CN208923046U - 烘干槽及湿法刻蚀机 - Google Patents

Abstract

本实用新型揭示了一种烘干槽，及包括该烘干槽的湿法刻蚀机，所述烘干槽包括槽体、设置在所述槽体中的用于承载硅片的下滚轮，所述下滚轮驱动所述硅片沿硅片前进方向移动，所述烘干槽还包括分别设置在所述下滚轮两侧的烘干上风机和烘干下风机，所述烘干上风机吹出的风直接吹向所述硅片。由于烘干上风机吹出的风直接吹向硅片，也就是说，烘干上风机与硅片之间没有上滚轮以及其它部件，可以避免烘干上风机吹出的风经过上滚轮及其它部件后吹向硅片，从而避免上滚轮及其它部件对硅片施力而造成的滚轮印、碎片等不良降级，从而提高产品合格率。

Description

烘干槽及湿法刻蚀机

技术领域

本实用新型涉及太阳能应用设备技术领域，特别涉及一种烘干槽，及包括该烘干槽的湿法刻蚀机。

背景技术

随着世界范围内能源危机的爆发，风压和太阳能等可再生能源得到越来越广泛的应用，从而带动了可再生能源发电系统的蓬勃发展。在众多的可再生能源中，太阳能分布较为广泛，且从我国的地理分布情况来看，我国大部分地区的太阳能辐射量都比较丰富，因此，太阳能的开发和应用更为便捷。

光伏发电系统是人们利用太阳能的一种主要方式，其主要部件是太阳能电池。太阳能电池是由硅片经过表面制绒、扩散制结、刻蚀、沉积减反射膜、印刷烧结等工艺过程制备而成。其中，刻蚀工艺是太阳能电池片制造过程中的一个重要工序，目的是去除硅片下表面及四个侧面的PN结，以达到上下表面绝缘的目的，同时去除上表面的磷硅玻璃层。

当前太阳能电池制造时常用的一种刻蚀方法是湿法刻蚀，通过化学试剂腐蚀掉硅片下表面及四个侧面的PN结和磷硅玻璃层，湿法刻蚀机为太阳能电池湿法刻蚀的重要设备。

目前，所使用的湿法刻蚀机主要包括机体，所述机体上设置有用于输送硅片的输送滚轮，在输送滚轮的下方沿硅片的移动方向依次设置有刻蚀槽、碱洗槽、清洗槽、烘干槽。请参见图1，现有技术中，湿法刻蚀机台的烘干槽，包括槽体、设置在槽体中的用于承载硅片200的下滚轮20，与下滚轮20间隔一定距离设置的上滚轮10，硅片200夹在上滚轮10和下滚轮20之间，下滚轮20驱动硅片200沿硅片前进方向移动，烘干槽还包括设置在上滚轮10上侧的烘干上风机30、设置在下滚轮20下侧的烘干下风机40，烘干上风机30和烘干下风机40的风向均垂直于硅片前进方向，当烘干槽运行时，硅片200的PN面均会受到上下风机的较大风压，硅片200会大幅度抖动，烘干上风机30吹出的风经过上滚轮10吹向硅片200，上滚轮10会对硅片200施力而按压硅片200，容易导致了滚轮印、碎片等不良降级。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种烘干槽，该烘干槽可以有效避免硅片在烘干槽抖动，减少滚轮印/碎片等不良降级。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供一种烘干槽，包括槽体、设置在所述槽体中的用于承载硅片的下滚轮，所述下滚轮驱动所述硅片沿硅片前进方向移动，所述烘干槽还包括分别设置在所述下滚轮两侧的烘干上风机和烘干下风机，其特征在于：所述烘干上风机吹出的风直接吹向所述硅片。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述烘干下风机吹出的风向相对所述硅片前进方向倾斜并与硅片前进方向相反。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述烘干下风机的吹出的风向与所述硅片前进方向的夹角在30度至45度之间。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述烘干下风机吹出的风向可以分解为第一风向和第二风向，所述第一风向垂直于所述硅片前进方向，所述第二风向与硅片前进方向相反。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述第二风向的风压大于所述第一风向的风压。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述烘干上风机吹出的风向垂直于所述硅片前进方向，所述第一风向与所述烘干上风机的风向相反，所述烘干上风机的风压大于所述第一风向的风压。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，沿靠近所述烘干上风机的方向，所述烘干下风机的出风口面积逐渐增大。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述烘干上风机的风量大于所述烘干下风机的风量。

作为本实用新型一实施方式的进一步改进，所述烘干上风机的数量大于所述烘干下风机的数量，所述烘干下风机设置在两个烘干上风机之间。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：由于烘干上风机吹出的风直接吹向硅片，也就是说，烘干上风机与硅片之间没有上滚轮以及其它部件，可以避免烘干上风机吹出的风经过上滚轮及其它部件后吹向硅片，从而避免上滚轮及其它部件对硅片施力而造成的滚轮印、碎片等不良降级，从而提高产品合格率。

本实用新型的另一目的在于提供一种湿法刻蚀机，所述湿法刻蚀机包括上述任一所述的烘干槽。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：由于该湿法刻蚀机的烘干上风机吹出的风直接吹向硅片，也就是说，烘干上风机与硅片之间没有上滚轮以及其它部件，可以避免烘干上风机吹出的风经过上滚轮及其它部件后吹向硅片，从而避免上滚轮及其它部件对硅片施力而造成的滚轮印、碎片等不良降级，从而提高产品合格率。

附图说明

图1是现有技术的湿法刻蚀机的烘干槽的结构示意图；

图2是本实用新型具体实施方式的湿法刻蚀机的烘干槽的结构示意图；

图3是图2所示的烘干槽的烘干下风机的左视图。

需要说明的是，附图采用的是示意图并非实际产品图，例如，从图面所示的角度看，真实的上滚轮和下滚轮是垂直于纸面且间隔设置的一根根圆柱，而附图分别以长方形代表一排上滚轮和一排下滚轮，采用示意图是为了清楚的表达本实用新型的发明要点，并不对本实用新型构成限制。

后文将参照附图以示例性而非限制性的方式详细描述本实用新型的一些具体实施方式。附图中以相同的附图标记标示了相同或类似的部件或部分。本领域技术人员应该理解，这些附图未必是按比例绘制的。

具体实施方式

以下将结合附图所示的具体实施方式对本实用新型进行详细描述。但这些实施方式并不限制本实用新型，本领域的普通技术人员根据这些实施方式所做出的结构、方法、或功能上的变换均包含在本实用新型的保护范围内。

在本申请的各个图示中，为了便于图示，结构或部分的某些尺寸会相对其它结构或部分夸大，因此，附图仅用于图示出本申请的主题的基本结构。

需要理解的是，在本实用新型的描述中，术语“上”“下”以湿法刻蚀机正常使用的状态为参考。这些指示方位或位置关系的术语，包括但不限于“上”“下”，仅是为了方便描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。

请参见图2，本实用新型实施方式提供的烘干槽100，包括槽体、设置在槽体中的用于承载硅片200的下滚轮120，下滚轮120驱动硅片200沿硅片前进方向A移动，烘干槽100还包括分别设置在下滚轮120两侧的烘干上风机130和烘干下风机140，烘干上风机130吹出的风直接吹向硅片200。

由于烘干上风机130吹出的风直接吹向硅片200，也就是说，烘干上风机130与硅片200之间没有上滚轮以及其它部件，可以避免烘干上风机130吹出的风经过上滚轮及其它部件后吹向硅片200，从而避免上滚轮及其它部件在烘干上风机130的作用下对硅片200施力而造成的滚轮印、碎片等不良降级，从而提高产品合格率。

本实施方式中，烘干上风机130的风向垂直于硅片前进方向A，可以最大程度的吹干风机的上表面。

本实施方式优选的，烘干上风机130的风量大于烘干下风机140的风量。这可以使硅片200相对滚轮固定，从而保证硅片200稳定的移动。

本实施方式优选的，烘干上风机130的数量大于烘干下风机140的数量，烘干下风机140设置在两个烘干上风机130之间。

本实施方式具体的，烘干上风机130的数量为两个，烘干下风机140的数量为一个，一个烘干下风机140设置在两个烘干上风机130之间。如此设置，不仅可以同时吹干硅片200的两面，而且可以固定硅片200，使硅片200稳定的前进。

因此，本实施方式中，烘干上风机130的数量为两个，烘干下风机140的数量为一个，两个烘干上风机130的风量之和大于一个烘干下风机140的风量。本领域技术人员可以根据需要设置烘干上风机130和烘干下风机140的数量及具体每个风机的风量，凡采用与本实施方式相同或类似的方案均涵盖在本实用新型的保护范围内。

本实施方式优选的，烘干下风机140吹出的风向相对硅片前进方向A倾斜并与硅片前进方向A相反。

由此，烘干下风机140吹向硅片200的风向和硅片前进方向A相逆，使硅片200迎面被吹风，从而有效使硅片200被烘干。

本实施方式优选的，烘干下风机140的吹出的风向与硅片前进方向A的夹角在30度至45度之间。

烘干下风机140吹出的风按这个角度吹向硅片200，可以使烘干下风机140吹出的风在相反于硅片前进方向A的风压大于垂直硅片前进方向A的风压，一方面使硅片200迎面可以被更多的风吹到，提高烘干效率，另一方面，可以使垂直方向的风压小于烘干上风机130的风压，保证硅片200在前进方向的稳定，从而最大程度的发挥烘干下风机140作用。

本实施方式优选的，烘干下风机140吹出的风向可以分解为第一风向C和第二风向D，第一风向C垂直于硅片前进方向A，第二风向D与硅片前进方向A相反。

由此，第一风向C吹出的风与烘干上风机130吹出的风向相反，第一风向C吹出的风和烘干上风机130吹出的风可以分别烘干硅片200的两面。第二风向D吹出的方向与硅片前进方向A相逆，使硅片200迎面被吹风，从而有效使硅片200被烘干。

本实施方式优选的，第二风向D的风压大于第一风向C的风压。

也就是说，烘干下风机140吹出的风在与硅片前进方向A相反的方向上具有较大的风压，使硅片200迎面被更大的风压吹扫，使硅片200有效被烘干。

本实施方式优选的，烘干上风机130吹出的风向垂直于硅片前进方向A，第一风向C吹出的风亦垂直于硅片前进方向A，但第一风向C与烘干上风机130的风向相反，烘干上风机130的风压大于第一风向C的风压。

也就是说，烘干上风机130吹扫下来的风压大于第一风向C的风压，使硅片200不会被吹离下滚轮120，可以保证硅片前进方向A的稳定。

请参见图3，本实施方式优选的，沿靠近烘干上风机130的方向，烘干下风机140的出风口142面积逐渐增大。

也就是说，越靠近烘干上风机130，烘干下风机140的风量越大，换句话说，越靠近硅片200，烘干下风机140的风量越大因此，烘干下风机140的效率更高，更有利于吹干硅片200。

需要说明的是，图3仅仅是示例性的示出了烘干下风机140的出风口142，这并不对本实用新型构成限制，只要保证沿靠近烘干上风机130的方向，烘干下风机140的出风口142面积逐渐增大即可，本领域技术人员可以根据需要(例如外观要求)设计每个出风口142的形状和各出风口142的排布，凡采用与本实施方式相同或类似的方案均涵盖在本实用新型的保护范围内。

本实用新型还提供一个包括上述烘干槽的湿法刻蚀机。

由于湿法刻蚀机的烘干上风机吹出的风直接吹向硅片，也就是说，烘干上风机与硅片之间没有上滚轮以及其它部件，可以避免烘干上风机吹出的风经过上滚轮及其它部件后吹向硅片，从而避免上滚轮及其它部件对硅片施力而造成的滚轮印、碎片等不良降级，从而提高产品合格率。

应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施方式中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

上文所列出的一系列的详细说明仅仅是针对本实用新型的可行性实施方式的具体说明，它们并非用以限制本实用新型的保护范围，凡未脱离本实用新型技艺精神所作的等效实施方式或变更均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种烘干槽，包括槽体、设置在所述槽体中的用于承载硅片的下滚轮，所述下滚轮驱动所述硅片沿硅片前进方向移动，所述烘干槽还包括分别设置在所述下滚轮两侧的烘干上风机和烘干下风机，其特征在于：所述烘干上风机吹出的风直接吹向所述硅片。

2.根据权利要求1所述的烘干槽，其特征在于：所述烘干下风机吹出的风向相对所述硅片前进方向倾斜并与硅片前进方向相反。

3.根据权利要求2所述的烘干槽，其特征在于：所述烘干下风机的吹出的风向与所述硅片前进方向的夹角在30度至45度之间。

4.根据权利要求2所述的烘干槽，其特征在于：所述烘干下风机吹出的风向可以分解为第一风向和第二风向，所述第一风向垂直于所述硅片前进方向，所述第二风向与硅片前进方向相反。

5.根据权利要求4所述的烘干槽，其特征在于：所述第二风向的风压大于所述第一风向的风压。

6.根据权利要求4所述的烘干槽，其特征在于：所述烘干上风机吹出的风向垂直于所述硅片前进方向，所述第一风向与所述烘干上风机的风向相反，所述烘干上风机的风压大于所述第一风向的风压。

7.根据权利要求2所述的烘干槽，其特征在于：沿靠近所述烘干上风机的方向，所述烘干下风机的出风口面积逐渐增大。

8.根据权利要求1所述的烘干槽，其特征在于：所述烘干上风机的风量大于所述烘干下风机的风量。

9.根据权利要求8所述的烘干槽，其特征在于：所述烘干上风机的数量大于所述烘干下风机的数量，所述烘干下风机设置在两个烘干上风机之间。

10.一种湿法刻蚀机，其特征在于：所述湿法刻蚀机包括权利要求1至9任一所述的烘干槽。