CN209174423U - 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 - Google Patents
一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN209174423U CN209174423U CN201821468653.2U CN201821468653U CN209174423U CN 209174423 U CN209174423 U CN 209174423U CN 201821468653 U CN201821468653 U CN 201821468653U CN 209174423 U CN209174423 U CN 209174423U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- brush body
- baffle
- brush
- pad
- column
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
本实用新型提供了一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，包括刷体和设置于刷体上的进水机构、驱动机构，刷体包括第一刷体和第二刷体，所述第二刷体为圆筒状的海绵，第一刷体的外壁还设有多个凹槽，凹槽的槽底还布设多个通孔，第一刷体分别通过两端的台阶孔连接进水机构和驱动机构；所述进水机构包括接头和进水柱，超纯水通过进水柱和接头流入第一刷体的内腔；所述驱动机构包括电机和连接于电机的联轴器，所述联轴器设置于第一刷体另一端的台阶孔内。本实用新型有效提高擦片清洗机对硅片的清洗效果，实现硅抛光片表面的高洁净度要求。
Description
技术领域
本实用新型属于硅抛光片生产领域，涉及单晶硅抛光片双面擦片清洗机构，具体的说是一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置。
背景技术
单晶硅抛光片在生产加工中表面收到严重的污染，而抛光单晶硅片的表面洁净度是产品关键的质量参数之一，即使存在亚微米级别的微量污染也会导致后续器件加工的失效。单晶硅片经过化学机械镜面抛光后，表面会残留如被抛光硅片、抛光液、抛光蜡和大气环境带来的杂质颗粒、金属离子和有机污染物等杂质，必须经过湿法清洗去除硅片表面的污染物，以达到硅片超洁净度的要求。
擦片清洗机是一种进行硅片湿法清洗的机台，目前常见的用于单晶硅抛光片的擦片清洗机多利用柔软多孔的刷子转动来擦洗硅片的表面，纯水则通过刷子的轴心流向硅片表面，通过刷子的机械擦洗达到去除单晶硅抛光片表面污染物的目的，这类硅片清洗机所用的刷子体积较大，刷毛之间的缝隙也较大，同时为避免变形及对工件的损伤，对刷子的材质要求比较高；另有一种以平动的方式对硅片（单晶硅片）进行清洗的清洗装置，拥有较好的颗粒清洗能力，但用于清洗的纯水通常采用储存于水槽中浸泡或者通过喷头喷淋方式实现，前者需频繁更换或循环纯水，造成纯水的大量浪费，后者仅能喷淋到硅片未被清洗刷覆盖的地方，造成硅片表面脱落的颗粒不易被水流带走，吸附于刷子表面多孔结构中的颗粒易重新返回硅片表面，影响单晶硅硅片的清洗效果。
实用新型内容
为解决上述问题，本实用新型提供一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，通过刷体、进水机构和驱动机构的设置，有效提高擦片机对硅片的清洗效果，实现硅抛光片表面的高洁净度要求。
为了实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为：
一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：包括刷体和设置于刷体上的进水机构、驱动机构，所述刷体包括第一刷体和第二刷体，所述第二刷体为圆筒状的海绵，所述第一刷体设置于第二刷体的内部，所述第一刷体为两端开口的圆筒壳体，第一刷体的外壁还设有多个凹槽，所述凹槽与第一刷体的中心轴线相平行，所述凹槽的槽底还布设多个通孔，所述通孔与第一刷体的内腔相连通，第一刷体的两端还分别设有台阶孔，所述第一刷体分别通过两端的台阶孔连接进水机构和驱动机构；所述进水机构包括接头和进水柱，所述接头包括挡板、连接柱和出水柱，所述连接柱设置于第一刷体一端的台阶孔内，连接柱的两端分别连接挡板和出水柱，所述出水柱设置于所述第一刷体的内部，所述挡板设置于第一刷体的外部，所述挡板、连接柱和出水柱上还分别设有互为连通的进水通道，所述进水柱设置于挡板的侧壁上；所述进水柱为圆筒形，进水柱的内腔还与挡板上的进水通道相连通；所述驱动机构包括电机和连接于电机的联轴器，所述联轴器设置于第一刷体另一端的台阶孔内，第一刷体和联轴器相连接的一端端面上预留有销孔，联轴器上的销还通过销孔连接于所述第一刷体；所述电机设置于第一刷体的外部，所述电机还沿第一刷体中轴线的方向连接于所述联轴器。
进一步的，所述刷体的两端还分别设有第一挡片和第二挡片，所述第一挡片和第二挡片均沿中心轴方向开设有安装孔，第一挡片和第二挡片还分别通过安装孔套设于挡板和联轴器的外壁处。
进一步的，所述第一挡片和所述第二挡片均为圆形板，挡片的外径大于第二刷体的直径。
进一步的，所述海绵为PVA海绵。
进一步的，所述凹槽设置为六个，相邻的两个凹槽之间的夹角均为60°。
进一步的，所述连接柱和出水柱均为圆柱型，所述挡板为矩形板，挡板的两端还分别设有弧面，所述挡板上还设有定位通孔，第一挡片和第二挡片还通过定位通孔固定于擦片清洗机工作台的立柱上。
进一步的，所述挡板、连接柱和出水柱的中心轴线还相重合。
进一步的，所述挡板还与第一刷体的端面相接触，挡板的端面还大于台阶孔的开口。
进一步的，第一刷体两端的台阶孔内还分别设有滚动轴承，接头的出水柱和联轴器的轴还分别穿过滚动轴承的孔设置于第一刷体的腔内。
进一步的，所述挡板、连接柱和出水柱上还分别设有互为连通的第一进水通道、第二进水通道和第三进水通道，所述第一进水通道与挡板的中轴线相垂直，第一进水通道的两个通道口分别设置于挡板侧壁和挡板中心点处；所述第二进水通道和所述第三进水通道还分别设置于连接柱和出水柱的中轴线上，且第二进水通道一端的通道口与第三进水通道一端的通道口相连通，第二进水通道另一端的通道口与第一进水通道的通道口在挡板中心点处相连通，所述第三进水通道还与第一刷体的内腔相连通，超纯水还通过所述进水柱、第一进水通道、第二进水通道和第三进水通道进入第一刷体的内腔。
本实用新型的有益效果为：
1、本实用新型的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，硅片在擦片台以水平状态被夹在上下两个擦片刷装置之间，刷体的第二刷体使用PVA(聚乙烯醇)海绵制造，其材质柔软且多孔、吸水性强，与硅片摩擦接触时不会对硅片表面形成损伤，清洗过程中硅片在导轮的带动下在上下两个PVA海绵刷之间旋转运动，同时两个PVA海绵刷在驱动机构的带动下以滚动的方式运动，PVA海绵刷外表上凸粒状结构轻压接触硅片表面，可对单晶硅片进行全面有效的清洗；
2、本实用新型的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，纯水通过进水机构进入刷体内并由第一刷体的通孔流出并扩散入第二刷体的多孔组织中，再经由第二刷体的PVA海绵吸水后流出，流出的纯水冲刷硅片表面，在PVA海绵刷的擦洗和纯水的冲洗作用下，污染物脱落硅片表面，第一刷体上的通孔设置于第一刷体外壁的的凹槽中，凹槽底部的通孔与PVA海绵刷内壁之间存在间隙，使得第一刷体通孔的出水通畅，提高了超纯水从通孔向外的流量均匀程度，改善硅片清洗效果。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为接头的结构示意图；
图3为第一刷体和第二刷体的装配图。
其中，图中各标号为：1、第一刷体；2、第二刷体；3、凹槽；4、通孔；5、挡板；6、连接柱；7、出水柱；8、进水通道；801、第一进水通道；802、第二进水通道；803、第三进水通道；9、进水柱；10、电机；11、联轴器；12、第一挡片；13、第二挡片；14、定位通孔；15、滚动轴承；16、销孔；17键槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
硅片在生产加工中其表面受到严重的污染，而抛光硅片的表面洁净度是产品最为关键的质量参数之一，即使存在亚微米级别微量污染也会导致后续器件加工失效。硅片经过化学机械镜面抛光后，表面会残留被抛光硅片、抛光液、抛光蜡和大气环境带来的杂质颗粒、金属离子和有机污染物，必须经过湿法清洗去除硅片表面的污染物，才可以达到硅片超洁净度的要求。
擦片清洗机是一种进行硅片湿法清洗的机台，其中的擦片台是擦片清洗机实现去除硅片表面颗粒污染的工作台。硅片在擦片台以水平状态被夹在上下两个擦片刷装置之间，擦片清洗机工作台的立柱在竖直方向上固定于工作台上，擦片刷装置接头的一端通过螺钉将擦片刷装置固定于立柱上，擦片刷装置在竖直方向上设置为上下两个，被清洗的单晶硅片以水平状态被夹在两个擦片刷装置之间，清洗过程中，硅片在擦片清洗机导轮的带动下在上下两个擦片刷装置之间旋转运动，同时两个擦片刷装置以滚动的方式运动，擦片刷装置最外层的PVA海绵外表上的凸粒状结构轻压接触于硅片表面；每个刷体均包括第一刷体1和第二刷体2，第二刷体2使用PVA(聚乙烯醇)海绵制造，其材质极其柔软多孔、吸水性强，与硅片摩擦接触时不会对硅片表面形成损伤。清洗过程中硅片在擦片清洗机导轮的带动下在上下两个PVA海绵刷之间旋转运动，同时两个PVA海绵刷以滚动的方式运动，PVA海绵刷外表上凸粒状结构轻压接触硅片表面，PVA海绵刷滚动的同时不断有超纯水从PVA海绵刷中流出，冲刷硅片表面，在PVA海绵刷的擦洗和纯水的冲洗作用下，污染物脱落硅片表面。
图1为本实用新型的结构示意图，为了实现超纯水从PVA海绵刷中流出，在PVA海绵刷内安装有第一刷体1，第一刷体1为圆筒形，筒壁上开有通孔4，第一刷体1的一端连接有进水机构，超纯水从进水柱9进入，再通过接头流入第一刷体1内，在水压作用下，超纯水通过第一刷体1的通孔4扩散入PVA海绵刷的多孔组织，流向硅片表面，对硅片起到冲洗作用。
第一刷体1的另一端通过端面上的销孔16和联轴器11一端上的销连接，联轴器11在电机10驱动下带动第一刷体1旋转，PVA是一种高分子有机化合物，它制成的PVA海绵刷具有高伸缩性，PVA海绵刷套装在第一刷体1上，以第一刷体1为芯棒，并在第一刷体1摩擦力的带动下旋转。为减少第一刷体1内壁和接头、联轴器11的摩擦，第一刷体1两端还设计有台阶孔，两个滚动轴承15分别放置在第一刷体1两端的台阶孔内，接头的出水柱7和联轴器11轴插入滚动轴承15孔内，使第一刷体1的转动更平稳顺畅。
为避免第一刷体1通孔4被PVA海绵刷包裹，使PVA海绵刷出水量不足，造成硅片表面脱落的颗粒不易被水流带走，吸附在PVA海绵刷多孔结构中，而重新返回硅片表面，影响硅片清洗效果，第一刷体1外表设计了6个互成60度角的弧形凹槽3，凹槽3和第一刷体1平行，每个凹槽3上开有一排通孔4，这样使得通孔4和PVA海绵刷内壁之间存在缝隙，使得第一刷体1通孔4出水通畅，提高了超纯水从通孔4向外的流量大小均匀程度，改善了硅片清洗效果。
纯水容易从PVA海绵刷两个端面渗漏，淋湿设备下部的其他零部件，造成设备零部件生锈、故障等问题。在PVA海绵刷的进水接头一端和联轴器11一端上各安装一个圆壁形的第一挡片12和第二挡片13，挡片的外径大于PVA海绵刷直径，对侧漏的水起到阻挡作用，使水顺挡片流到擦片台内部，顺排水管道排走，而不发生侧漏。
在具体的装配中，第一刷体1、第一挡片12、第二挡片13、接头、联轴器11都由PVDF(聚偏氟乙烯)棒机加工制造，PVDF有良好的耐化学腐蚀性、耐氧化性，保障了高纯水和PVA擦片刷不受到污染。第一刷体1外径50mm，长度为210mm，第一刷体1外表互成60度角开有6个弧形凹槽3，槽深2毫米，每个凹槽3上开有一排通孔4，通孔4数量为10个，孔径为2mm。第一刷体1和联轴器11相连接的一端端面上开销孔16，联轴器11上的销与其配合装配，联轴器11另一端面上设有键槽17，电机轴平键与联轴器的键槽17相配合装配，用于电机10的传动，联轴器11在电机10驱动下带动第一刷体1转动。两个挡片中间开有圆孔，一片套装在联轴器11上，一片套装在接头上。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型，且本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (10)
1.一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：包括刷体和设置于刷体上的进水机构、驱动机构，所述刷体包括第一刷体和第二刷体，所述第二刷体为圆筒状的海绵，所述第一刷体设置于第二刷体的内部，所述第一刷体为两端开口的圆筒壳体，第一刷体的外壁还设有多个凹槽，所述凹槽与第一刷体的中心轴线相平行，所述凹槽的槽底还布设多个通孔，所述通孔与第一刷体的内腔相连通，第一刷体的两端还分别设有台阶孔，所述第一刷体分别通过两端的台阶孔连接进水机构和驱动机构；
所述进水机构包括接头和进水柱，所述接头包括挡板、连接柱和出水柱，所述连接柱设置于第一刷体一端的台阶孔内，连接柱的两端分别连接挡板和出水柱，所述出水柱设置于所述第一刷体的内部，所述挡板设置于第一刷体的外部，所述挡板、连接柱和出水柱上还分别设有互为连通的进水通道，所述进水柱设置于挡板的侧壁上；所述进水柱为圆筒形，进水柱的内腔还与挡板上的进水通道相连通；
所述驱动机构包括电机和连接于电机的联轴器，所述联轴器设置于第一刷体另一端的台阶孔内，第一刷体和联轴器相连接的一端端面上预留有销孔，联轴器上的销还通过销孔连接于所述第一刷体；所述电机设置于第一刷体的外部，所述电机还沿第一刷体中轴线的方向连接于所述联轴器。
2.根据权利要求1所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述刷体的两端还分别设有第一挡片和第二挡片，所述第一挡片和第二挡片均沿中心轴方向开设有安装孔，第一挡片和第二挡片还分别通过安装孔套设于挡板和联轴器的外壁处。
3.根据权利要求2所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述第一挡片和所述第二挡片均为圆形板，挡片的外径大于第二刷体的直径。
4.根据权利要求1所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述海绵为PVA海绵。
5.根据权利要求1所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述凹槽设置为六个，相邻的两个凹槽之间的夹角均为60°。
6.根据权利要求1所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述连接柱和出水柱均为圆柱型，所述挡板为矩形板，挡板的两端还分别设有弧面，所述挡板上还设有定位通孔，第一挡片和第二挡片还通过定位通孔固定于擦片清洗机工作台的立柱上。
7.根据权利要求6所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述挡板、连接柱和出水柱的中心轴线还相重合。
8.根据权利要求1所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述挡板还与第一刷体的端面相接触，挡板的端面还大于台阶孔的开口。
9.根据权利要求1所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：第一刷体两端的台阶孔内还分别设有滚动轴承，接头的出水柱和联轴器的轴还分别穿过滚动轴承的孔设置于第一刷体的腔内。
10.根据权利要求1所述的一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置，其特征在于：所述挡板、连接柱和出水柱上还分别设有互为连通的第一进水通道、第二进水通道和第三进水通道，所述第一进水通道与挡板的中轴线相垂直，第一进水通道的两个通道口分别设置于挡板侧壁和挡板中心点处；所述第二进水通道和所述第三进水通道还分别设置于连接柱和出水柱的中轴线上，且第二进水通道一端的通道口与第三进水通道一端的通道口相连通，第二进水通道另一端的通道口与第一进水通道的通道口在挡板中心点处相连通，所述第三进水通道还与第一刷体的内腔相连通，超纯水还通过所述进水柱、第一进水通道、第二进水通道和第三进水通道进入第一刷体的内腔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821468653.2U CN209174423U (zh) | 2018-09-10 | 2018-09-10 | 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821468653.2U CN209174423U (zh) | 2018-09-10 | 2018-09-10 | 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN209174423U true CN209174423U (zh) | 2019-07-30 |
Family
ID=67359572
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201821468653.2U Active CN209174423U (zh) | 2018-09-10 | 2018-09-10 | 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN209174423U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109225973A (zh) * | 2018-09-10 | 2019-01-18 | 麦斯克电子材料有限公司 | 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 |
-
2018
- 2018-09-10 CN CN201821468653.2U patent/CN209174423U/zh active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109225973A (zh) * | 2018-09-10 | 2019-01-18 | 麦斯克电子材料有限公司 | 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN212442263U (zh) | 一种橡胶轮胎生产加工清洗装置 | |
| US20120021678A1 (en) | Cylindrical grinding and polishing device | |
| CN209174423U (zh) | 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 | |
| US6248009B1 (en) | Apparatus for cleaning substrate | |
| KR100583999B1 (ko) | 웨이퍼처리장치에서 사용하기 위한 세정/버핑장치 | |
| CN105797982A (zh) | 一种羽毛球自动清洗装置 | |
| CN213438836U (zh) | 一种用于钣金件的高效打磨设备 | |
| CN109225973A (zh) | 一种用于硅抛光片擦片清洗机的擦片刷装置 | |
| US20030200994A1 (en) | Pad for use in a critical environment | |
| CN113770079A (zh) | 一种晶圆清洗装置 | |
| US6678911B2 (en) | Multiple vertical wafer cleaner | |
| CN210255498U (zh) | 一种板材表面毛刺除去装置 | |
| CN216262401U (zh) | 用于清洗晶圆的排列式兆声清洗装置 | |
| CN213652964U (zh) | 一种洗衣机内桶夹层清洗专用毛刷工具装置 | |
| CN213436101U (zh) | 一种建筑管材加工用清洗装置 | |
| CN210732134U (zh) | 一种3d无损抛光机旋转电机转接轴 | |
| CN207155495U (zh) | 一种晶圆清洗刷的打磨装置 | |
| CN108942506B (zh) | 一种螺旋递进式竹板磨边设备 | |
| CN109124483B (zh) | 一种自动清洁的洗手盆 | |
| CN111515780A (zh) | 一种轴具清洁打磨装置 | |
| JP2021064701A (ja) | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 | |
| CN211728742U (zh) | 一种防止木屑飞溅的家具制造用板面抛光机 | |
| JPH059229B2 (zh) | ||
| CN215031466U (zh) | 一种轴承滚子加工用清洗设备 | |
| CN212527098U (zh) | 一种环保型金属板材表面机械打磨装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 471000 No. 99 Binhe North Road, Luoyang hi tech Industrial Development Zone, Henan Patentee after: Mesk Electronic Materials Co., Ltd Address before: 471000 No. 99 Binhe North Road, Luoyang hi tech Industrial Development Zone, Henan, Luoyang Patentee before: MCL ELECTRONIC MATERIALS Ltd. |
|
| CP03 | Change of name, title or address |