CN208527606U - 一种水箱底部的涡旋清洗排污装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提出了一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，包括底板，底板上方设置有圆形外导流板，底板中部下方设置有下陷的凹陷聚集区，凹陷聚集区中部设置有排污口，底板上方在外导流板与凹陷聚集区之间设置有若干内导流板，外导流板上设置有一个高压喷口；所述的内导流板与指向圆心方向呈一定角度；所述的高压喷口与指向圆心方向呈一定角度。本实用新型的一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，通过高压喷口形成快速强力的脉冲式间歇涡旋水流，提高了清洗的效率及效果，冲洗完毕后，涡旋水流静止，污染物将聚集在涡旋中心，而涡旋中心设置凹陷的聚集区及排污口，聚集完成后，打开排污口下方的排污阀，即可将污物排掉。

Description

一种水箱底部的涡旋清洗排污装置

技术领域

本实用新型涉及一种排污装置，具体涉及一种水箱底部的涡旋清洗排污装置。

背景技术

水箱底部的清洗和排污一直是个难题，原因在于水箱底部污物沉积后很难清洗，清洗后由于水箱排污口距离水箱底部有一定的距离以及水箱底部的凹凸不平，即使水箱清洗干净，但污染无很难排净。

发明内容

为了解决上述问题，本实用新型提出了一种水箱底部的涡旋清洗排污装置。

本实用新型的技术方案是：一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，包括底板，底板上方设置有圆形外导流板，底板中部下方设置有下陷的凹陷聚集区，凹陷聚集区中部设置有排污口，底板上方在外导流板与凹陷聚集区之间设置有若干内导流板，外导流板上设置有一个高压喷口；所述的内导流板与指向圆心方向呈一定角度；所述的高压喷口与指向圆心方向呈一定角度。

进一步地，所述的高压喷口与外导流板之间设置有密封圈。

进一步地，所述的内导流板与指向圆心的顺时针方向呈30度角。

进一步地，所述的高压喷口与指向圆心的顺时针方向呈45度角。

有益效果

本实用新型的一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，通过高压喷口形成快速强力的脉冲式间歇涡旋水流，提高了清洗的效率及效果，冲洗完毕后，涡旋水流静止，污染物将聚集在涡旋中心，而涡旋中心设置凹陷的聚集区及排污口，聚集完成后，打开排污口下方的排污阀，即可将污物排掉。

附图说明

图1为本实用新型的俯视图。

图2为其剖视图。

图中，1-高压喷口、2-外导流板、3-内导流板、4-凹陷聚集区、5-排污口。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的一种水箱底部的涡旋清洗排污装置作详细说明。

如图1和图2所示，一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，包括底板，底板上方设置有圆形外导流板2，底板中部下方设置有下陷的凹陷聚集区4，凹陷聚集区4中部设置有排污口5，底板上方在外导流板2与凹陷聚集区4之间设置有若干内导流板3，外导流板2上设置有一个高压喷口1；所述的内导流板3与指向圆心方向呈一定角度；所述的高压喷口1与指向圆心方向呈一定角度；所述的高压喷口1与外导流板2之间设置有密封圈；所述的内导流板3与指向圆心的顺时针方向呈30度角；所述的高压喷口1与指向圆心的顺时针方向呈45度角。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型,任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内,当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本实用新型技术方案的内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (4)

1.一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，其特征在于：包括底板，底板上方设置有圆形外导流板，底板中部下方设置有下陷的凹陷聚集区，凹陷聚集区中部设置有排污口，底板上方在外导流板与凹陷聚集区之间设置有若干内导流板，外导流板上设置有一个高压喷口；所述的内导流板与指向圆心方向呈一定角度；所述的高压喷口与指向圆心方向呈一定角度。

2.根据权利要求1所述的一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，其特征在于：所述的高压喷口与外导流板之间设置有密封圈。

3.根据权利要求1所述的一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，其特征在于：所述的内导流板与指向圆心的顺时针方向呈30度角。

4.根据权利要求1所述的一种水箱底部的涡旋清洗排污装置，其特征在于：所述的高压喷口与指向圆心的顺时针方向呈45度角。