CN209157895U - 一种两级自调心无痕浮动支承机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于机械磨削技术领域，提出一种两级自调心无痕浮动支承机构。提出的两级自调心无痕浮动支承机构具有一级浮动支承块；一级浮动支承块的底面为平面，且一级浮动支承块的顶面为V型顶面；顶面的两端分别具有向外并向下倾斜的斜面Ⅰ；一级浮动支承块的中心具有用以与磨床铰接的铰接通孔；一级浮动支承块V型顶面的两侧壁面上分别具有用以安装二级浮动支承块的凹槽；二级浮动支承块为两块，分别位于所对应的凹槽内，且二级浮动支承块的上端面低于凹槽的端面；二级浮动支承块通过铰接柱销与所对应的凹槽铰接为一体，形成可转动的二级浮动支撑。本实用新型可省掉行业内普遍存在的修磨外径工序，减少了加工时间及成本。
Description
技术领域
本实用新型属于机械磨削技术领域，具体涉及一种两级自调心无痕浮动支承机构。
背景技术
轴承套圈等环形工件在进行内圆、外圆表面磨削时，普遍使用电磁无心夹具，电磁无心夹具一般需要两个支承对工件外圆面进行支承。
使用电磁无心夹具进行磨削后，工件的定位表面会留下支承摩擦产生的支承痕迹，业内普遍做法是在加工后额外增加修磨外径工序用于消除支承痕迹。
行业内现有技术即使能够减小支承痕迹，也仍然无法满足具有较高外观要求的产品，或存在支承寿命较短等问题。
实用新型内容
为解决上述技术问题，本实用新型的目的是提出一种两级自调心无痕浮动支承机构。
本实用新型为完成上述目的采用如下技术方案：
一种两级自调心无痕浮动支承机构，两级自调心无痕浮动支承机构具有一级浮动支承块；所述一级浮动支承块的底面为平面，且一级浮动支承块的顶面为由两个向中间倾斜的斜面构成的V型顶面；所述顶面的两端分别具有向外并向下倾斜的斜面Ⅰ，所述斜面Ⅰ的下端面高于一级浮动支承块的所述底面；所述斜面Ⅰ与底面之间通过斜面Ⅱ连接为一体；所述的一级浮动支承块的中心具有用以与磨床铰接的铰接通孔；一级浮动支承块V型顶面的两侧壁面上分别具有用以安装二级浮动支承块的凹槽；所述的二级浮动支承块为两块，分别位于所对应的凹槽内，且二级浮动支承块的上端面低于凹槽的端面；所述的二级浮动支承块通过铰接柱销与所对应的凹槽铰接为一体，形成可转动的二级浮动支撑；两个所述铰接柱销的轴线位于同一平面内，且该平面与铰接通孔的轴线垂直；每个所述二级浮动支承块的上均放置有用以对工件进行修磨的接触块；所述接触块的上端面及工作表面突出于所述一级浮动支承块的上端面；所述的接触块为可在一级浮动支承块、二级浮动支承块的作用下进行两个方向自由旋转的结构；所述接触块的工作表面为平面，两个接触块的工作表面共同构成用以对工件进行修磨的线接触面。
所述接触块的工作表面采用聚晶金刚石PCD或多晶纯金刚石CVD。
所述的接触块与所述的二级浮动支承块粘接为一体。
所述的二级浮动支承块与所对应的凹槽底面之间具有便于二者之间相对转动的间隙。
两个接触块的工作表面长均为n，两个工作表面边缘距离工作表面所在直线交点距离为m，两者工作表面呈V字型且夹角为α；设可加工的工件外圆定位面直径为D，则：
。
本实用新型提出一种两级自调心无痕浮动支承块机构，利用一级浮动支承块和二级浮动支承块使接触块依靠两级转轴互相垂直的自调心结构，接触块的金刚石接触平面拥有两个方向的旋转自由度，能够自适应地调整与工件的接触位置，消除了制造误差、安装误差，并能自动有效地保证了与工件外圆定位表面为线接触；在支承力不变的情况下，有效的线接触相较有误差的线接触或点接触，接触压强更小，更有利于消除支承痕迹；
接触块的工作表面采用聚晶金刚石PCD或多晶纯金刚石CVD材料，其硬度极高，耐磨损，减少修复及更换成本，有利于降低加工时间及生产成本；且其材料易于获得较好的表面粗糙度与较低的摩擦系数，有利于消除支承痕迹；
接触块的工作表面为平面，不似行业内有些企业采用的圆柱体表面，根据赫兹接触理论，两个接触表面的曲率增大能减小接触压强，本支承采用平面作为工作表面，理论上曲率为无穷大，接触压强更小，更有利于消除支承痕迹；
接触块的工作表面高于一级浮动支承块，是为了自调心转动后，接触块工作表面仍然能与工件外圆定位面有效接触；
当工件外圆定位面不是圆柱面而是圆锥面时，应当增加接触块的工作表面相对于一级浮动支承块高出的高度，以使本支承能够自调心地支承圆锥面进行加工；
综上所述，本实用新型可用作电磁无心夹具的外圆支承，可支承包括圆柱、圆锥在内的工件表面；工件使用本支承进行磨削加工后，工件的支承表面没有支承痕迹，可省掉行业内普遍存在的修磨外径工序，减少了加工时间及成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构主视图。
图2为本实用新型的轴侧视图。
图中：1、一级浮动支承块；1-1、斜面Ⅰ；1-2、斜面Ⅱ；2、二级浮动支承块；3、接触块；4铰接柱销；5、铰接通孔。
具体实施方式
结合附图和具体实施例对本实用新型加以说明：
如图1、图2所示，一种两级自调心无痕浮动支承机构，两级自调心无痕浮动支承机构具有一级浮动支承块1；所述一级浮动支承块1的底面为平面，且一级浮动支承块的顶面为由两个向中间倾斜的斜面构成的V型顶面；所述顶面的两端分别具有向外并向下倾斜的斜面Ⅰ1-1，所述斜面Ⅰ1-1的下端面高于一级浮动支承块的所述底面；所述斜面Ⅰ1-1与底面之间通过斜面Ⅱ1-2连接为一体；所述的一级浮动支承块1的中心具有用以与磨床铰接的铰接通孔5；一级浮动支承块V型顶面的两侧壁面上分别具有用以安装二级浮动支承块2的凹槽；所述的二级浮动支承块2为两块，分别位于所对应的凹槽内，且二级浮动支承块2的上端面低于凹槽的端面；所述的二级浮动支承块2通过铰接柱销4与所对应的凹槽铰接为一体，形成可转动的二级浮动支撑；两个所述铰接柱销的轴线位于同一平面内，且该平面与铰接通孔的轴线垂直；每个所述二级浮动支承块2的上均放置有用以对工件进行修磨的接触块3；所述接触块3的上端面及工作表面突出于所述一级浮动支承块的上端面；所述的接触块3为可在一级浮动支承块、二级浮动支承块的作用下进行两个方向自由旋转的结构；所述接触块的工作表面为平面，两个接触块的工作表面共同构成用以对工件进行修磨的线接触面，据赫兹接触理论，两个接触表面的曲率增大能减小接触压强，本支承采用平面作为工作表面，理论上曲率为无穷大，接触压强更小，更有利于消除支承痕迹；
所述接触块3的工作表面采用聚晶金刚石PCD或多晶纯金刚石CVD，其硬极高，耐磨损，减少修复及更换成本，有利于降低加工时间及生产成本；且其材料易于获得较好的表面粗糙度与较低的摩擦系数，有利于消除支承痕迹。
所述的接触块3与所述的二级浮动支承块2粘接为一体。
所述的二级浮动支承块与3所对应的凹槽底面之间具有便于二者之间相对转动的间隙。
两个接触块的工作表面长均为n，两个工作表面边缘距离工作表面所在直线交点距离为m，两者工作表面呈V字型且夹角为α；设可加工的工件外圆定位面直径为D，则：
。
Claims (5)
1.一种两级自调心无痕浮动支承机构，其特征在于：两级自调心无痕浮动支承机构具有一级浮动支承块；所述一级浮动支承块的底面为平面，且一级浮动支承块的顶面为由两个向中间倾斜的斜面构成的V型顶面；所述顶面的两端分别具有向外并向下倾斜的斜面Ⅰ，所述斜面Ⅰ的下端面高于一级浮动支承块的所述底面；所述斜面Ⅰ与底面之间通过斜面Ⅱ连接为一体；所述的一级浮动支承块的中心具有用以与磨床铰接的铰接通孔；一级浮动支承块V型顶面的两侧壁面上分别具有用以安装二级浮动支承块的凹槽；所述的二级浮动支承块为两块，分别位于所对应的凹槽内，且二级浮动支承块的上端面低于凹槽的端面；所述的二级浮动支承块通过铰接柱销与所对应的凹槽铰接为一体，形成可转动的二级浮动支撑；两个所述铰接柱销的轴线位于同一平面内，且该平面与铰接通孔的轴线垂直；每个所述二级浮动支承块的上均放置有用以对工件进行修磨的接触块；所述接触块的上端面及工作表面突出于所述一级浮动支承块的上端面；所述的接触块为可在一级浮动支承块、二级浮动支承块的作用下进行两个方向自由旋转的结构；所述接触块的工作表面为平面，两个接触块的工作表面共同构成用以对工件进行修磨的线接触面。
2.如权利要求1所述的一种两级自调心无痕浮动支承机构，其特征在于：所述接触块的工作表面采用聚晶金刚石PCD或多晶纯金刚石CVD。
3.如权利要求1所述的一种两级自调心无痕浮动支承机构，其特征在于：所述的接触块与所述的二级浮动支承块粘接为一体。
4.如权利要求1所述的一种两级自调心无痕浮动支承机构，其特征在于：所述的二级浮动支承块与所对应的凹槽底面之间具有便于二者之间相对转动的间隙。
5.如权利要求1所述的一种两级自调心无痕浮动支承机构，其特征在于：两个接触块的工作表面长均为n，两个工作表面边缘距离工作表面所在直线交点距离为m，两者工作表面呈V字型且夹角为α；设可加工的工件外圆定位面直径为D，则：。
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|---|---|---|---|---|
| CN109262384A (zh) * | 2018-11-20 | 2019-01-25 | 洛阳Lyc轴承有限公司 | 一种两级自调心无痕浮动支承机构 |
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2018
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| CN109262384B (zh) * | 2018-11-20 | 2024-05-03 | 洛阳轴承集团股份有限公司 | 一种两级自调心无痕浮动支承机构 |
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