CN208853419U - 一种晶圆片盒清洗机构 - Google Patents

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钱诚
李刚
周少龙
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Wuxi Yadian Intelligent Equipment Co Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种清洗机构,具体的说是一种晶圆片盒清洗机构,属于晶圆片盒清洗结构技术领域。其包括底板、旋转台、罩盖、喷头和晶圆片盒,底板中心设有旋转台,旋转台上固定多层晶圆片盒组,多层晶圆片盒组沿着旋转台从上到下依次设置,每层晶圆片盒组包括多个晶圆片盒;罩盖下端固定在底板上并将旋转台包覆在内,罩盖内侧壁设有多层喷头组,多层喷头组沿着罩盖从上到下依次设置,每层喷头组包括多个喷头。本实用新型纯水喷淋晶圆片盒的同时,旋转台带动晶圆片盒转动甩出水珠,能够有效提升片盒清洗的洁净度;热风机同时烘干晶圆片盒,保证片盒表面不会再残留水渍。

Description

一种晶圆片盒清洗机构
技术领域
本实用新型涉及一种清洗机构,具体的说是一种晶圆片盒清洗机构,属于晶圆片盒清洗结构技术领域。
背景技术
随着半导体领域技术的发展,半导体制造商对晶圆的洁净度要求越来越高,与晶圆直接接触的片盒的洁净度的要求也随之提高,传统的晶圆片盒清洗设备已经无法满足洁净度的要求。
发明内容
本实用新型的目的在于克服上述不足之处,从而提供一种晶圆片盒清洗机构,能够有效提升片盒清洗的洁净度。
按照本实用新型提供的技术方案,一种晶圆片盒清洗机构包括底板、旋转台、罩盖、喷头和晶圆片盒,其特征是:底板中心设有旋转台,旋转台上固定多层晶圆片盒组,多层晶圆片盒组沿着旋转台从上到下依次设置,每层晶圆片盒组包括多个晶圆片盒;罩盖下端固定在底板上并将旋转台包覆在内,罩盖内侧壁设有多层喷头组,多层喷头组沿着罩盖从上到下依次设置,每层喷头组包括多个喷头。
进一步的,罩盖顶部内侧设有热风机,热风机正对着旋转台。
进一步的,每层晶圆片盒组的多个晶圆片盒沿着圆周方向均匀分布。
进一步的,每层喷头组的多个喷头沿着圆周方向均匀分布。
本实用新型与已有技术相比具有以下优点:
本实用新型结构简单、紧凑、合理,纯水喷淋晶圆片盒的同时,旋转台带动晶圆片盒转动甩出水珠,能够有效提升片盒清洗的洁净度;热风机同时烘干晶圆片盒,保证片盒表面不会再残留水渍。
附图说明
图1为本实用新型主视图。
图2为本实用新型俯视图。
附图标记说明:1-底板、2-旋转台、3-罩盖、4-喷头、5-热风机、6-晶圆片盒。
具体实施方式
下面本实用新型将结合附图中的实施例作进一步描述:
如图1~2所示,本实用新型主要包括底板1、旋转台2、罩盖3、喷头4、热风机5和晶圆片盒6。
底板1中心设有旋转台2,旋转台2上固定多层晶圆片盒组,多层晶圆片盒组沿着旋转台2从上到下依次设置,每层晶圆片盒组包括多个晶圆片盒6,每层晶圆片盒组的多个晶圆片盒6沿着圆周方向均匀分布。
罩盖3下端固定在底板1上并将旋转台2包覆在内,罩盖3内侧壁设有多层喷头组,多层喷头组沿着罩盖3从上到下依次设置,每层喷头组包括多个喷头4,每层喷头组的多个喷头4沿着圆周方向均匀分布。喷头4工作时对晶圆片盒6进行冲洗。
罩盖3顶部内侧设有热风机5,热风机5正对着旋转台2,热风机5用于烘干旋转台2上的多个晶圆片盒6。
本实用新型的工作原理是:将多个晶圆片盒依次固定在旋转台侧壁上,旋转台带动多个晶圆片盒转动,同时纯水从喷头喷出清洗晶圆片盒,间歇性喷淋一定时间后,将多个晶圆片盒将清洗干净,由于高速旋转而产生的离心力的作用,附着在片盒壁上的水珠将完全被甩出,辅以热风机的烘干功能,片盒表面将不会再残留水渍。
本实用新型结构简单、紧凑、合理,纯水喷淋晶圆片盒的同时,旋转台带动晶圆片盒转动甩出水珠,能够有效提升片盒清洗的洁净度;热风机同时烘干晶圆片盒,保证片盒表面不会再残留水渍。

Claims (4)

1.一种晶圆片盒清洗机构,包括底板(1)、旋转台(2)、罩盖(3)、喷头(4)和晶圆片盒(6),其特征是:底板(1)中心设有旋转台(2),旋转台(2)上固定多层晶圆片盒组,多层晶圆片盒组沿着旋转台(2)从上到下依次设置,每层晶圆片盒组包括多个晶圆片盒(6);罩盖(3)下端固定在底板(1)上并将旋转台(2)包覆在内,罩盖(3)内侧壁设有多层喷头组,多层喷头组沿着罩盖(3)从上到下依次设置,每层喷头组包括多个喷头(4)。
2.如权利要求1所述的一种晶圆片盒清洗机构,其特征是:所述罩盖(3)顶部内侧设有热风机(5),热风机(5)正对着旋转台(2)。
3.如权利要求1所述的一种晶圆片盒清洗机构,其特征是:所述每层晶圆片盒组的多个晶圆片盒(6)沿着圆周方向均匀分布。
4.如权利要求1所述的一种晶圆片盒清洗机构,其特征是:所述每层喷头组的多个喷头(4)沿着圆周方向均匀分布。
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