CN208346253U - 管式pecvd进气排布结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及太阳能电池硅片加工设备技术领域，尤其涉及管式PECVD进气排布结构，将原先的单一炉内底部进气口改变为炉口处上部和两侧等距离排布3个进气口，工艺时同时进气样式，这样的排布方式第一可以保证在炉口端进气的均匀性，在抽气泵不断将气体往炉尾抽时，整体管内气体均匀一致，第二可以避开将进气口安置在炉口底部，不会存在炉管碎片遮挡进气口以及进气口被刮碰的情况。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池硅片加工设备技术领域，尤其涉及管式PECVD进气排布结构。
背景技术
如图1和2所示，目前的管式PECVD炉管进气方式为在炉口内下部，安装一Y字型的硅烷、氨气导流进气口，上面分布有进气小孔，工艺气体从小孔进入炉管，炉尾抽空实现气体的流动。这种工艺气体的进气只在炉口内下部有1个进气口，在目前管式PECVD炉体管径越来越大的情况下容易导致气体在炉管内分布不均匀，且排布在炉口内下部很容易被炉管内碎片挡住出气孔，导致镀膜异常，并且在清理炉管碎片时，很容易碰到进气口导致进气口被刮到。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是：为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种管式PECVD进气排布结构。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种管式PECVD进气排布结构，包括PECVD炉管和抽气泵，所述PECVD炉管的一端为进气口，PECVD炉管的另一端为出气口，PECVD炉管的出气口和抽气泵相连接，PECVD炉管的进气口内圈安装有三个周向均布的Y字形匀流器，三个Y字形匀流器的中间一个Y字形匀流器设置在PECVD炉管的进气口内圈的最高处。
所述Y字形匀流器包括第一管道、第二管道和第三管道，第一管道的一端和PECVD炉管的内壁固定连接，且第一管道的一端穿出内壁和硅烷供气管道连接，第二管道的一端和PECVD炉管的内壁固定连接，且第二管道的一端穿出内壁和氨气供气管道连接，第一管道的另一端和第二管道的另一端相交，且第一管道的另一端和第二管道的另一端均和第三管道中间相连通，所述第三管道平移后能够和PECVD炉管的外壁相切，第三管道的中间还开设有朝向PECVD炉管中心的进气小孔，第三管道的两端密封。
本实用新型的有益效果是，本实用新型的管式PECVD进气排布结构，将原先的单一炉内底部进气口改变为炉口处上部和两侧等距离排布3个进气口，工艺时同时进气样式，这样的排布方式第一可以保证在炉口端进气的均匀性，在抽气泵不断将气体往炉尾抽时整体管内气体均匀一致，第二可以避开将进气口安置在炉口底部，不会存在炉管碎片遮挡进气口以及进气口被刮碰的情况。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是现有的管式PECVD进气排布结构示意图。
图2是现有的管式PECVD进气口的结构示意图。
图3是本实用新型管式PECVD进气排布结构的结构示意图。
图4是本实用新型管式PECVD进气排布结构的进气口结构示意图。
图中：1、PECVD炉管，2、抽气泵，3、Y字形匀流器，31、第一管道，32、第二管道，33、第三管道，331、进气小孔，4、硅烷供气管道，5、氨气供气管道。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
如图3和4所示，是本实用新型最优实施例，一种管式PECVD进气排布结构，包括PECVD炉管1和抽气泵2，PECVD炉管1的一端为进气口，PECVD炉管1的另一端为出气口，PECVD炉管1的出气口和抽气泵2相连接，PECVD炉管1的进气口内圈安装有三个周向均布的Y字形匀流器3，三个Y字形匀流器3的中间一个Y字形匀流器3设置在PECVD炉管1的进气口内圈的最高处。由于三个Y字形匀流器3的中间一个Y字形匀流器3设置在PECVD炉管1的进气口内圈的最高处，三个Y字形匀流器3又是周向均布的，因此另外两个Y字形匀流器3位于两侧，这样的排布方式第一可以保证在PECVD炉管1进气口进气的均匀性，在抽气泵2不断将气体往炉尾抽时，整体管内气体均匀一致，第二可以避开将Y字形匀流器3安置在进气口底部，不会存在炉管碎片遮挡进气小孔331以及进气小孔331被刮碰的情况。
Y字形匀流器3包括第一管道31、第二管道32和第三管道33，第一管道31的一端和PECVD炉管1的内壁固定连接，且第一管道31的一端穿出内壁和硅烷供气管道4连接，第二管道32的一端和PECVD炉管1的内壁固定连接，且第二管道32的一端穿出内壁和氨气供气管道5连接，图中仅画出了一个Y字形匀流器3和硅烷供气管道4、氨气供气管道5的连接示意，其他两个Y字形匀流器3省略，未画出。第一管道31的另一端和第二管道32的另一端相交，且第一管道31的另一端和第二管道32的另一端均和第三管道33中间相连通，第三管道33平移后能够和PECVD炉管1的外壁相切，这里的平移是指第三管道33不发生任何转动，在平面内上下左右移动，第三管道33的中间还开设有朝向PECVD炉管1中心的进气小孔331，第三管道33的两端密封。
本实用新型旨在解决由于炉口进气口气体不均匀的原因造成镀膜均匀性较差的技术问题，同时避免原进气口气体易缺失或被碎片遮挡的情况发生。
以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
Claims (2)
1.一种管式PECVD进气排布结构，其特征在于：包括PECVD炉管(1)和抽气泵(2)，所述PECVD炉管(1)的一端为进气口，PECVD炉管(1)的另一端为出气口，PECVD炉管(1)的出气口和抽气泵(2)相连接，PECVD炉管(1)的进气口内圈安装有三个周向均布的Y字形匀流器(3)，三个Y字形匀流器(3)的中间一个Y字形匀流器(3)设置在PECVD炉管(1)的进气口内圈的最高处。
2.如权利要求1所述的管式PECVD进气排布结构，其特征在于：所述Y字形匀流器(3)包括第一管道(31)、第二管道(32)和第三管道(33)，第一管道(31)的一端和PECVD炉管(1)的内壁固定连接，且第一管道(31)的一端穿出内壁和硅烷供气管道(4)连接，第二管道(32)的一端和PECVD炉管(1)的内壁固定连接，且第二管道(32)的一端穿出内壁和氨气供气管道(5)连接，第一管道(31)的另一端和第二管道(32)的另一端相交，且第一管道(31)的另一端和第二管道(32)的另一端均和第三管道(33)中间相连通，所述第三管道(33)平移后能够和PECVD炉管(1)的外壁相切，第三管道(33)的中间还开设有朝向PECVD炉管(1)中心的进气小孔(331)，第三管道(33)的两端密封。
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2018
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