CN208224717U - 一种紧凑型光刻机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种紧凑型光刻机，包括上位机、主机和温度控制装置，主机包括罩壳、激光光路装置、传输控制箱、掩膜台、掩膜传输器、投影物镜和工作台，温度控制装置包括控制器、水槽、泵、制冷器、分流板、集流板和投影物镜水套，激光光路装置设于罩壳的顶部，激光光路装置的光线出射口对准掩膜台，光线从激光光路装置经过掩膜进入投影物镜后投射于工作台上，投影物镜水套旋绕于投影物镜上且分别连接分流板和集流板，分流板、集流板分别连接制冷器，制冷器分别连接水槽和控制器，水槽内设有超纯水及温度传感器和加热器，上位机分别连接控制器和传输控制箱。本实用新型各个部件布局合理，结构紧凑，设计合理，能有效降温，制冷及温控效果佳。

Description

一种紧凑型光刻机

技术领域

本实用新型涉及半导体技术中的微细加工设备，尤其涉及一种紧凑型光刻机。

背景技术

光刻机是用于在晶片、印刷电路板、掩膜板、平板显示器、生物晶片、微机械电子晶片、光学玻璃平板等衬底材料上印刷构图的设备。在整机装配中，光路的各个部件都有着严格的制冷和温度要求，为了降低温度，有必要在不过分增加整机复杂性的前提下对制冷和温控进行设计。另外，现有的光刻机体积庞大，给运输和厂房建设等带来不利影响。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种紧凑型光刻机，以解决现有技术中的不足。

为了达到上述目的，本实用新型的目的是通过下述技术方案实现的：

提供一种紧凑型光刻机，其中，包括上位机、主机和温度控制装置，所述主机包括罩壳、激光光路装置、传输控制箱、以及设于所述罩壳内的掩膜台、掩膜传输器、投影物镜和工作台，所述温度控制装置包括控制器、水槽、泵、制冷器、分流板、集流板和投影物镜水套，所述分流板和所述集流板均位于所述罩壳内，所述激光光路装置设于所述罩壳的顶部，所述激光光路装置的光线出射口对准用于放置掩膜的所述掩膜台，光线从所述激光光路装置经过掩膜进入所述投影物镜后投射于所述工作台上，所述投影物镜水套旋绕于所述投影物镜上且分别连接所述分流板和所述集流板，所述分流板、所述集流板分别连接所述制冷器，所述制冷器分别连接所述水槽和所述控制器，所述泵连接所述水槽，所述水槽内设有超纯水以及分别连接所述控制器的温度传感器和加热器，所述传输控制箱设于所述罩壳的外部一侧，所述上位机分别连接所述控制器和所述传输控制箱。

上述紧凑型光刻机，其中，所述制冷器采用基于热电制冷的半导体制冷器。

上述紧凑型光刻机，其中，所述激光光路装置采用ArF作为光源，传输距离为3～20m。

上述紧凑型光刻机，其中，所述上位机以嵌入式处理器S3C2440作为核心。

上述紧凑型光刻机，其中，所述传输控制箱以单片机AT89C52为核心。

与已有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

各个部件布局合理，结构紧凑，设计合理，能有效降温，制冷及温控效果佳。

附图说明

构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

参考图1所示，本实用新型紧凑型光刻机包括上位机、主机和温度控制装置，主机包括罩壳1、激光光路装置2、传输控制箱3、以及设于罩壳1内的掩膜台4、掩膜传输器5、投影物镜6和工作台7，温度控制装置包括控制器8、水槽9、泵10、制冷器11、分流板12、集流板13和投影物镜水套14，分流板12和集流板13均位于罩壳1内，激光光路装置2设于罩壳1的顶部，激光光路装置2的光线出射口对准用于放置掩膜的掩膜台4，光线从激光光路装置2经过掩膜进入投影物镜6后投射于工作台7上，投影物镜水套14旋绕于投影物镜6上且分别连接分流板12和集流板13，分流板12、集流板13分别连接制冷器11，制冷器11分别连接水槽9和控制器8，泵10连接水槽9，水槽9内设有超纯水以及分别连接控制器8的温度传感器15和加热器16，传输控制箱3设于罩壳1的外部一侧，上位机分别连接控制器8和传输控制箱3。

本技术方案中，制冷器11采用基于热电制冷的半导体制冷器，由于单个半导体制冷片的功率较小，难以满足对制冷功率的要求。为了获得大的制冷功率需要数量较多的制冷片同时工作，采用独特的结构设计和控制方法，解决了制冷片散热和效率等问题，与压缩机制冷方式相比，具有更好的可靠性、寿命，且不产生振动。激光光路装置采用ArF作为光源，传输距离为3～20m。上位机以嵌入式处理器S3C2440作为核心，传输控制箱以单片机AT89C52为核心。

从上述实施例可以看出，本实用新型的优势在于：

各个部件布局合理，结构紧凑，设计合理，能有效降温，制冷及温控效果佳。

以上对本实用新型的具体实施例进行了详细描述，但本实用新型并不限制于以上描述的具体实施例，其只是作为范例。对于本领域技术人员而言，任何等同修改和替代也都在本实用新型的范畴之中。因此，在不脱离本实用新型的精神和范围下所作出的均等变换和修改，都应涵盖在本实用新型的范围内。

Claims (5)

1.一种紧凑型光刻机，其特征在于，包括上位机、主机和温度控制装置，所述主机包括罩壳、激光光路装置、传输控制箱、以及设于所述罩壳内的掩膜台、掩膜传输器、投影物镜和工作台，所述温度控制装置包括控制器、水槽、泵、制冷器、分流板、集流板和投影物镜水套，所述分流板和所述集流板均位于所述罩壳内，所述激光光路装置设于所述罩壳的顶部，所述激光光路装置的光线出射口对准用于放置掩膜的所述掩膜台，光线从所述激光光路装置经过掩膜进入所述投影物镜后投射于所述工作台上，所述投影物镜水套旋绕于所述投影物镜上且分别连接所述分流板和所述集流板，所述分流板、所述集流板分别连接所述制冷器，所述制冷器分别连接所述水槽和所述控制器，所述泵连接所述水槽，所述水槽内设有超纯水以及分别连接所述控制器的温度传感器和加热器，所述传输控制箱设于所述罩壳的外部一侧，所述上位机分别连接所述控制器和所述传输控制箱。

2.如权利要求1所述紧凑型光刻机，其特征在于，所述制冷器采用基于热电制冷的半导体制冷器。

3.如权利要求1所述紧凑型光刻机，其特征在于，所述激光光路装置采用ArF作为光源，传输距离为3～20m。

4.如权利要求1所述紧凑型光刻机，其特征在于，所述上位机以嵌入式处理器S3C2440作为核心。

5.如权利要求1所述紧凑型光刻机，其特征在于，所述传输控制箱以单片机AT89C52为核心。