CN208485841U - 抗静电氟素离型膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种抗静电氟素离型膜,包括聚酯基材、电晕层和涂非硅离型层,所述聚酯基材、电晕层和涂非硅离型层沿离型膜的高度方向依次贴合在一起,所述聚酯基材和涂非硅离型层相远离的一侧均粘结有抗静电层。本实用新型通过改变普通离型膜的离型剂,将现有的含硅的离型剂,更改为不含硅,并添加惰性元素氟的离型剂,并2面涂布抗静电涂层,达到不吸附异物灰尘效果的离型膜,具有稳定离型力和极佳的抗静电效果,与有机硅胶制品接触后易剥离,满足有机硅胶制品模切保护的作用。
Description
技术领域
本实用新型涉及离型膜技术领域,尤其涉及一种抗静电氟素离型膜。
背景技术
近年随着离型膜在电子领域的大量应用,特别是某些耐高温材质胶黏制品为有机硅材质,普通离型膜与有机硅材质的胶黏制品贴合后,会相互结合,其通常只在表面涂硅,发挥不出离型膜的离型效果,在与有机硅材料的胶黏制品制作中,需要一款能提供稳定离型力的离型材料。
发明内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种抗静电氟素离型膜。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
抗静电氟素离型膜,包括聚酯基材、电晕层和涂非硅离型层,所述聚酯基材、电晕层和涂非硅离型层沿离型膜的高度方向依次贴合在一起,所述聚酯基材和涂非硅离型层相远离的一侧均粘结有抗静电层。
优选的,所述聚酯基材的厚度为25um-100um。
优选的,所述涂非硅离型层采用惰性元素离型剂制成,且涂非硅离型层的厚度为1um-2um。
优选的,所述抗静电层的厚度为1um。
本实用新型的有益效果是:通过改变普通离型膜的离型剂,将现有的含硅的离型剂,更改为不含硅,并添加惰性元素氟的离型剂,并2面涂布抗静电涂层,达到不吸附异物灰尘效果的离型膜,具有稳定离型力和极佳的抗静电效果,与有机硅胶制品接触后易剥离,满足有机硅胶制品模切保护的作用。
附图说明
图1为本实用新型提出的抗静电氟素离型膜的结构示意图。
图中:1聚酯基材、2电晕层、3涂非硅离型层、4抗静电层。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1,抗静电氟素离型膜,抗静电氟素离型膜,包括聚酯基材1、电晕层2和涂非硅离型层3,其特征在于,所述聚酯基材1、电晕层2和涂非硅离型层3沿离型膜的高度方向依次贴合在一起,所述聚酯基材1和涂非硅离型层3相远离的一侧均粘结有抗静电层4。
本实施例中,所述聚酯基材1的厚度为25um-100um,所述涂非硅离型层3采用惰性元素离型剂制成,且涂非硅离型层3的厚度为1um-2um,所述抗静电层4的厚度为1um,电晕层不增加材料厚度。
本实施例中,本品通过改变普通离型膜的离型剂,将现有的含硅的离型剂,更改为不含硅,并添加惰性元素的离型剂,如添加惰性元素氟的离型剂,并2面涂布抗静电涂层,达到拥有稳定离型力和不吸附异物灰尘效果的离型膜。其组成结构包括聚酯基材,在聚酯基材应用面电晕处理,再涂布非硅氟素离型剂,再涂布抗静电层,达到不吸附异物灰尘效果的离型膜,具有稳定离型力和极佳的抗静电效果,与有机硅胶制品接触后易剥离,满足有机硅胶制品模切保护的作用。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.抗静电氟素离型膜,包括聚酯基材(1)、电晕层(2)和涂非硅离型层(3),其特征在于,所述聚酯基材(1)、电晕层(2)和涂非硅离型层(3)沿离型膜的高度方向依次贴合在一起,所述聚酯基材(1)和涂非硅离型层(3)相远离的一侧均粘结有抗静电层(4)。
2.根据权利要求1所述的抗静电氟素离型膜,其特征在于,所述聚酯基材(1)的厚度为25um-100um。
3.根据权利要求1所述的抗静电氟素离型膜,其特征在于,所述涂非硅离型层(3)采用惰性元素离型剂制成,且涂非硅离型层(3)的厚度为1um-2um。
4.根据权利要求1所述的抗静电氟素离型膜,其特征在于,所述抗静电层(4)的厚度为1um。
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CN201820638135.4U CN208485841U (zh) | 2018-05-02 | 2018-05-02 | 抗静电氟素离型膜 |
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Family Applications (1)
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CN201820638135.4U Expired - Fee Related CN208485841U (zh) | 2018-05-02 | 2018-05-02 | 抗静电氟素离型膜 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113480769A (zh) * | 2021-07-29 | 2021-10-08 | 江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 | 一种耐高温抗静电非硅离型膜的制备方法 |
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2018
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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