：1-承载板；2-安装架；3-第一伺服电机；4-连接杆；5-Y型旋转杆；6-活动杆；7-固定杆；8-放置架；9-第二伺服电机；10-安装板；11-支撑杆；12-超声波发生器；13-超声波换能器；14-洗液盆；15-排水阀；16-喷头；17-万向轮；18-密封垫。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种硅片用自动清洗装置，包括承载板1以及安装架2，所述安装架2安置于承载板1上壁面，且侧壁面安装有动态清洗结构，所述承载板1上壁面且位于动态清洗结构下方安装有超声震动结构，所述动态清洗结构，其包括：第一伺服电机3、连接杆4、Y 型旋转杆5、活动杆6、固定杆7以及放置架8，所述第一伺服电机3安置于安装架2侧壁面，所述连接杆4安置于第一伺服电机3驱动端上，所述Y型旋转杆5安置于连接杆4上，所述活动杆6活动连接与Y型旋转杆5上，所述固定杆7安置于活动杆6侧壁面，所述放置架8安置于Y型旋转杆5另一侧端头上，所述超声震动结构，其包括：第二伺服电机9、安装板10、支撑杆11、一对结构相同的超声波发生器12、一对结构相同的超声波换能器13 以及洗液盆14，所述第二伺服电机9安置于承载板1上壁面，所述安装板10 安置于第二伺服电机9驱动端上，所述支撑杆11安置于安装板10上壁面，一对所述超声波发生器12安置于安装板10上壁面且位于支撑杆11两侧，一对所述超声波换能器13安置于一对所述超声波发生器12端头上，所述洗液盆14安置于支撑杆11上，所述洗液盆14侧壁面安装有排水阀15：该排水阀 15用于排放清洗液；所述放置架8内开设有卡槽：该卡槽用于固定硅片；所述洗液盆14侧壁面安装有喷头16：该喷头16用于二次清洗；所述承载板1 下壁面安装有万向轮17：该万向轮17用于装置辅助移动；所述洗液盆14内壁面安装有密封垫18：该密封垫18放置清洗液泄漏泄漏。

通过本领域人员，将本案中所有电气件与其适配的电源通过导线进行连接，并且应该根据实际情况，选择合适的控制器，以满足控制需求，具体连接以及控制顺序，应参考下述工作原理中，各电气件之间先后工作顺序完成电性连接，其详细连接手段，为本领域公知技术，下述主要介绍工作原理以及过程，不在对电气控制做说明。

下列为本案中所提及的部分电气件的具体结构以及作用；

第一伺服电机：采用欧得克自动化专营店生产的行星伺服电机。

第二伺服电机：采用欧得克自动化专营店生产的行星伺服电机。

超声波发生器：采用深圳市科美达超声波设备公司生产的2018新款超声波发生器。

超声波换能器：采用深圳市科美达超声波设备公司生产的超声波换能器。

排水阀：采用大漠山旗舰店生产的PVC活接球阀。

电机驱动器：采用科尔摩根伺服驱动器的S700系列驱动器，驱动器又称为“伺服控制器”、“伺服放大器”，是用来控制伺服电机的一种控制器，其作用类似于变频器作用于普通交流马达，属于伺服系统的一部分，主要应用于高精度的定位系统。一般是通过位置、速度和力矩三种方式对伺服电机进行控制，实现高精度的传动系统定位，目前是传动技术的高端产品。

下列为本案中的承载板、安装架、Y型旋转杆、放置架、洗液盆以及密封垫形状以及材质的说明；

承载板：采用Q235材质的长方形板体。

安装架：采用Q235材质的长方形板体。

Y型旋转杆：采用Q235材质的Y型杆。

放置架：采用PTEE材质的带卡槽架。

洗液盆：采用PTEE材质的长方形盆体。

密封垫：采用耐腐蚀尼龙材质的垫。

实施例：在使用此装置时，将硅片放置在放置架8卡槽内，随后将清洗液倒入洗液盆14内，随后启动电源，控制器发出信号，电机驱动器接收到信号后控制第一伺服电机3驱动端旋转，带动与之连接的连接杆4摆动，由于Y 型旋转杆5另一侧通过活动杆6固定在固定杆7上，因此Y型旋转杆5便会做旋转运动，因此带动了与之连接的放置架8上下摆动，使得硅片在清洗液内不停地运动，随后第二伺服电机9驱动端旋转，带动安装在其上的安装板 10旋转，因此便带动了洗液盆14有规律的左右旋转，超声波发生器12产生超声波，超声波换能器13将超声波转换成机械能，使得清洗液震动，让其使得硅片清洗的更加干净，通过上述部件的相互配合，实现了硅片的动态清洗功能。

作为优选方案，更进一步的，洗液盆14侧壁面安装有排水阀15：该排水阀15用于排放清洗液。

作为优选方案，更进一步的，放置架8内开设有卡槽：该卡槽用于固定硅片。

作为优选方案，更进一步的，洗液盆14侧壁面安装有喷头16：该喷头 16用于二次清洗。

作为优选方案，更进一步的，承载板1下壁面安装有万向轮17：该万向轮17用于装置辅助移动。

作为优选方案，更进一步的，洗液盆14内壁面安装有密封垫18：该密封垫18放置清洗液泄漏泄漏。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下。由语句“包括一个......限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素”。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种硅片用自动清洗装置，包括承载板(1)以及安装架(2)，其特征在于，所述安装架(2)安置于承载板(1)上壁面，且侧壁面安装有动态清洗结构，所述承载板(1)上壁面且位于动态清洗结构下方安装有超声震动结构；

所述动态清洗结构，其包括：第一伺服电机(3)、连接杆(4)、Y型旋转杆(5)、活动杆(6)、固定杆(7)以及放置架(8)；

所述第一伺服电机(3)安置于安装架(2)侧壁面，所述连接杆(4)安置于第一伺服电机(3)驱动端上，所述Y型旋转杆(5)安置于连接杆(4)上，所述活动杆(6)活动连接与Y型旋转杆(5)上，所述固定杆(7)安置于活动杆(6)侧壁面，所述放置架(8)安置于Y型旋转杆(5)另一侧端头上；

所述超声震动结构，其包括：第二伺服电机(9)、安装板(10)、支撑杆(11)、一对结构相同的超声波发生器(12)、一对结构相同的超声波换能器(13)以及洗液盆(14)；

所述第二伺服电机(9)安置于承载板(1)上壁面，所述安装板(10)安置于第二伺服电机(9)驱动端上，所述支撑杆(11)安置于安装板(10)上壁面，一对所述超声波发生器(12)安置于安装板(10)上壁面且位于支撑杆(11)两侧，一对所述超声波换能器(13)安置于一对所述超声波发生器(12)端头上，所述洗液盆(14)安置于支撑杆(11)上。

2.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述洗液盆(14)侧壁面安装有排水阀(15)：该排水阀(15)用于排放清洗液。

3.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述放置架(8)内开设有卡槽：该卡槽用于固定硅片。

4.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述洗液盆(14)侧壁面安装有喷头(16)：该喷头(16)用于二次清洗。

5.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述承载板(1)下壁面安装有万向轮(17)：该万向轮(17)用于装置辅助移动。

6.根据权利要求1所述的一种硅片用自动清洗装置，其特征在于,所述洗液盆(14)内壁面安装有密封垫(18)：该密封垫(18)防止清洗液泄漏。