CN208673039U - 光罩弯曲校正装置及曝光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种光罩弯曲校正装置及曝光机，所述光罩弯曲校正装置包括第一光罩保持架、第二光罩保持架及抽真空装置，其中，所述第一光罩保持架为方框形结构，其下表面包括多个第一吸附口，以吸附所述光罩的四周部分；所述第二光罩保持架为杆状结构且与所述第一光罩保持架构成日字形结构，所述杆状结构的下表面包括多个第二吸附口，以吸附所述光罩的中间部分；所述第一光罩保持架和所述第二光罩保持架分别包括连接至抽真空装置的真空接口。该光罩弯曲校正装置设置有第一光罩保持架和第二光罩保持架，能够很大程度上减少曝光过程中光罩自身重力导致的下垂，避免光罩上的图案在转印过程中发生失真现象。

Description

光罩弯曲校正装置及曝光机

技术领域

本实用新型属于电路板制作技术领域，具体涉及一种光罩弯曲校正装置及曝光机。

背景技术

印制电路板，又称印刷电路板，是电子元器件电气连接的提供者。它的设计主要是版图设计，而曝光是印制电路板中的一道关键工序。曝光时汞灯发出的光经调整后入射到光罩表面，再经光学调整装置照射到基板表面，从而将光罩上的图案转印到基板上。一般情况下，光罩放置在光罩台上，由于自身重力作用，光罩会产生一定的弯曲下垂，而下垂会使得曝光时光罩上的图案转印到基板上时发生失真现象。

针对光罩下垂弯曲的现象，现有的解决方案是设置光罩弯曲校正装置，一般为分体式设计，即，光罩和光罩弯曲校正装置为两个单独的构件，光罩弯曲校正装置作为曝光机组成部件，设置在光罩上方，对光罩进行提升和吸附。

请参见图1，图1是现有技术的一种光罩弯曲校正装置的结构示意图。该光罩弯曲校正装置为一种光罩保持器1，设置在光罩2的四周，能够对光罩2的四周进行一定的吸附，但由于自身重力作用，光罩2的中心位置还是会产生一定的下垂，影响产品精度。请参见图2，图2是现有技术的另一种光罩弯曲校正装置的结构示意图。该光罩弯曲校正装置3与光罩2之间形成密封单元，从而形成一个真空负压室4，通过抽真空使得真空负压室4产生负压，对光罩2产生一个向上的吸附力，对光罩2的下垂量进行补正，但是，该补正装置结构复杂，在每次更换光罩之后都需要对真空负压室进行抽真空，比较耗时且成本较高。

实用新型内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本实用新型提供了一种光罩弯曲校正装置及一种曝光机。本实用新型要解决的技术问题通过以下技术方案实现：

本实用新型的一个方面提供了一种光罩弯曲校正装置，包括第一光罩保持架、第二光罩保持架以及抽真空装置，其中，

所述第一光罩保持架为方框形结构，所述方框形结构的下表面包括多个第一吸附口，以吸附所述光罩的四周部分；

所述第二光罩保持架为杆状结构且与所述第一光罩保持架构成日字形结构，所述杆状结构的下表面包括多个第二吸附口，以吸附所述光罩的中间部分；

所述多个第一吸附口和所述多个第二吸附口设置在同一平面上；

所述第一光罩保持架和所述第二光罩保持架均包括真空接口，所述第一吸附口和所述第二吸附口分别通过所述真空接口连接至所述抽真空装置。

在本实用新型的一个实施例中，所述第一光罩保持架和所述第二光罩保持架的内部均包括真空腔，所述真空接口开设在所述真空腔的侧壁，所述第一吸附口或所述第二吸附口开设在所述真空腔的下壁。

在本实用新型的一个实施例中，所述光罩弯曲校正装置还包括支撑杆，所述第二光罩保持架安装在所述支撑杆的下表面上，使得所述第一吸附口和所述第二吸附口处于同一平面上。

在本实用新型的一个实施例中，所述第二光罩保持架的上表面与所述支撑杆的下表面相粘合或者焊接结合。

在本实用新型的一个实施例中，所述支撑杆架设在所述第一光罩保持架上，且平行于所述第一光罩保持架的一侧。

在本实用新型的一个实施例中，所述光罩弯曲校正装置还包括驱动装置，所述驱动装置电连接至所述支撑杆，以驱动所述支撑杆移动。

在本实用新型的一个实施例中，所述第一光罩保持架的两侧分别设置有一个平行于所述第一光罩保持架的滑轨，所述支撑杆的两端分别垂直容纳在相应侧的滑轨中。

在本实用新型的一个实施例中，所述第一光罩保持架沿其长度方向均匀开设有两列所述第一吸附口。

在本实用新型的一个实施例中，所述第二光罩保持架沿其长度方向均匀开设有四列所述第二吸附口。

本实用新型的另一方面提供了一种曝光机，包括光罩台，所述光罩台上安装有上述实施例中任一项所述的光罩弯曲校正装置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

1、本实用新型的光罩弯曲校正装置同时设置有用于吸附光罩周边部分的第一光罩保持架以及用于吸附光罩中间部分的第二光罩保持架，能够很大程度上减少曝光过程中光罩由于自身重力原因而导致的弯曲下垂，避免了光罩上的图案转印到基板上时发生失真现象。

2、本实用新型的第二光罩保持架能够通过驱动装置的驱动而移动，从而可以方便地根据不同型号的光罩产品而调整吸附位置，以达到最好的校正效果。

3、本实用新型的光罩弯曲校正装置结构简单，操作方便且成本较低。

附图说明

图1是现有技术提供的一种光罩弯曲校正装置的结构示意图；

图2是现有技术提供的另一种光罩弯曲校正装置的结构示意图；

图3是本实用新型实施例提供的一种光罩弯曲校正装置的结构示意图；

图4是本实用新型实施例提供的一种光罩弯曲校正装置的截面示意图。

附图标记如下：

1-光罩保持器；2-光罩；3-光罩弯曲校正装置；4-真空负压室；5-第一光罩保持架；6-第二光罩保持架；7-第一吸附口；8-第二吸附口；9-真空接口；10-真空腔；11-支撑杆；12-滑轨；13-光罩台。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型内容做进一步描述，但本实用新型的实施方式不限于此。

请参见图3和图4，图3是本实用新型实施例提供的一种光罩弯曲校正装置的结构示意图；图4是本实用新型实施例提供的一种光罩弯曲校正装置的截面示意图。该光罩弯曲校正装置包括第一光罩保持架5、第二光罩保持架6以及同时连接至第一光罩保持架5和第二光罩保持架6的抽真空装置(未示出)。具体地，如图3所示，第一光罩保持架5为方框形结构，其尺寸略小于光罩的尺寸；第二光罩保持架6为杆状结构且与第一光罩保持架5构成日字形结构。第一光罩保持架5的下表面包括多个第一吸附口7，所述多个第一吸附口7用于吸附光罩2的四周部分，以将光罩2固定在第一光罩保持架5的下方，第二光罩保持架6的下表面包括多个第二吸附口8，第二吸附口8用于吸附光罩2的中间部分，从而能够有效地防止光罩2中间部分的下垂，如图4所示。在本实施例中，第一光罩保持架5沿其长度方向均匀开设有两列第一吸附口7。第二光罩保持架6沿其长度方向均匀开设有四列第二吸附口8。此外，所述第一吸附口7和所述第二吸附口8位于在同一平面上，以保证被吸附光罩的平整性。

进一步地，第一光罩保持架5和第二光罩保持架6上分别开设有真空接口9，第一光罩保持架5和第二光罩保持架6的内部均包括真空腔10，真空接口9开设在真空腔10的侧壁，第一吸附口7或第二吸附口8开设在真空腔10的下壁。真空接口9与所述抽真空装置密封连接，通过所述抽真空装置进行抽真空操作，从而在第一吸附口7和第二吸附口8处形成负压，以将光罩2吸附在第一吸附口7和第二吸附口8上。

本实施例的光罩弯曲校正装置同时设置有用于吸附光罩周边部分的第一光罩保持架和吸附光罩中间部分的第二光罩保持架，能够很大程度地减少曝光过程中光罩由于自身重力原因而导致的下垂，从而避免了光罩上的图案转印到基板上时发生失真现象。

进一步地，请参见图3，本实施例的光罩弯曲校正装置还包括支撑杆11，第二光罩保持架6安装在支撑杆11的下表面上，支撑杆11架设在第一光罩保持架5上，且平行于第一光罩保持架5的一侧，使得第一吸附口7和第二吸附口8处于同一平面上。支撑杆11平行于第一光罩保持架5的两个相对边，而垂直于第一光罩保持架5的另外两个相对边。在本实施例中，第二光罩保持架6的上表面与支撑杆11的下表面相粘合或者焊接结合。进一步地，在其他实施例中，第二光罩保持架6的上表面与支撑杆11的下表面还可以以活动方式连接，以方便拆卸。

本实施例的光罩弯曲校正装置还包括驱动装置，所述驱动装置电连接至支撑杆11，以驱动支撑杆11移动，使得支撑杆11能够垂直于其长度方向平移，并且带动第二光罩保持架6在第一光罩保持架5的范围内平移。另外，第一光罩保持架5的两侧分别设置有一个平行于第一光罩保持架5的滑轨12，支撑杆11的两端分别垂直容纳在相应侧的滑轨12中。滑轨12用于引导支撑杆11的平移，支撑杆11只能顺着滑轨12的方向滑动，避免了第一光罩保持架5的错误定位。在实际操作过程中，可以根据实际情况通过驱动装置自动地调节第一光罩保持架5对于光罩的吸附位置，以达到对于光罩最好的校正效果。

本实施例的第二光罩保持架能够通过驱动装置的驱动而移动，从而可以方便地根据不同型号的光罩产品而调整吸附位置，以达到最好的校正效果。另外，本实用新型的光罩弯曲校正装置结构简单，操作方便且成本较低。

本实用新型的另一个实施例还提供了一种曝光机，所述曝光机包括光罩台13，光罩台13上安装有上述实施例中的光罩弯曲校正装置。

有上述描述可知，该曝光机由于包括上述光罩弯曲校正装置，因此能够最大程度地减少曝光过程中光罩由于自身重力原因而导致的下垂，从而避免了光罩上的图案转印到基板上时发生失真现象。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明，不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种光罩弯曲校正装置，其特征在于，包括第一光罩保持架(5)、第二光罩保持架(6)及抽真空装置，其中，

所述第一光罩保持架(5)为方框形结构，所述方框形结构的下表面包括多个第一吸附口(7)，以吸附所述光罩(2)的四周部分；

所述第二光罩保持架(6)为杆状结构且与所述第一光罩保持架(5)构成日字形结构，所述杆状结构的下表面包括多个第二吸附口(8)，以吸附所述光罩(2)的中间部分；

所述多个第一吸附口(7)和所述多个第二吸附口(8)设置在同一平面上；

所述第一光罩保持架(5)和所述第二光罩保持架(6)均包括真空接口(9)，所述第一吸附口(7)和所述第二吸附口(8)分别通过所述真空接口(9)连接至所述抽真空装置。

2.根据权利要求1所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述第一光罩保持架(5)和所述第二光罩保持架(6)的内部均包括真空腔(10)，所述真空接口(9)开设在所述真空腔(10)的侧壁，所述第一吸附口(7)或所述第二吸附口(8)开设在所述真空腔(10)的下壁。

3.根据权利要求2所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述光罩弯曲校正装置还包括支撑杆(11)，所述第二光罩保持架(6)安装在所述支撑杆(11)的下表面上，使得所述第一吸附口(7)和所述第二吸附口(8)处于同一平面上。

4.根据权利要求3所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述第二光罩保持架(6)的上表面与所述支撑杆(11)的下表面相粘合或者焊接结合。

5.根据权利要求4所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述支撑杆(11)架设在所述第一光罩保持架(5)上，且平行于所述第一光罩保持架(5)的一侧。

6.根据权利要求5所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述光罩弯曲校正装置还包括驱动装置，所述驱动装置电连接至所述支撑杆(11)，以驱动所述支撑杆(11)移动。

7.根据权利要求6所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述第一光罩保持架(5)的两侧分别设置有一个平行于所述第一光罩保持架(5)的滑轨(12)，所述支撑杆(11)的两端分别垂直容纳在相应侧的滑轨(12)中。

8.根据权利要求1所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述第一光罩保持架(5)沿其长度方向均匀开设有两列所述第一吸附口(7)。

9.根据权利要求8所述的光罩弯曲校正装置，其特征在于，所述第二光罩保持架(6)沿其长度方向均匀开设有四列所述第二吸附口(8)。

10.一种曝光机，包括光罩台(13)，其特征在于，所述光罩台(13)上安装有权利要求1至9中任一项所述的光罩弯曲校正装置。