CN208136331U - 一种用于气相沉积炉的新型密封装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及加湿设备领域，具体是一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端，密封下端，密封垫片，密封垫片安装在密封上端及密封下端之间，密封上端内安装有绕线筒，绕线筒上缠绕有通电线圈，密封垫片内设有吸附铁片。本实用新型采用磁力吸附密封垫片与密封出口处的平面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，相对于传统的压紧式密封结构，长时间使用后密封性能稳定，使用寿命长，密封效果好。

Description

一种用于气相沉积炉的新型密封装置

技术领域

本实用新型涉及加湿设备领域，具体是指一种用于气相沉积炉的新型密封装置。

背景技术

化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。目前，化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。

现有的化学气相沉积炉由于炉体内的压力基本与外界大气压基本相同，密封装置采用常见的压紧式密封结构对炉体进出口处进行密封，压紧式密封结构完全依靠压紧装置对密封垫片压紧产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，长时间使用后密封垫片发生不可恢复的形变，使用寿命短，长时间使用后密封效果差。因此，设计一种应用于气相沉积炉的自紧式密封结构对本领域技术人员来说很有现实意义。

实用新型内容

基于以上问题，本实用新型提供了一种用于气相沉积炉的新型密封装置。本实用新型采用磁力吸附密封垫片与密封出口处的平面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，相对于传统的压紧式密封结构，长时间使用后密封性能稳定，使用寿命长，密封效果好。

为解决以上技术问题，本实用新型采用的技术方案如下：

一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端，密封下端，密封垫片，密封垫片安装在密封上端及密封下端之间，密封上端内安装有绕线筒，绕线筒上缠绕有通电线圈，密封垫片内设有吸附铁片。

在本实用新型中，对密封上端的通电线圈通入稳定电流，通电线圈朝向密封垫片的一侧产生磁力，磁力吸附密封垫片内部的吸附铁片，进而在吸附铁片与通电线圈间产生相互作用力挤压密封上端与密封垫片，密封上端与密封垫片的接触面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，实现密封效果。本实用新型采用磁力吸附密封垫片与密封出口处的平面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，相对于传统的压紧式密封结构，长时间使用后密封性能稳定，使用寿命长，密封效果好。

作为一种优选的方式，密封垫片的横截面为C字形，C字形内部顶面及低面均安装有吸附铁片，密封上端及密封下端内均安装有绕线筒，绕线筒上缠绕有通电线圈。

作为一种优选的方式，C字形密封垫片外部顶面及底面均设有密封凸台，密封上端朝向密封垫片的一面设有密封凹槽，密封下端朝向密封垫片的一面设有密封凹槽，密封垫片外部顶面的密封凸台嵌入密封上端的密封凹槽内，密封垫片外部底面的密封凸台嵌入密封下端的密封凹槽内。

作为一种优选的方式，密封凸台的横截面为半圆形，密封凹槽的横截面为半圆形。

作为一种优选的方式，密封上端的内侧面设内螺纹，密封下端的外侧面上设有外螺纹，密封上端的内螺纹旋合在密封下端的外螺纹上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

(1)本实用新型采用磁力吸附密封垫片与密封出口处的平面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，相对于传统的压紧式密封结构，使用寿命长，长时间使用后密封性能稳定；

(2)本实用新型密封垫片的横截面为C字形，C字形内部顶面及低面均安装有吸附铁片，密封上端及密封下端内均安装有绕线筒，绕线筒上缠绕有通电线圈，对密封上端的通电线圈通入稳定电流，通电线圈朝向密封垫片的一侧产生磁力，磁力吸附密封垫片C字形内部顶面的吸附铁片，进而在C字形内部顶面的吸附铁片与通电线圈间产生相互作用力挤压密封上端与密封垫片，密封上端与密封垫片的接触面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界；同时对密封下端的通电线圈通入稳定电流，通电线圈朝向密封垫片的一侧产生磁力，磁力吸附密封垫片C字形内部底面的吸附铁片，进而在C字形内部底面的吸附铁片与通电线圈间产生相互作用力挤压密封下端与密封垫片，密封下端与密封垫片的接触面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，实现密封垫片同时与密封上端及密封下端密封面密封的效果；

(3)本实用新型C字形密封垫片外部顶面及底面均设有密封凸台，密封上端朝向密封垫片的一面设有密封凹槽，密封下端朝向密封垫片的一面设有密封凹槽，密封垫片外部顶面的密封凸台嵌入密封上端的密封凹槽内，密封垫片外部底面的密封凸台嵌入密封下端的密封凹槽内，密封凸台与密封凹槽的接触面形成密封面，增大密封面面积，密封效果更好；

(4)本实用新型密封凸台的横截面为半圆形，密封凹槽的横截面为半圆形，密封凸台与密封凹槽的接触面形成的密封面接触更加紧密，实现更好的密封效果；

(5)本实用新型密封上端的内侧面设内螺纹，密封下端的外侧面上设有外螺纹，密封上端的内螺纹旋合在密封下端的外螺纹上，将密封垫片安装密封下端上，通过密封上端的的内螺纹旋合在密封下端的外螺纹上，密封上端与密封垫片接触后移动一定距离压紧密封垫片，在对通电线圈通电吸附密封垫片的吸附铁片，实现压紧力及磁力共同作用密封面，实现更好的密封效果，同时便于密封上端的拆卸。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

其中，1密封下端，2密封上端，3通电线圈，4绕线筒，5密封凹槽，6密封凸台，7密封垫片，8吸附铁片。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。本实用新型的实施方式包括但不限于下列实施例。

实施例1：

参见图1，一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端2，密封下端1，密封垫片7，密封垫片7安装在密封上端2及密封下端1之间，密封上端2内安装有绕线筒4，绕线筒4上缠绕有通电线圈3，密封垫片7内设有吸附铁片8。

在本实例中，对密封上端2的通电线圈3通入稳定电流，通电线圈3朝向密封垫片7的一侧产生磁力，磁力吸附密封垫片7内部的吸附铁片8，进而在吸附铁片8与通电线圈3间产生相互作用力挤压密封上端2与密封垫片7，密封上端2与密封垫片7的接触面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，实现密封效果。本实用新型采用磁力吸附密封垫片7与密封出口处的平面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，相对于传统的压紧式密封结构，长时间使用后密封性能稳定，使用寿命长，密封效果好。

实施例2：

参见图1，一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端2，密封下端1，密封垫片7，密封垫片7安装在密封上端2及密封下端1之间，密封上端2内安装有绕线筒4，绕线筒4上缠绕有通电线圈3，密封垫片7内设有吸附铁片8。

密封垫片7的横截面为C字形，C字形内部顶面及低面均安装有吸附铁片8，密封上端2及密封下端1内均安装有绕线筒4，绕线筒4上缠绕有通电线圈3，对密封上端2的通电线圈3通入稳定电流，通电线圈3朝向密封垫片7的一侧产生磁力，磁力吸附密封垫片7C字形内部顶面的吸附铁片8，进而在C字形内部顶面的吸附铁片8与通电线圈3间产生相互作用力挤压密封上端2与密封垫片7，密封上端2与密封垫片7的接触面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界；同时对密封下端1的通电线圈3通入稳定电流，通电线圈3朝向密封垫片7的一侧产生磁力，磁力吸附密封垫片7C字形内部底面的吸附铁片8，进而在C字形内部底面的吸附铁片8与通电线圈3间产生相互作用力挤压密封下端1与密封垫片7，密封下端1与密封垫片7的接触面产生压力阻止密封内部气体泄露至外界，实现密封垫片7同时与密封上端2及密封下端1密封面密封的效果。

本实施例的其他部分与上述实施例相同，这里就不再赘述。

实施例3：

参见图1，一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端2，密封下端1，密封垫片7，密封垫片7安装在密封上端2及密封下端1之间，密封上端2内安装有绕线筒4，绕线筒4上缠绕有通电线圈3，密封垫片7内设有吸附铁片8。

C字形密封垫片7外部顶面及底面均设有密封凸台6，密封上端2朝向密封垫片7的一面设有密封凹槽5，密封下端1朝向密封垫片7的一面设有密封凹槽5，密封垫片7外部顶面的密封凸台6嵌入密封上端2的密封凹槽5内，密封垫片7外部底面的密封凸台6嵌入密封下端1的密封凹槽5内，密封凸台6与密封凹槽5的接触面形成密封面，增大密封面面积，密封效果更好。

本实施例的其他部分与上述实施例相同，这里就不再赘述。

实施例4：

参见图1，一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端2，密封下端1，密封垫片7，密封垫片7安装在密封上端2及密封下端1之间，密封上端2内安装有绕线筒4，绕线筒4上缠绕有通电线圈3，密封垫片7内设有吸附铁片8。

密封凸台6的横截面为半圆形，密封凹槽5的横截面为半圆形，密封凸台6与密封凹槽5的接触面形成的密封面接触更加紧密，实现更好的密封效果。

本实施例的其他部分与上述实施例相同，这里就不再赘述。

实施例5：

参见图1，一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端2，密封下端1，密封垫片7，密封垫片7安装在密封上端2及密封下端1之间，密封上端2内安装有绕线筒4，绕线筒4上缠绕有通电线圈3，密封垫片7内设有吸附铁片8。

密封上端2的内侧面设内螺纹，密封下端1的外侧面上设有外螺纹，密封上端2的内螺纹旋合在密封下端1的外螺纹上，将密封垫片7安装密封下端1上，通过密封上端2的的内螺纹旋合在密封下端1的外螺纹上，密封上端2与密封垫片7接触后移动一定距离压紧密封垫片7，在对通电线圈3通电吸附密封垫片7的吸附铁片8，实现压紧力及磁力共同作用密封面，实现更好的密封效果，同时便于密封上端2的拆卸。

本实施例的其他部分与上述实施例相同，这里就不再赘述。

如上即为本实用新型的实施例。上述实施例以及实施例中的具体参数仅是为了清楚表述实用新型验证过程，并非用以限制本实用新型的专利保护范围，本实用新型的专利保护范围仍然以其权利要求书为准，凡是运用本实用新型的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本实用新型的保护范围内。

Claims (5)

1.一种用于气相沉积炉的新型密封装置，包括密封上端(2)，密封下端(1)，密封垫片(7)，其特征在于：所述密封垫片(7)安装在密封上端(2)及密封下端(1)之间，所述密封上端(2)内安装有绕线筒(4)，所述绕线筒(4)上缠绕有通电线圈(3)，所述密封垫片(7)内设有吸附铁片(8)。

2.根据权利要求1所述的一种用于气相沉积炉的新型密封装置，其特征在于：所述密封垫片(7)的横截面为C字形，所述C字形内部顶面及低面均安装有吸附铁片(8)，所述密封上端(2)及密封下端(1)内均安装有绕线筒(4)，所述绕线筒(4)上缠绕有通电线圈(3)。

3.根据权利要求2所述的一种用于气相沉积炉的新型密封装置，其特征在于：所述C字形密封垫片(7)外部顶面及底面均设有密封凸台(6)，所述密封上端(2)朝向密封垫片(7)的一面设有密封凹槽(5)，所述密封下端(1)朝向密封垫片(7)的一面设有密封凹槽(5)，所述密封垫片(7)外部顶面的密封凸台(6)嵌入密封上端(2)的密封凹槽(5)内，所述密封垫片(7)外部底面的密封凸台(6)嵌入密封下端(1)的密封凹槽(5)内。

4.根据权利要求3所述的一种用于气相沉积炉的新型密封装置，其特征在于：所述密封凸台(6)的横截面为半圆形，所述密封凹槽(5)的横截面为半圆形。

5.根据权利要求1所述的一种用于气相沉积炉的新型密封装置，其特征在于：所述密封上端(2)的内侧面设内螺纹，所述密封下端(1)的外侧面上设有外螺纹，所述密封上端(2)的内螺纹旋合在密封下端(1)的外螺纹上。