CN208026891U - 一种膜系结构及其面板 - Google Patents

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周群飞
饶桥兵
刘宇嵘
卢湘武
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Abstract

本实用新型提供了一种改善面板弧边异色的膜系结构及其面板,该膜系结构由五层低折射率层与四层高折射率层交替层叠构成,面板的折射率等于1.76~1.77,低折射率层的折射率等于1.46~1.49,高折射率层的折射率等于2.0~2.03,本实用新型通过优化膜系结构的各层膜层的厚度,使得优化后的膜系结构在380‑780nm可见光区的反射率曲线平缓,无明显波峰,虽然弧边处反射率曲线仍然整体向紫色光方向移动,但因无明显波峰,故弧面与平面视窗颜色一致,解决了弧边处与平面视窗区的异色问题。

Description

一种膜系结构及其面板
技术领域
本实用新型涉及光学薄膜领域,特别的,涉及一种可改善面板弧边异色的膜系结构及其面板。
背景技术
常见的2.5D或3D视窗防护面板在中心有一个平面的区域,周边则采用弧面过渡,也就是对边缘进行了弧度处理,具有手感好、防破碎、易点控、视觉效果更加立体等特点。
面板表面的反射,不仅影响面板通光能量;而且这些反射光还会形成杂散光,影响面板的成像质量。为了解决这些问题,通常会在面板的表面镀一定厚度的光学增透膜。
不透明体的颜色决定于物体反射的色光。有色不透明物体反射与它颜色相同的光,吸收其它颜色的光,如树叶反射绿光,就显示绿色,故目视看到的膜层的颜色为反光的颜色。
在面板上镀一层增透膜,如果膜的厚度等于入射单色光在增透膜中波长的四分之一时,那么在这层膜的两侧反射回去的单色光就会发生干涉,从而相互抵消,在镜头前将看不到一点反光,因这束单色光已全部穿过镜头。所看到镜头的色彩为反光的颜色,可根据膜层的厚度来决定。
现有增透膜结构为在面板带弧边面(即A面,另一面为B面)采用真空溅射镀增透膜,镀膜后整体透光率比之前提高5%左右,可达到91%以上,但此膜系反射率曲线在蓝色光区域形成波峰,而使用溅射镀膜机镀膜时,弧边处的膜厚比平面视窗区整体偏薄,导致弧边处的反射率曲线整体向紫色光方向移动30~50nm(参见图1),因而其反射率曲线在紫色光区域形成波峰使弧边颜色偏紫色。
实用新型内容
本实用新型目的在于提供一种膜系结构及其面板,以解决背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种膜系结构,该膜系结构由覆盖在面板上的五层低折射率层与四层高折射率层交替层叠构成,所述面板的折射率等于1.76~1.77,所述低折射率层的折射率等于1.46~1.49,所述高折射率层的折射率等于2.0~2.03。
优选的,所述膜系结构从第一层至第九层依次为:低折射率层一/高折射率层一/低折射率层二/高折射率层二/低折射率层三/高折射率层三/低折射率层四/高折射率层四/低折射率层五;
所述膜系结构从第一层至第九层的厚度依次为:
第一层:低折射率层一10.34nm~12.34nm;
第二层:高折射率层一32.04nm~34.04nm;
第三层:低折射率层二26.52nm~28.52nm;
第四层:高折射率层二48.51nm~50.51nm;
第五层:低折射率层三13.96nm~15.96nm;
第六层:高折射率层三187.83nm~189.83nm;
第七层:低折射率层四21.34nm~23.34nm;
第八层:高折射率层四31.63nm~33.63nm;
第九层:低折射率层五109.51nm~111.51nm。
优选的,所述所述膜系结构从第一层至第九层的厚度依次为:
第一层:低折射率层一11.34nm;
第二层:高折射率层一33.04nm;
第三层:低折射率层二27.52nm;
第四层:高折射率层二49.51nm;
第五层:低折射率层三14.96nm;
第六层:高折射率层三188.83nm;
第七层:低折射率层四22.34nm;
第八层:高折射率层四32.63nm;
第九层:低折射率层五110.51nm。
优选的,所述面板为蓝宝石的材质的2.5D或3D面板。
优选的,所述四层高折射率层成分均为Si3N4
优选的,所述五层低折射率层成分均为SiO2
本实用新型中所述膜层厚度均指面板视窗区的膜层厚度,面板弧边处的实际厚度应小于面板视窗区的膜层厚度。
本实用新型还提供了一种面板,所述面板上覆盖有上述膜系结构。
有益效果:本实用新型通过优化膜系结构的各层膜层的厚度,使得优化后的膜系结构在380-780nm可见光区的反射率曲线平缓,无明显波峰,虽然弧边处反射率曲线仍然整体向紫色光方向移动,但因无明显波峰,故弧面与平面视窗颜色一致,解决了弧边处与平面视窗区的异色问题。
为了更进一步的优化膜层质量,使膜层结构更稳定,本实用新型的膜系结构的五层低折射率层的材质为二氧化硅(SiO2),四层高折射率层的材质均为氮化硅(Si3N4),由于Si3N4化学键稳定,在溅射镀膜过程中用考虑反应气体氮气会过量的问题,因此也不容易生成其他杂质,纯度更高,膜层质地更均衡,且膜系结构硬度高,经久耐用。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本实用新型还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本实用新型作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1是现有面板的膜层结构反射率曲线图;
图2是本实用新型的膜系结构及其面板的截面图;
图3是本实用新型优选实施例的面板的膜层结构反射率曲线图;
图中:1-面板,101-平面视窗区,102-弧边,2-低折射率层一,3-高折射率层一,4-低折射率层二,5-高折射率层二,6-低折射率层三,7-高折射率层三,8-低折射率层四,9-高折射率层四,10-低折射率层五。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的实施例进行详细说明,但是本实用新型可以根据权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
参见图2及图3,一种改善面板弧边异色的膜系结构及其面板,膜系结构由覆盖在面板上的五层低折射率层与四层高折射率层交替层叠构成,膜系结构从第一层至第九层依次为:低折射率层一/高折射率层一/低折射率层二/高折射率层二/低折射率层三/高折射率层三/低折射率层四/高折射率层四/低折射率层五。
本实施例中,低折射率层一、低折射率层二、低折射率层三、低折射率层四与低折射率层五均为SiO2;高折射率层一、高折射率层二、高折射率层三与高折射率层四均为Si3N4。本实施例中,各膜层材料及厚度分别为:SiO2层一11.34nm/Si3N4层一33.04nm/SiO2层二27.52nm/Si3N4层二49.51nm/SiO2层三14.96nm/Si3N4层三188.83nm/SiO2层四22.34nm/Si3N4层四32.63nm/SiO2层五110.51nm。
本实施例中,面板为折射率在1.76~1.77之间的2.5D蓝宝石。
从图3可以看出,实施例一的膜系结构在380-780nm可见光区的反射率曲线平缓,无明显波峰,虽然弧边处反射率曲线仍然整体向紫色光方向移动,但因无明显波峰,故弧边102与平面视窗区101颜色一致,解决了弧边处与平面视窗区的异色问题。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种膜系结构,其特征在于,该膜系结构由覆盖在面板(1)上的多层低折射率层与多层高折射率层交替层叠构成,所述面板的折射率等于1.76~1.77,所述低折射率层的折射率在1.46~1.49,所述高折射率层的折射率在2.0~2.03。
2.根据权利要求1所述的一种膜系结构,其特征在于,该膜系结构由覆盖在面板(1)上的五层低折射率层与四层高折射率层交替层叠构成,所述膜系结构从第一层至第九层依次为:低折射率层一(2)/高折射率层一(3)/低折射率层二(4)/高折射率层二(5)/低折射率层三(6)/高折射率层三(7)/低折射率层四(8)/高折射率层四(9)/低折射率层五(10);
所述膜系结构从第一层至第九层的厚度依次为:
第一层:低折射率层一10.34nm~12.34nm;
第二层:高折射率层一32.04nm~34.04nm;
第三层:低折射率层二26.52nm~28.52nm;
第四层:高折射率层二48.51nm~50.51nm;
第五层:低折射率层三13.96nm~15.96nm;
第六层:高折射率层三187.83nm~189.83nm;
第七层:低折射率层四21.34nm~23.34nm;
第八层:高折射率层四31.63nm~33.63nm;
第九层:低折射率层五109.51nm~111.51nm。
3.根据权利要求2所述的一种膜系结构,其特征在于,所述膜系结构从第一层至第九层的厚度依次为:
第一层:低折射率层一11.34nm;
第二层:高折射率层一33.04nm;
第三层:低折射率层二27.52nm;
第四层:高折射率层二49.51nm;
第五层:低折射率层三14.96nm;
第六层:高折射率层三188.83nm;
第七层:低折射率层四22.34nm;
第八层:高折射率层四32.63nm;
第九层:低折射率层五110.51nm。
4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种膜系结构,其特征在于,所述面板为蓝宝石材质的2.5D或3D面板。
5.根据权利要求4所述的一种膜系结构,其特征在于,四层所述高折射率层的材质均为Si3N4
6.根据权利要求5所述的一种膜系结构,其特征在于,五层所述低折射率层的材质均为SiO2
7.一种面板,其特征在于,面板上覆盖有权利要求1~6中任意一项所述的膜系结构。
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