CN208627252U - 一种高分子化学反应器 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种高分子化学反应器，包括反应罐，所述反应罐包括罐体和扣合在罐体上的罐盖，罐盖顶部设有进料管，罐体底部设有出料管，所述罐体内设有搅动研磨装置，所述搅动研磨装置包括转轴、支撑板、搅拌架和研磨片，支撑板下方的转轴上安装有与罐体内壁相配合的搅拌架，所述搅拌架包括支架、刮板、第一连杆、第二连杆、第三连杆、销轴和气缸。本实用新型通过设置搅动研磨装置，可使反应物之间充分接触，加快反应速度和效率；同时通过设置控温腔、水泵和环形挡板，可控制化学反应的温度，以提高高分子材料的成型率。

Description

一种高分子化学反应器

技术领域

本实用新型涉及化学反应装置领域，特别是涉及一种高分子化学反应器。

背景技术

在化学反应中，很多高分子化学成分都需要经过高分子化学反应装置进行反应，但反应过程中存在很多困难，如果反应效果差，很有可能影响最终的加工成型。

在高分子化学反应中，因反应时不能彻底反应，反应速率低，故常常需要对反应物进行搅拌，使反应物之间充分接触，加快反应速率，现有的反应装置对反应物的搅拌不充分，影响反应效果。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种可充分搅拌的高分子化学反应器。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的：

一种高分子化学反应器，包括反应罐，所述反应罐包括罐体和扣合在罐体上的罐盖，罐盖顶部设有进料管，罐体底部设有出料管，所述罐体内设有搅动研磨装置，所述搅动研磨装置包括转轴、支撑板、搅拌架和研磨片，所述转轴竖直地安装在罐体中部，转轴顶端穿过罐盖后连接有电机，所述支撑板可转动地安装在罐体内的转轴上，支撑板呈锥形，支撑板表面设有多块呈环形且均匀分布的研磨片，每块研磨片均通过支杆固定在转轴上，研磨片上方设有环形的压块，每块研磨片表面均加工有与压块连接的卡槽，所述研磨片下方的支撑板表面加工有磨齿面，支撑板下方的转轴上安装有与罐体内壁相配合的搅拌架，所述搅拌架包括支架、刮板、第一连杆、第二连杆、第三连杆、销轴和气缸，支架固定在转轴上，刮板通过第一连杆悬挂安装在支架下方，刮板的侧壁上铰接有第二连杆，第二连杆远离刮板的一端通过销轴与第三连杆的一端铰接，第三连杆远离销轴的一端铰接在转轴上，气缸安装在支架上，且气缸的活塞杆与销轴连接。

所述罐体的罐壁内加工有中空的控温腔，控温腔上部的罐壁上加工有流体入口，控温腔底部的罐壁上加工有流体出口，且流体出口上设有水泵。

所述控温腔内设有水平设置的环形挡板，每块环形挡板上均加工有错落的通孔。

所述支撑板的底面上设有与罐体内壁相配合的定位器，所述定位器包括伸缩臂和橡胶摩擦垫，伸缩臂固定在支撑板底面，伸缩臂的伸出端上安装有橡胶摩擦垫。

本实用新型具有如下效果：

(1)通过设置搅动研磨装置，可使反应物之间充分接触，加快反应速度和效率；

(2)通过设置控温腔、水泵和环形挡板，可控制化学反应的温度，以提高高分子材料的成型率；

(3)通过设置定位器，可方便地控制支撑板的高度，使反应罐能根据高分子材料的多少进行调节，以提高反应的效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型搅动研磨装置的结构示意图。

图3为本实用新型定位器的结构示意图。

图4为本实用新型搅拌架的结构示意图。

附图标记：1、反应罐；11、罐体；12、罐盖；13、进料管；14、出料管；2、控温腔；21、流体入口；22、流体出口；23、水泵；24、环形挡板；25、通孔；3、搅动研磨装置；31、转轴；32、支撑板；33、研磨片；34、电机；35、支杆；36、压块；37、卡槽；38、磨齿面；4、定位器；41、伸缩臂；42、橡胶摩擦垫；5、搅拌架；51、支架；52、刮板；53、第一连杆；54、第二连杆；55、第三连杆；56、销轴；57、气缸。

具体实施方式

实施例

如图1～图4所示，本实施例提供的高分子化学反应器包括反应罐1和搅动研磨装置3，所述反应罐1包括罐体11和扣合在罐体11上的罐盖12，罐盖12顶部设有进料管13，罐体11底部设有出料管14，所述罐体11的罐壁内加工有中空的控温腔2，控温腔2上部的罐壁上加工有流体入口21，控温腔2底部的罐壁上加工有流体出口22，且流体出口22上设有水泵23，控温腔2内设有水平设置的环形挡板24，每块环形挡板24上均加工有错落的通孔25。

所述罐体11内设有搅动研磨装置3，所述搅动研磨装置3包括转轴31、支撑板32、搅拌架5和研磨片33，所述转轴31竖直地安装在罐体11中部，转轴31顶端穿过罐盖12后连接有电机34，所述支撑板32可转动地安装在罐体11内的转轴31上，支撑板32呈锥形，支撑板32表面设有多块呈环形且均匀分布的研磨片33，每块研磨片33均通过支杆35固定在转轴31上，研磨片33上方设有环形的压块36，每块研磨片33表面均加工有与压块36连接的卡槽37，所述研磨片33下方的支撑板32表面加工有磨齿面38，支撑板32的底面上设有与罐体11内壁相配合的定位器4，所述定位器4包括伸缩臂41和橡胶摩擦垫42，伸缩臂41固定在支撑板32底面，伸缩臂41的伸出端上安装有橡胶摩擦垫42，支撑板32下方的转轴31上安装有与罐体11内壁相配合的搅拌架5。

所述搅拌架5包括支架51、刮板52、第一连杆53、第二连杆54、第三连杆55、销轴56和气缸57，支架51固定在转轴31上，刮板52通过第一连杆53悬挂安装在支架51下方，刮板52的侧壁上铰接有第二连杆54，第二连杆54远离刮板52的一端通过销轴56与第三连杆55的一端铰接，第三连杆55远离销轴56的一端铰接在转轴31上，气缸57安装在支架51上，且气缸57的活塞杆与销轴56连接。

本实用新型的使用方法是：

使用时，工人通过进料管13将高分子材料和催化剂放入罐体11内，高分子材料进入罐体11后掉在支撑板32上，然后工人启动电机34，电机34的输出轴带动转轴31转动，通过支杆35固定在转轴31上的研磨片33与支撑板32表面的磨齿面38相互配合，使高分子材料和催化剂充分接触，以加快后期高分子材料化学反应的速度和效率，接着充分接触的高分子材料和催化剂掉落在支撑板32下方的罐体11内；随后工人通过流体入口21将高温物料送入控温腔2内，并从流体出口22流出，高温物料经过控温腔2时，提高罐体11内的温度，高温物料经过环形挡板24时，通过热传递将高温均匀的分布在罐体11的侧壁内，以避免罐体11内的温度不一致，通过设置控温腔2，可通过控制高温物料的温度从而控制罐体11内化学反应的温度；搅拌架5在转轴31的带动下，带动高分子材料搅动，使高分子材料在高温下与催化剂进行化学反应，搅拌架5在转动时，工人控制气缸57的活塞杆做往复运动，用于控制刮板52与罐体11内壁之间的距离，以提高高分子材料的流动性，使高分子材料的成型率。

以上所述仅是本实用新型优选的实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何基于本实用新型所提供的技术方案和发明构思进行的改造和替换都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (4)

1.一种高分子化学反应器，包括反应罐，所述反应罐包括罐体和扣合在罐体上的罐盖，罐盖顶部设有进料管，罐体底部设有出料管，其特征在于：所述罐体内设有搅动研磨装置，所述搅动研磨装置包括转轴、支撑板、搅拌架和研磨片，所述转轴竖直地安装在罐体中部，转轴顶端穿过罐盖后连接有电机，所述支撑板可转动地安装在罐体内的转轴上，支撑板呈锥形，支撑板表面设有多块呈环形且均匀分布的研磨片，每块研磨片均通过支杆固定在转轴上，研磨片上方设有环形的压块，每块研磨片表面均加工有与压块连接的卡槽，所述研磨片下方的支撑板表面加工有磨齿面，支撑板下方的转轴上安装有与罐体内壁相配合的搅拌架，所述搅拌架包括支架、刮板、第一连杆、第二连杆、第三连杆、销轴和气缸，支架固定在转轴上，刮板通过第一连杆悬挂安装在支架下方，刮板的侧壁上铰接有第二连杆，第二连杆远离刮板的一端通过销轴与第三连杆的一端铰接，第三连杆远离销轴的一端铰接在转轴上，气缸安装在支架上，且气缸的活塞杆与销轴连接。

2.根据权利要求1所述的高分子化学反应器，其特征在于：所述罐体的罐壁内加工有中空的控温腔，控温腔上部的罐壁上加工有流体入口，控温腔底部的罐壁上加工有流体出口，且流体出口上设有水泵。

3.根据权利要求2所述的高分子化学反应器，其特征在于：所述控温腔内设有水平设置的环形挡板，每块环形挡板上均加工有错落的通孔。

4.根据权利要求1所述的高分子化学反应器，其特征在于：所述支撑板的底面上设有与罐体内壁相配合的定位器，所述定位器包括伸缩臂和橡胶摩擦垫，伸缩臂固定在支撑板底面，伸缩臂的伸出端上安装有橡胶摩擦垫。