CN208917063U - 一种减少tft-lcd玻璃基板铂铑氧化损失的装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种减少TFT‑LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，包括玻璃液传送管道、壳体和气体传送管道；壳体内部中空，将玻璃液传送管道包裹其中，形成密闭空间；壳体上沿长度方向分别布置有靠近玻璃液传送管道进液端设置的循环进气阀门，靠近玻璃液传送管道出液端设置的循环回气阀门，气体传送管道连通两个阀门与壳体的密闭空间形成循环回路，气体传送管道上设置有用于通入气体的气体进气阀门，壳体上还设置有气体出气阀门，气体出气阀门与循环进气阀门对角设置。减少密闭空间内的氧气含量，达到减少铂铑氧化损失的目的，使壳体内气体产生流动，从而使壳体内气体混合均匀，气体出气阀门的设置使壳体内的气压不会过大，可进行实时调节。

Description

一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置

技术领域

本实用新型属于TFT-LCD玻璃基板制造领域，尤其是一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置。

背景技术

TFT-LCD玻璃基板是一种应用于TFT-LCD平板显示器的原材料，由于生产工艺的原因，它在制造过程中很容易产生铂铑合金损失，而TFT-LCD平板显示器对TFT-LCD玻璃基板中铂铑含量的大小、数量有非常严格的限制。TFT-LCD玻璃基板的主流制造工艺是熔化、传送、成板、后期处理。而熔化、传送工序最容易产生铂铑氧化损失。若这些铂铑氧化损失在成板以前必须降低到一定水平，避免造成产品品位低，甚至成为废品。关于铂铑氧化损失问题的对策，较为流行的方法是采用减少铂铑合金高温氧化挥发。但是空气中氧气含量控制，需要一套独立密闭气流控制系统。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺点，提供一种

为达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案予以实现：

一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，包括玻璃液传送管道、壳体和气体传送管道；

壳体内部中空，将玻璃液传送管道包裹其中，形成密闭空间；壳体上沿长度方向分别布置有靠近玻璃液传送管道进液端设置的循环进气阀门，靠近玻璃液传送管道出液端设置的循环回气阀门，气体传送管道连通两个阀门与壳体的密闭空间形成循环回路，气体传送管道上设置有用于通入气体的气体进气阀门，壳体上还设置有气体出气阀门，气体出气阀门与循环进气阀门对角设置。

优选的，壳体内部设置有若干氧气含量检测传感器。

优选的，气体进气阀门通入的气体为氮气或惰性气体。

优选的，气体进气阀门连接有用于通入气体的风机，气体出气阀门连接有用于抽出气体的风机。

优选的，壳体将璃液传送管道的冷却段包裹在内。

优选的，壳体内壁包括钢支架结构和设置在钢支架结构上的耐火保温材料，外壁采用无磁不锈钢，无磁不锈钢包裹在钢支架结构上。

优选的，壳体内壁与玻璃液传送管道外壁之间最小距离为120mm，最大距离为280mm。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型采用壳体将玻璃液传送管道包裹其中，形成密闭空间，通过气体进气阀门和循环进气阀门将气体通入，进而减少密闭空间内的氧气含量，达到减少铂铑氧化损失的目的，循环进气阀门和循环回气阀门连接与壳体形成回路，使壳体内气体产生流动，从而使壳体内气体混合均匀，气体出气阀门的设置使壳体内的气压不会过大，可进行实时调节。

进一步，根据生产的规模，壳体的大小，在壳体内部设置若干氧气含量检测传感器，进而对壳体内氧气浓度进行精确的控制。

进一步，通过使用控制柜对气体的进出量进行控制，使装置内氧气浓度能够得到精准的控制。

附图说明

图1为本实用新型所述装置的结构图。

其中：1-玻璃液传送管道；2-壳体；3-气体传送管道；4-氧气含量检测传感器；5-循环进气阀门；6-气体进气阀门；7-循环回气阀门；8-气体出气阀门。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步详细描述：

如图1所示，包括玻璃液传送管道1、壳体2和气体传送管道3；壳体2内部中空，将玻璃液传送管道1的冷却段包裹其中，形成密闭空间，壳体2轴向一侧设置有循环进气阀门5，另一侧设置有循环回气阀门7，气体传送管道3上设置有用于通入气体的气体进气阀门6，气体进气阀门6通过风机，将氮气或惰性气体经循环进气阀门5导入壳体2密闭空间内，进而减少密闭空间内的氧气含量，达到减少铂铑氧化损失的目的，循环进气阀门5和循环回气阀门7通过气体传送管道3连接与壳体2的密闭空间形成回路，使壳体2内气体产生流动，从而使壳体2内气体混合均匀；壳体2上还设置有气体出气阀门8，气体出气阀门8与循环进气阀门5对角设置，气体进气阀门6连接有用于通入气体的风机，气体出气阀门8连接有用于抽出气体的风机，避免壳体2内气压过大，可对壳体2内气压进行实时调节，壳体2内部设置有若干氧气含量检测传感器4，可根据生产的规模，壳体的大小，在壳体2内部设置若干氧气含量检测传感器，进而对壳体内氧气浓度进行精确控制。

壳体2可以是圆筒、方筒或者其它任意形状，其材料具有高熔点和高可靠性，例如：氧化锆、石英石及金属钢构固定件，壳体2内壁采用耐火保温材料及金属钢构成，通常外壁采用无磁不锈钢材料构成；壳体2内壁与玻璃传送载体外壁之间最小距离120mm，最大距离280mm，之间形成一个密封空间。

玻璃液传送管道1的材质为铂、铑、钯等贵金属或它们的合金。高温玻璃液从玻璃液传送管道1流过，所流经的一段空间被壳体2包围。玻璃液传送载体1的外表面和壳体2的内表面之间形成了一个密封空间。氮气或惰性气体通过气体传送管道3被冲进密封空间。而氮气或惰性气体在密封空间中的含量由一套闭环系统控制。此控制系统包含循环进气阀门5、气体进气阀门6、循环回气阀门7、风机、气体出气阀门8、若干氧气含量检测传感器4、控制柜、动力电缆、信号传输电缆和循环载体。

经过实验验证，密封空间内部氮气或惰性气体含量大于95％且小于98％时，玻璃液冷却段铂铑传送载体的氧气份被控制在2％-5％水平，从而达到了减少铂铑氧化损失的效果。

以上内容仅为说明本实用新型的技术思想，不能以此限定本实用新型的保护范围，凡是按照本实用新型提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本实用新型权利要求书的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，其特征在于，包括玻璃液传送管道(1)、壳体(2)和气体传送管道(3)；

壳体(2)内部中空，将玻璃液传送管道(1)包裹其中，形成密闭空间；壳体(2)上沿长度方向分别布置有靠近玻璃液传送管道(1)进液端设置的循环进气阀门(5)，靠近玻璃液传送管道(1)出液端设置的循环回气阀门(7)，气体传送管道(3)连通两个阀门与壳体(2)的密闭空间形成循环回路，气体传送管道(3)上设置有用于通入气体的气体进气阀门(6)，壳体(2)上还设置有气体出气阀门(8)，气体出气阀门(8)与循环进气阀门(5)对角设置。

2.根据权利要求1所述的一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，其特征在于，壳体(2)内部设置有若干氧气含量检测传感器(4)。

3.根据权利要求1所述的一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，其特征在于，气体进气阀门(6)通入的气体为氮气或惰性气体。

4.根据权利要求1所述的一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，其特征在于，气体进气阀门(6)连接有用于通入气体的风机，气体出气阀门(8)连接有用于抽出气体的风机。

5.根据权利要求1所述的一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，其特征在于，壳体(2)将璃液传送管道(1)的冷却段包裹在内。

6.根据权利要求1所述的一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，其特征在于，壳体(2)内壁包括钢支架结构和设置在钢支架结构上的耐火保温材料，外壁采用无磁不锈钢，无磁不锈钢包裹在钢支架结构上。

7.根据权利要求1所述的一种减少TFT-LCD玻璃基板铂铑氧化损失的装置，其特征在于，壳体(2)内壁与玻璃液传送管道(1)外壁之间最小距离为120mm，最大距离为280mm。