CN209205897U - 砷化镓晶片片盒清洗装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种清洗装置，尤其为砷化镓晶片片盒清洗装置，包括清洗机、砷化镓晶片盒、清洗喷头和铝合金软管，所述清洗机基面固定安装有箱门，所述箱门上镶嵌设置有控制开关，所述清洗机顶部开设有清洗槽，所述清洗槽底部开设有若干组气孔，所述清洗槽的内部放置有砷化镓晶片盒，所述砷化镓晶片盒包括盒盖和盒体，所述盒体的内部镶嵌设置有放置槽，所述清洗机顶部固定安装有固定座，所述固定座上开设有通孔，所述清洗机的顶部设置有清洗喷头，所述清洗喷头和通孔通过铝合金软管贯通连接，所述清洗喷头一侧镶嵌设置有清洗开关，所述清洗喷头远离清洗开关一侧开设有弧形凹槽，本实用新型整体装置结构简单，便于二次利用，具有一定的推广作用。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种清洗装置，具体为砷化镓晶片片盒清洗装置。
背景技术
砷化镓晶片是镓和砷两种元素所合成的化合物，也是重要的IIIA族、VA族化合物半导体材料，用来制作微波集成电路、红外线发光二极管、半导体激光器和太阳电池等元件，一般情况下，砷化镓晶片都是放置在专用的砷化镓晶片盒内，但是砷化镓晶片盒长期使用会产生一定的污染，需要对其进行清洗，以便二次利用，因此需要砷化镓晶片片盒清洗装置对上述问题做出改善。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供砷化镓晶片片盒清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
砷化镓晶片片盒清洗装置，包括清洗机、砷化镓晶片盒、清洗喷头和铝合金软管，所述清洗机基面固定安装有箱门，所述箱门上镶嵌设置有控制开关，所述清洗机顶部开设有清洗槽，所述清洗槽底部开设有若干组气孔，所述清洗槽的内部放置有砷化镓晶片盒，所述砷化镓晶片盒包括盒盖和盒体，所述盒体的内部镶嵌设置有放置槽，所述清洗机顶部固定安装有固定座，所述固定座上开设有通孔，所述清洗机的顶部设置有清洗喷头，所述清洗喷头和通孔通过铝合金软管贯通连接，所述清洗喷头一侧镶嵌设置有清洗开关，所述清洗喷头远离清洗开关一侧开设有弧形凹槽。
优选的，所述清洗喷头和铝合金软管通过固定螺母螺旋连接。
优选的，所述通孔的内径大小和铝合金软管的外径大小相等。
优选的，所述箱门和清洗机、盒盖和盒体均通过合页固定连接。
优选的，所所述清洗机和砷化镓晶片盒均呈圆柱体形状，且清洗机的底部固定安装有橡胶垫。
优选的，所述清洗机的内部靠近气孔的底部固定安装有废液收集盒和水箱，且水箱的内部固定安装有水泵。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1、本实用新型中，使用时，用户可将设置的砷化镓晶片盒进行开启并放置在清洗槽内，同时按下镶嵌设置在清洗喷头一侧的清洗开关，清洗机内部水箱的水会通过设置的铝合金软管输送至清洗喷头，并对清洗槽内的砷化镓晶片盒进行清洗操作，且通过设置的铝合金软管为薄壁不锈钢管体液压成形，具有较强的柔韧性、伸缩性、弯曲和抗振能力强、编织网套的加强保护、使之具有更高的承压能力，并通过开设在清洗喷头一侧的弧形凹槽，符合人体工程学，方便用户在进行清洗操作时对清洗喷头的把握，避免打滑现象，同时整个过程方便快捷。
2、本实用新型中，使用时，将经过清洗喷头清洗后的砷化镓晶片盒翻转继续放置在清洗槽内，且通过开设在清洗槽底部的若干组气孔对砷化镓晶片盒清洗过程中产生的废液和清洗后的残留水渍进行导出至气孔底部的废液收集盒，达到沥水的效果，避免废液的二次污染，并通过固定安装在清洗机基面的箱门便于用户对清洗机内部的装置进行定期清理和零部件的维修、更换，从而增加了整体装置的使用寿命。
3、本实用新型中，使用时，通过设置的呈圆柱体形状的砷化镓晶片盒，避免内部产生死角，不方便进行清理，且通过设置在盒体内部的多组放置槽方便用户对砷化镓晶片进行整理归类，并通过固定安装在清洗机顶部的固定座方便对清洗喷头进行放置，增加了清洗喷头的稳定性，同时通过固定安装在清洗机底部的橡胶垫，增大了整体装置与外部参照物的摩擦力从而增加了整体装置的稳定性。
附图说明
图1为本实用新型整体外部结构示意图；
图2为本实用新型清洗机俯视外部结构示意图；
图3为本实用新型砷化镓晶片盒展开结构示意图；
图中：1-清洗机、2-砷化镓晶片盒、3-清洗喷头、4-铝合金软管、5-清洗开关、6-弧形凹槽、7-固定座、8-清洗槽、9-箱门、10-控制开关、11-气孔、12-通孔、13-盒盖、14-盒体、15-放置槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：
砷化镓晶片片盒清洗装置，包括清洗机1、砷化镓晶片盒2、清洗喷头3和铝合金软管4，所述清洗机1基面固定安装有箱门9，所述箱门9上镶嵌设置有控制开关10，所述清洗机1顶部开设有清洗槽8，所述清洗槽8底部开设有若干组气孔11，所述清洗槽8的内部放置有砷化镓晶片盒2，使用时，将经过清洗喷头清洗后的砷化镓晶片盒2翻转继续放置在清洗槽8内，且通过开设在清洗槽8底部的若干组气孔11对砷化镓晶片盒2清洗过程中产生的废液和清洗后的残留水渍进行导出至气孔11底部的废液收集盒，达到沥水的效果，避免废液的二次污染，并通过固定安装在清洗机1基面的箱门9便于用户对清洗机1内部的装置进行定期清理和零部件的维修、更换，从而增加了整体装置的使用寿命，所述砷化镓晶片盒2包括盒盖13和盒体14，所述盒体14的内部镶嵌设置有放置槽15，所述清洗机1顶部固定安装有固定座7，所述固定座7上开设有通孔12，所述清洗机1的顶部设置有清洗喷头3，使用时，通过设置的呈圆柱体形状的砷化镓晶片盒2，避免内部产生死角，不方便进行清理，且通过设置在盒体14内部的多组放置槽15方便用户对砷化镓晶片进行整理归类，并通过固定安装在清洗机1顶部的固定座7方便对清洗喷头进行放置，增加了清洗喷头3的稳定性，同时通过固定安装在清洗机1底部的橡胶垫，增大了整体装置与外部参照物的摩擦力从而增加了整体装置的稳定性，所述清洗喷头3和通孔12通过铝合金软管4贯通连接，所述清洗喷头3一侧镶嵌设置有清洗开关5，所述清洗喷头3远离清洗开关5一侧开设有弧形凹槽6，使用时，用户可将设置的砷化镓晶片盒2进行开启并放置在清洗槽8内，同时按下镶嵌设置在清洗喷头3一侧的清洗开关5，清洗机1内部水箱的水会通过设置的铝合金软管4输送至清洗喷头3，并对清洗槽8内的砷化镓晶片盒2进行清洗操作，且通过设置的铝合金软管4为薄壁不锈钢管体液压成形，具有较强的柔韧性、伸缩性、弯曲和抗振能力强、编织网套的加强保护、使之具有更高的承压能力，并通过开设在清洗喷头3一侧的弧形凹槽6，符合人体工程学，方便用户在进行清洗操作时对清洗喷头3的把握，避免打滑现象，同时整个过程方便快捷。
本实用新型工作原理：使用时，用户可将设置的砷化镓晶片盒2进行开启并放置在清洗槽8内，同时按下镶嵌设置在清洗喷头3一侧的清洗开关5，清洗机1内部水箱的水会通过设置的铝合金软管4输送至清洗喷头3，并对清洗槽8内的砷化镓晶片盒2进行清洗操作，清洗结束后，将经过清洗喷头3清洗后的砷化镓晶片盒2翻转继续放置在清洗槽8内，且通过开设在清洗槽8底部的若干组气孔11对砷化镓晶片盒2清洗过程中产生的废液和清洗后的残留水渍进行导出至气孔11底部的废液收集盒，达到沥水的效果，避免废液的二次污染，于此同时，用户可通过开启固定安装在清洗机1基面的箱门9对清洗机1内部进行定期的清理和零部件的维修、更换，整体装置结构简单，方便快捷，便于进行二次利用，具有一定的推广价值。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.砷化镓晶片片盒清洗装置，包括清洗机(1)、砷化镓晶片盒(2)、清洗喷头(3)和铝合金软管(4)，其特征在于：所述清洗机(1)基面固定安装有箱门(9)，所述箱门(9)上镶嵌设置有控制开关(10)，所述清洗机(1)顶部开设有清洗槽(8)，所述清洗槽(8)底部开设有若干组气孔(11)，所述清洗槽(8)的内部放置有砷化镓晶片盒(2)，所述砷化镓晶片盒(2)包括盒盖(13)和盒体(14)，所述盒体(14)的内部镶嵌设置有放置槽(15)，所述清洗机(1)顶部固定安装有固定座(7)，所述固定座(7)上开设有通孔(12)，所述清洗机(1)的顶部设置有清洗喷头(3)，所述清洗喷头(3)和通孔(12)通过铝合金软管(4)贯通连接，所述清洗喷头(3)一侧镶嵌设置有清洗开关(5)，所述清洗喷头(3)远离清洗开关(5)一侧开设有弧形凹槽(6)。
2.根据权利要求1所述的砷化镓晶片片盒清洗装置，其特征在于：所述清洗喷头(3)和铝合金软管(4)通过固定螺母螺旋连接。
3.根据权利要求1所述的砷化镓晶片片盒清洗装置，其特征在于：所述通孔(12)的内径大小和铝合金软管(4)的外径大小相等。
4.根据权利要求1所述的砷化镓晶片片盒清洗装置，其特征在于：所述箱门(9)和清洗机(1)、盒盖(13)和盒体(14)均通过合页固定连接。
5.根据权利要求1所述的砷化镓晶片片盒清洗装置，其特征在于：所述清洗机(1)和砷化镓晶片盒(2)均呈圆柱体形状，且清洗机(1)的底部固定安装有橡胶垫。
6.根据权利要求1所述的砷化镓晶片片盒清洗装置，其特征在于：所述清洗机(1)的内部靠近气孔的底部固定安装有废液收集盒和水箱，且水箱的内部固定安装有水泵。
Priority Applications (1)
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| CN201821981568.6U CN209205897U (zh) | 2018-11-29 | 2018-11-29 | 砷化镓晶片片盒清洗装置 |
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| CN201821981568.6U CN209205897U (zh) | 2018-11-29 | 2018-11-29 | 砷化镓晶片片盒清洗装置 |
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| CN209205897U true CN209205897U (zh) | 2019-08-06 |
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| CN201821981568.6U Withdrawn - After Issue CN209205897U (zh) | 2018-11-29 | 2018-11-29 | 砷化镓晶片片盒清洗装置 |
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| CN (1) | CN209205897U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113441472A (zh) * | 2021-07-01 | 2021-09-28 | 深圳市科源信科技有限公司 | 一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置 |
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2018
- 2018-11-29 CN CN201821981568.6U patent/CN209205897U/zh not_active Withdrawn - After Issue
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN113441472A (zh) * | 2021-07-01 | 2021-09-28 | 深圳市科源信科技有限公司 | 一种用于石英晶振高频晶片的气液清洗装置 |
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