CN208603337U - 真空调节机构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空调节机构，包括基座和真空接头，所述基座内部设有真空腔，基座的吸附面设有一排与所述真空腔连通的真空孔，所述真空接头安装于基座的侧壁并且真空接头与真空腔连通，通过真空接头对真空腔抽真空，从而在吸附面产生吸附力；还包括真空调节导杆；所述真空调节导杆的一端插入所述真空腔内，并且真空调节导杆的插入端设有与真空腔适配的密封圈，通过调节真空调节导杆插入真空腔的深度从而改变吸附面的吸附面积。本实用新型增加了基座调节吸附面积的功能，减少人工更换的次数，提高生产效率，同时提高吸附定位的精确度。

Description

真空调节机构

技术领域

本实用新型涉及液晶面板加工技术领域，具体涉及一种真空调节机构。

背景技术

在LCM(液晶模组)生产工艺中，ACF(异方性导电胶膜)的吸附定位使用真空调节结构。真空调节机构安装于工作台上，真空调节机构的上表面为吸附面，吸附面设有一排真空孔，ACF放置在吸附面后，真空孔产生负压，从而将ACF吸附在真空调节机构上，从而实现定位。真空调节机构的吸附面的长度由ACF的大小而定，一种尺寸的ACF则对应一种规格的真空调节机构。两两相邻的真空孔的间距均相等，越长的吸附面，其真空孔越多。

加工不同大小的ACF，则通过更换不同规格的真空调节机构，从而导致每个工作台需要配备不同规格的真空调节机构，额外的增加了设备的制作成本。而更换真空调节机构也会占用大量时间，降低了生产效率。此外，由于ACF吸附定位的精度较高(贴附：X：±0.15mm，Y：±0.1mm)，重新安装真空调节机构有可能产生误差，为了避免这种误差则需要对真空调节机构进行水平校准，以保证吸附定位的精确度。

实用新型内容

针对现有技术中的缺陷，本实用新型提供一种真空调节机构，以增加基座调节吸附面积的功能，减少人工更换的次数，提高生产效率，同时提高吸附定位的精确度。

本实用新型提供了一种真空调节机构，包括基座和真空接头，所述基座内部设有真空腔，基座的吸附面设有一排与所述真空腔连通的真空孔，所述真空接头安装于基座的侧壁并且真空接头与真空腔连通，通过真空接头对真空腔抽真空，从而在吸附面产生吸附力；

还包括真空调节导杆；所述真空调节导杆的一端插入所述真空腔内，并且真空调节导杆的插入端设有与真空腔适配的密封圈，通过调节真空调节导杆插入真空腔的深度从而改变吸附面的吸附面积。

优选地，所述真空调节导杆与所述真空腔通过螺纹连接。

优选地，所述真空调节导杆设有外螺纹，所述真空腔设有与所述外螺纹适配的内螺纹。采用螺纹连接使真空调节导杆在真空腔内旋进和旋出更加平稳，并且旋进和旋出的长度容易控制，有利于提高改变吸附面积的准确度。

优选地，所述密封圈设有与所述真空腔的内螺纹适配的外螺纹，通过旋转真空调节导杆带动密封圈转动，从而改变真空调节导杆插入端的真空腔的长度。密封圈将密封圈左边的真空腔和右边的真空腔阻断，有效地避免了左边的真空腔和右边的真空腔串气，保证了左边的真空腔的吸附面所产生的吸力。

优选地，与所述真空调节导杆的插入端相对的另外一端设有旋钮。旋钮方便旋转真空调节导杆。

优选地，所述基座设有刻度尺并且刻度尺沿着所述真空调节导杆的轴向延伸，用于测量真空调节导杆插入真空腔的深度。通过刻度尺实现定量旋转，更直观的观察到真空调节导杆旋进和旋出的距离。

优选地，所述基座设有用于固定基座的台阶面。

优选地，所述台阶面设有定位孔。定位孔设有两个，通过锁紧件将基座固定在工作台上。

优选地，所述基座设有用于防止所述真空调节导杆晃动的固定块。

优选地，所述固定块与所述基座固定连接，所述固定块设有使真空调节导杆贯穿的通孔。真空调节导杆插入真空腔的深度较浅时，真空调节导杆容易发生晃动，通过固定块有效地避免了晃动，使真空调节导杆更加平稳地旋进和旋出。

本实用新型的有益效果体现在：

本设备包括基座、真空接头和真空调节导杆，所述真空调节导杆的一端插入所述真空腔内，并且真空调节导杆的插入端设有与真空腔适配的密封圈。其中密封圈用于阻断密封圈左边的真空腔和右边的真空腔，从而使密封圈左边的真空腔上的真空孔与真空接头导通，相应地改变吸附面的吸附面积。对于尺寸小的ACF，则减小调节真空调节导杆插入真空腔的深度，密封圈左边的真空腔长度变短，真空孔与真空接头导通的数量减少，吸附面积就变小并且使吸附面积与ACF的尺寸相同。对于尺寸大的ACF，则增大调节真空调节导杆插入真空腔的深度，密封圈左边的真空腔长度变长，真空孔与真空接头导通的数量增加，吸附面积就增大并且使吸附面积与ACF的尺寸相同。基座的吸附面所形成的吸附面积可以根据ACF的尺寸进行调节，以适应不同大小的ACF，避免了因ACF尺寸不同而频繁更换整个设备，减少人工更换的次数，提高生产效率。同时因基座不会移动而避免了移动基座而造成的误差，减少了重新调整基座水平的环节，从而提高吸附定位的精确度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。

图1为本实施例的结构示意图；

图2为图1的内部结构示意图。

附图中，1-基座，2-真空接头，3-真空腔，4-真空孔，5-吸附面，6-台阶面，7-定位孔，8-真空调节导杆，9-密封圈，10-旋钮，11-固定块，12-刻度尺

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本实用新型的保护范围。

需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本实用新型所属领域技术人员所理解的通常意义。

如图1所述，本实施例提供了一种真空调节机构，包括基座1和真空接头2，所述基座1内部设有真空腔3，基座1的吸附面5设有一排与所述真空腔3连通的真空孔4，所述真空接头2安装于基座1的侧壁并且真空接头2与真空腔3连通，通过真空接头2对真空腔3抽真空，从而在吸附面5产生吸附力。所述基座1设有用于固定基座1的台阶面6。所述台阶面6设有定位孔7。定位孔7设有两个，通过锁紧件将基座1固定在工作台上。也可以通过两个锁紧件重新调整基座1的水平。

如图2所示，为了解决因ACF的尺寸不同而需要更换整个真空调节机构的问题，本实施例还包括真空调节导杆8。所述真空调节导杆8的一端插入所述真空腔3内，所述真空调节导杆8与所述真空腔3通过螺纹连接。所述真空调节导杆8设有外螺纹，所述真空腔3设有与所述外螺纹适配的内螺纹。采用螺纹连接使真空调节导杆8在真空腔3内旋进和旋出更加平稳，并且旋进和旋出的长度容易控制，有利于提高改变吸附面5积的准确度。此外，真空调节导杆8的插入端设有与真空腔3适配的密封圈9，所述密封圈9设有与所述真空腔3的内螺纹适配的外螺纹，通过旋转真空调节导杆8带动密封圈9转动，从而改变真空调节导杆8插入端的真空腔3的长度。密封圈9与真空调节导杆8同步转动，密封圈9将密封圈9左边的真空腔3和右边的真空腔3阻断，有效地避免了左边的真空腔3和右边的真空腔3串气，保证了左边的真空腔3的吸附面5所产生的吸力。

由于真空调节导杆8不方便旋转，与所述真空调节导杆8的插入端相对的另外一端设有旋钮10。旋动旋钮10则旋动真空调节导杆8，方便调节。真空调节导杆8插入真空腔3的深度较浅时，真空调节导杆8容易发生晃动，所述基座1设有用于防止所述真空调节导杆8晃动的固定块11。所述固定块11与所述基座1固定连接，所述固定块11设有使真空调节导杆8贯穿的通孔。通过固定块11有效地避免了晃动，使真空调节导杆8更加平稳地旋进和旋出。所述基座1设有刻度尺12并且刻度尺12沿着所述真空调节导杆8的轴向延伸，用于测量真空调节导杆8插入真空腔3的深度。通过刻度尺12实现定量旋转，更直观的观察到真空调节导杆8旋进和旋出的距离。

具体调节方式如下：

对于尺寸小的ACF，则减小调节真空调节导杆8插入真空腔3的深度，密封圈9左边的真空腔3长度变短，真空孔4与真空接头2导通的数量减少，吸附面5积就变小并且使吸附面5积与ACF的尺寸相同。对于尺寸大的ACF，则增大调节真空调节导杆8插入真空腔3的深度，密封圈9左边的真空腔3长度变长，真空孔4与真空接头2导通的数量增加，吸附面5积就增大并且使吸附面5积与ACF的尺寸相同。基座1的吸附面5所形成的吸附面5积可以根据ACF的尺寸进行调节，以适应不同大小的ACF，避免了因ACF尺寸不同而频繁更换整个设备，减少人工更换的次数，提高生产效率。同时因基座1不会移动而避免了移动基座1而造成的误差，减少了重新调整基座1水平的环节，从而提高吸附定位的精确度。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求和说明书的范围当中。

Claims (10)

1.一种真空调节机构，包括基座和真空接头，所述基座内部设有真空腔，基座的吸附面设有一排与所述真空腔连通的真空孔，所述真空接头安装于基座的侧壁并且真空接头与真空腔连通，通过真空接头对真空腔抽真空，从而在吸附面产生吸附力；

其特征在于：还包括真空调节导杆；所述真空调节导杆的一端插入所述真空腔内，并且真空调节导杆的插入端设有与真空腔适配的密封圈，通过调节真空调节导杆插入真空腔的深度从而改变吸附面的吸附面积。

2.根据权利要求1所述的真空调节机构，其特征在于：所述真空调节导杆与所述真空腔通过螺纹连接。

3.根据权利要求2所述的真空调节机构，其特征在于：所述真空调节导杆设有外螺纹，所述真空腔设有与所述外螺纹适配的内螺纹。

4.根据权利要求3所述的真空调节机构，其特征在于：所述密封圈设有与所述真空腔的内螺纹适配的外螺纹，通过旋转真空调节导杆带动密封圈转动，从而改变真空调节导杆插入端的真空腔的长度。

5.根据权利要求1所述的真空调节机构，其特征在于：与所述真空调节导杆的插入端相对的另外一端设有旋钮。

6.根据权利要求1至5的任一项所述的真空调节机构，其特征在于：所述基座设有刻度尺并且刻度尺沿着所述真空调节导杆的轴向延伸，用于测量真空调节导杆插入真空腔的深度。

7.根据权利要求1至5的任一项所述的真空调节机构，其特征在于：所述基座设有用于固定基座的台阶面。

8.根据权利要求7所述的真空调节机构，其特征在于：所述台阶面设有定位孔。

9.根据权利要求1至5的任一项所述的真空调节机构，其特征在于：所述基座设有用于防止所述真空调节导杆晃动的固定块。

10.根据权利要求9所述的真空调节机构，其特征在于：所述固定块与所述基座固定连接，所述固定块设有使真空调节导杆贯穿的通孔。