CN208749613U - 气体处理设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种气体处理设备。气体处理设备包括壳体和设置在所述壳体内部的贯流风轮，所述贯流风轮竖向设置，所述壳体上设置有进风口和出风口，所述出风口的竖向中心线附近的出风方向大致位于所述贯流风轮的径向上。本实用新型气体处理设备，通过将出风口设置成所述出风口的竖向中心线附近的出风方向大致位置与所述贯流风轮的径向上，进而即使所述出风口处不设置导风结构，也可以使得所述气体处理设备的外观更加美感。

Description

气体处理设备

技术领域

本实用新型涉及风扇技术领域，尤其涉及一种气体处理设备。

背景技术

目前，塔扇由于占地面积较小，外观美观，越来越受到大家的认可。塔扇一般采用采用贯流风道，为了保障塔扇的出风量，现有技术中将塔扇的出风口设置在贯流风道的最有利位置，所述塔扇中贯流风道的最有利位置位置塔扇的一侧，即，将所述塔扇的出风口设置在贯流风轮转动方向的切线方向上，如此，现有技术的塔扇的出风口设置在所述塔扇的壳体的一侧，严重影响塔扇的外观，但是，将所述塔扇的出风口设置在所述塔扇的中间位置又会使得塔扇的出风量严重降低，影响用户的使用体验。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种外观更加美观的气体处理设备。

为达到上述目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种气体处理设备，包括壳体和设置在所述壳体内部的贯流风轮，所述贯流风轮竖向设置，所述壳体上设置有进风口和出风口，所述出风口的竖向中心线附近的出风方向大致位于所述贯流风轮的径向上。

优选地，在所述贯流风轮的转动方向上，由所述进风口至出风口的一侧的壳体和贯流风轮之间设置有蜗壳，所述蜗壳包括第一蜗壳段和第二蜗壳段，所述第一蜗壳段靠近所述进风口，所述第二蜗壳段靠近所述出风口，在所述进风口到所述出风口的方向上，所述第一蜗壳段向逐渐靠近所述贯流风轮的方向延伸设置，所述第二蜗壳段向逐渐远离所述贯流风轮的方向延伸设置。

优选地，所述蜗壳上设置有缓冲部，用于降低从所述进风口流入所述壳体内部的气流对所述蜗壳的冲击，所述缓冲部设置在所述第一蜗壳段上且靠近所述第二蜗壳段的位置。

优选地，所述缓冲部构造为圆弧状，靠近所述进风口的一端和所述贯流风轮之间的距离大于远离所述进风口的一端和所述贯流风轮之间的距离。

优选地，所述缓冲部的半径为15-20mm；和/或，

所述缓冲部距离所述贯流风轮的距离为3-8mm。

优选地，在所述贯流风轮的转动方向上，由所述出风口至进风口的一侧的壳体和贯流风轮之间、靠近所述出风口的位置设置有蜗舌，所述蜗舌包括设置在靠近所述出风口一侧的引导部，所述引导部包括大致沿所述贯流风轮的径向延伸的第一引导部和大致沿所述贯流风轮的周向延伸的第二引导部，所述第一引导部和第二引导部之间圆滑过渡连接。

优选地，所述蜗舌包括阻挡部，用于阻挡气流沿所述出风口向所述进风口的方向回流至所述壳体的内腔中。

优选地，在所述贯流风轮的转动方向上，所述阻挡部包括设置在所述引导部下游侧的、向所述贯流风轮凸出的凸起。

优选地，所述气体处理设备还包括设置在所述出风口处的出风格栅，所述出风格栅上设置有导流结构，所述导流结构包括多个导流栅条，所述导流栅条沿竖向设置。

优选地，所述导流栅条包括第一导流段和第二导流段，其中，

所述第一导流段倾斜设置，在所述贯流风轮转动的方向上，所述第一导流段由内向外倾斜，

所述第二导流段位于中间的部分设置成大致沿所述贯流风轮的径向延伸，位于两侧的部分大致与位于中间的部分平行设置。

优选地，在所述贯流风轮的转动方向上，位于上游侧的所述第一导流段的倾斜角度小于位于下游侧的所述第一导流段的倾斜角度。

优选地，所述出风格栅构造为弧形，弧形的所述出风格栅位于以所述贯流风轮的轴线为轴的圆柱面上；和/或，

所述壳体位于以所述贯流风轮的轴线为轴的圆柱面上。

优选地，所述气体处设备包括塔扇。

本实用新型气体处理设备，通过将出风口设置成所述出风口的竖向中心线附近的出风方向大致位置与所述贯流风轮的径向上，进而即使所述出风口处不设置导风结构，也可以使得所述气体处理设备的外观更加美感。

附图说明

通过以下参照附图对本实用新型实施例的描述，本实用新型的上述以及其它目的、特征和优点将更为清楚。

图1是本实用新型具体实施方式中气体处理设备的截面图。

图中：

1、壳体；11、进风口；12、出风口；2、贯流风轮；3、蜗壳；31、第一蜗壳段；32、第二蜗壳段；33、缓冲部；4、蜗舌；41、引导部；411、第一引导部；412、第二引导部；42、阻挡部；421、凸起；5、出风格栅；51、导流结构；511、导流栅条；5111、第一导流段；5112、第二导流段。

具体实施方式

以下基于实施例对本实用新型进行描述，但是本实用新型并不仅仅限于这些实施例。在下文对本实用新型的细节描述中，详尽描述了一些特定的细节部分。

此外，本领域普通技术人员应当理解，在此提供的附图都是为了说明的目的，并且附图不一定是按比例绘制的。

除非上下文明确要求，否则整个说明书和权利要求书中的“包括”、“包含”等类似词语应当解释为包含的含义而不是排他或穷举的含义；也就是说，是“包括但不限于”的含义。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

参照图1所示，本实用新型的一种气体处理设备，例如可以是塔扇，所述气体处理设备包括壳体1和设置在所述壳体1内部的贯流风轮2，所述贯流风/2竖向设置，所述壳体1上设置有进风口11和出风口12，所述出风口12的竖向中心线附近的出风方向大致位于所述贯流风轮2的径向上，如此，即使所述出风口12处不设置导风结构例如格栅结构，也可以使得所述气体处理设备的外观更加美观。

由于所述气体处理设备的内部设置有贯流风轮2，将所述气体处理设备的出风口12设置成所述出风口12的竖向中心线附近的出风方向大致位于所述贯流风轮2的径向上，虽然能够使得所述气体处理设备的外观更加美观，但是，这样设置会使得所述气体处理设备的出风量降低，为此，在所述贯流风轮2的转动方向上，由所述出风口12至进风口11的一侧的壳体1和贯流风轮2之间、靠近所述出风口12的位置设置蜗舌4，在所述蜗舌4的靠近所述出风口12的位置设置引导部41，所述引导部41包括大致沿所述贯流风轮2的径向延伸的第一引导部411和大致沿所述贯流风轮2的周向延伸的第二引导部412，在所述贯流风轮2的作用下，所述气体处理设备外部的空气经所述进风口11进入所述壳体1的内部，进入所述壳体1内部的空气部分沿所述第一导流部411从所述出风口12排出，另一部分沿所述第二导流部412回流至所述壳体1的内部，所述第一导流部411的设置使得进入所述壳体1内部的空气部分顺畅的从所述出风口12排出，所述第二导流部412的设置使得进入所述壳体1内部的空气部分顺畅的回流至所述壳体1的内部，进而减小空气阻力，降低能耗，通过逐渐缩小所述第二导流部412距离所述贯流风轮2之间的距离即可减小所述出风口12处空气回流至所述壳体1内部的空气量。所述第一引导部411和第二引导部412之间圆滑过渡连接，可以进一步减小空气阻力，减低能耗。

所述蜗舌4包括阻挡部42，用于阻挡气流沿所述出风口12向所述进风口11的方向回流至所述壳体1的内腔中，进而使得所述出风口12处回流到所述壳体1内部的的空气量降低，所述气体处理设备的出风量提高。

在所述贯流风轮2的转动方向上，所述阻挡部42包括设置在所述引导部41下游侧的、向所述贯流风轮2凸出的凸起421，优选地，所述引导部41的下游侧指所述第二引导部412，所述凸起421距离所述贯流风轮2的距离使得回流至所述壳体1内部的空气的回流风道在凸起421位置减小，进而使得回流至所述壳体1内部的空气在所述第二引导部421处风压增大，所述出风口12处的空气回流至所述壳体1的压力增大，进而减小所述出风口12处回流至所述壳体1内部的空气量，提高所述气体处理设备的出风量。

在所述贯流风轮2的转动方向上，由所述进风口11至出风口12的一侧的壳体1和贯流风轮2之间设置有蜗壳3，所述蜗壳3包括第一蜗壳段31和第二蜗壳段32，所述第一蜗壳段31靠近所述进风口11，所述第二蜗壳段32靠近所述出风口12，在所述进风口11到所述出风口12的方向上，所述第一蜗壳段31向逐渐靠近所述贯流风轮2的方向延伸设置，所述第二蜗壳段32向逐渐远离所述贯流风轮2的方向延伸设置，如此，使得所述气体处理设备的进风量和出风量得到提高，进而使得所述气体处理设备的体验提升。优选地，所述第二蜗壳段32优选设置成螺旋形，如此，进一步提升所述气体处理设备的进风量和出风量。

在所述蜗壳3上设置有缓冲部33，用于降低从所述进风口11流入所述壳体1内部的气流对所述蜗壳3的冲击，所述缓冲部33设置在所述第一蜗壳段31上且靠近所述第二蜗壳段32的位置，如此，从所述进风口11进入所述壳体1内部的空气直接作用于所述缓冲部33，在所述缓冲部33的作用下，进入所述壳体1内部的空气对所述蜗壳3的冲击作用减小，所述蜗壳3的寿命增加，因进入所述壳体1内部的空气对所述蜗壳3的冲击造成的噪音减小。

所述缓冲部33构造为圆弧状，靠近所述进风口11的一端和所述贯流风轮2之间的距离大于远离所述进风口11的一端和所述贯流风轮2之间的距离，所述缓冲部33优选为圆弧凹坑，进入所述壳体1内部的空气直接进入所述圆弧凹坑内部，进入所述壳体1内部的空气对所述圆弧凹坑的作用方向为垂直所述圆弧凹坑的圆弧面的多个方向，如此，进入所述壳体1内部的空气对所述蜗壳3的总作用力降低，即，对所述蜗壳3的冲击减小。优选地，所述缓冲部33的半径为15-20mm，所述缓冲部33距离所述贯流风轮2的距离为3-8mm。

所述气体处理设备还包括设置在所述出风口12处的出风格栅5，所述出风格/5上设置有导流结构51，所述导流结构51包括多个导流栅条511，所述导流栅条511沿竖向设置，所述壳体1内部的空气在所述导流栅条511的导流作用下能够从上所述气体处理设备的内部顺畅地排出。

所述导流栅条511包括第一导流段5111和第二导流段5112，其中，所述第一导流段5111倾斜设置，在所述贯流风轮2转动的方向上，所述第一导流段5111由内向外倾斜，所述第二导流段5112位于中间的部分设置成大致沿所述贯流风轮2的径向延伸，位于两侧的部分大致与位于中间的部分平行设置，如此，使得所述气体处理设备的风量和风速得到提高，进而使得所述气体处理设备的体验提升。

在所述贯流风轮2的转动方向上，位于上游侧的所述第一导流段5111的倾斜角度小于位于下游侧的所述第一导流段5111的倾斜角度，如此，使得所述出风口12处的出风方向沿所述贯流风轮2的径向出风，提高所述气体处理设备的使用体验。

所述出风格栅5构造为弧形，弧形的所述出风格栅5位于以所述贯流风轮2的轴线为轴的圆柱面上，所述壳体1位于以所述贯流风轮2的轴线为轴的圆柱面上，如此，所述气体处理设备的外观更加美观。

本领域的技术人员容易理解的是，在不冲突的前提下，上述各优选方案可以自由地组合、叠加。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并不用于限制本实用新型，对于本领域技术人员而言，本实用新型可以有各种改动和变化。凡在本实用新型的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (13)

1.一种气体处理设备，其特征在于，包括壳体和设置在所述壳体内部的贯流风轮，所述贯流风轮竖向设置，所述壳体上设置有进风口和出风口，所述出风口的竖向中心线附近的出风方向大致位于所述贯流风轮的径向上。

2.根据权利要求1所述的气体处理设备，其特征在于，在所述贯流风轮的转动方向上，由所述进风口至出风口的一侧的壳体和贯流风轮之间设置有蜗壳，所述蜗壳包括第一蜗壳段和第二蜗壳段，所述第一蜗壳段靠近所述进风口，所述第二蜗壳段靠近所述出风口，在所述进风口到所述出风口的方向上，所述第一蜗壳段向逐渐靠近所述贯流风轮的方向延伸设置，所述第二蜗壳段向逐渐远离所述贯流风轮的方向延伸设置。

3.根据权利要求2所述的气体处理设备，其特征在于，所述蜗壳上设置有缓冲部，用于降低从所述进风口流入所述壳体内部的气流对所述蜗壳的冲击，所述缓冲部设置在所述第一蜗壳段上且靠近所述第二蜗壳段的位置。

4.根据权利要求3所述的气体处理设备，其特征在于，所述缓冲部构造为圆弧状，靠近所述进风口的一端和所述贯流风轮之间的距离大于远离所述进风口的一端和所述贯流风轮之间的距离。

5.根据权利要求4所述的气体处理设备，其特征在于，所述缓冲部的半径为15-20mm；和/或，

所述缓冲部距离所述贯流风轮的距离为3-8mm。

6.根据权利要求1所述的气体处理设备，其特征在于，在所述贯流风轮的转动方向上，由所述出风口至进风口的一侧的壳体和贯流风轮之间、靠近所述出风口的位置设置有蜗舌，所述蜗舌包括设置在靠近所述出风口一侧的引导部，所述引导部包括大致沿所述贯流风轮的径向延伸的第一引导部和大致沿所述贯流风轮的周向延伸的第二引导部，所述第一引导部和第二引导部之间圆滑过渡连接。

7.根据权利要求6所述的气体处理设备，其特征在于，所述蜗舌包括阻挡部，用于阻挡气流沿所述出风口向所述进风口的方向回流至所述壳体的内腔中。

8.根据权利要求7所述的气体处理设备，其特征在于，在所述贯流风轮的转动方向上，所述阻挡部包括设置在所述引导部下游侧的、向所述贯流风轮凸出的凸起。

9.根据权利要求1所述的气体处理设备，其特征在于，所述气体处理设备还包括设置在所述出风口处的出风格栅，所述出风格栅上设置有导流结构，所述导流结构包括多个导流栅条，所述导流栅条沿竖向设置。

10.根据权利要求9所述的气体处理设备，其特征在于，所述导流栅条包括第一导流段和第二导流段，其中，

所述第一导流段倾斜设置，在所述贯流风轮转动的方向上，所述第一导流段由内向外倾斜，

所述第二导流段位于中间的部分设置成大致沿所述贯流风轮的径向延伸，位于两侧的部分大致与位于中间的部分平行设置。

11.根据权利要求10所述的气体处理设备，其特征在于，在所述贯流风轮的转动方向上，位于上游侧的所述第一导流段的倾斜角度小于位于下游侧的所述第一导流段的倾斜角度。

12.根据权利要求9所述的气体处理设备，其特征在于，所述出风格栅构造为弧形，弧形的所述出风格栅位于以所述贯流风轮的轴线为轴的圆柱面上；和/或，

所述壳体位于以所述贯流风轮的轴线为轴的圆柱面上。

13.根据权利要求1-12之一所述的气体处理设备，其特征在于，所述气体处设备包括塔扇。