CN207904355U - 一种旋转铬硅靶材 - Google Patents
一种旋转铬硅靶材 Download PDFInfo
- Publication number
- CN207904355U CN207904355U CN201721775065.9U CN201721775065U CN207904355U CN 207904355 U CN207904355 U CN 207904355U CN 201721775065 U CN201721775065 U CN 201721775065U CN 207904355 U CN207904355 U CN 207904355U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- penstock
- chrome
- rotation
- silicon
- target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本实用新型属于功能材料领域，涉及一种旋转铬硅靶材，其包括背管，背管外设有钎焊层，钎焊层外设有铬硅合金管；背管的一端设有内密封面和卡槽，背管的另一端设有定位槽和法兰。本实用新型安装方便省时，在长时间的工作过程中，能够稳定的旋转，均匀的溅射，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生；由于此靶材采用的是内密封方式，背管受力很小，几乎不会产生变形，避免了背管变形导致的靶材开裂现象。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种旋转铬硅靶材，是用来生产功能薄膜的产品，属于功能材料领域。
背景技术
磁控溅射靶材是制作多种功能薄膜的重要材料，在很多领域有着非常重要的应用，并且应用的行业越来越广泛。旋转靶材的材料利用率能达到80%，是平面靶材利用率的2-3倍，并且溅射效率高，得到了越来越普遍的应用。旋转靶材的安装方式与平面靶材不同，要求更苛刻，这就要求旋转靶材的端口需要设计更可靠，才能够安装到真空磁控溅射镀膜设备上，满足溅射工艺苛严格的要求。并且，更换大型旋转靶材会耗费大量的时间和人工，增加的生产成本。
目前，铬硅靶材通常用等离子喷涂的生产工艺来制作，用铬和硅的粉末经过混合，经等离子火焰加热到熔化或半熔融状态，以一定的速度撞击的基体表面，逐渐沉积成一定的厚度，制成靶材。这种方法成本较低，生产效率高，但是，其密度低，氧氮含量高，导致真空磁控溅射时容易出现起弧、掉渣等现象，严重影响了镀膜的质量，导致膜层较软，易受到腐蚀和氧化变色，甚至膜层中有很多黑色颗粒，制约了其使用范围。
发明内容
本实用新型旨在解决上述问题，提供一种旋转铬硅靶材，其安装方便省时，与设备连接的可靠性高，在长时间的工作过程中，能够稳定的旋转，均匀的溅射，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生。
按照本实用新型提供的技术方案，所述旋转铬硅靶材，包括背管，背管外设有钎焊层，钎焊层外设有铬硅合金管；背管的一端设有内密封面和卡槽，背管的另一端设有定位槽和法兰。
进一步的，所述背管内壁的两端设有导向斜面。
进一步的，所述铬硅合金管的两端设有防裂倒角和溅射过渡区。
进一步的，所述铬硅合金管中部的厚度为3-15毫米。
进一步的，所述钎焊层为铟层。
进一步的，所述背管为304不锈钢背管。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：背管的一端设有内密封面和卡槽，另一端设置有定位槽和法兰，装卸方便，与设备连接的可靠性高；采用的是内密封方式，背管受力很小，几乎不会产生变形，避免了背管变形导致的靶材开裂现象；背管两端设置有导向斜面，密封圈能很容易的进入到内密封区域；铬硅合金管用铟层绑定在不锈钢背管的外部，导热性好，可靠性高；密度高，氧氮含量低，铬硅合金管两端还设置有防裂倒角和溅射过渡区，溅射过程稳定，膜层均匀，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生，耐腐蚀性强；使用寿命长，减少了停机更换靶材的次数，降低了企业的成本，提高了其生产效率。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图2为图1中A处结构放大图。
图3为图1中B处结构放大图。
附图标记说明：1-背管、2-内密封面、3-卡槽、4-防裂倒角、5-铬硅合金管、6-钎焊层、7-定位槽、8-法兰、9-溅射过渡区、10-导向斜面。
具体实施方式
下面结合具体实施例和附图对本实用新型作进一步说明。
如图所示：一种旋转铬硅靶材，包括背管1，背管1外设有钎焊层6，钎焊层6外设有铬硅合金管5，钎焊层6可以为铟层。背管1的一端设有内密封面2和卡槽3，背管1的另一端设有定位槽7和法兰8，以便和生产设备连接。背管1内壁的两端设有导向斜面10，密封圈能很容易的进入到内密封区域。铬硅合金管5的两端设有防裂倒角4和溅射过渡区9。铬硅合金管5中部的厚度为3-15毫米，其采用铬和硅的粉混合均匀，其中铬含量为30%-70%，硅含量为30%-70%，之后采用热等静压的方法压制成坯料，再经机加工制成符合尺寸要求的和金管。背管1为304不锈钢背管，其可靠性高，能重复利用，也没有磁性，不会影响到使用时放置在内部的磁铁的磁场强度。
本实用新型安装方便省时，与设备连接的可靠性高，在长时间的工作过程中，能够稳定的旋转，均匀的溅射，不会产生起弧现象，并且杜绝了气孔和积瘤的产生；由于此靶材采用的是内密封方式，背管受力很小，几乎不会产生变形，避免了背管变形导致的靶材开裂现象。
Claims (6)
1.一种旋转铬硅靶材，其特征在于，包括背管（1），背管（1）外设有钎焊层（6），钎焊层（6）外设有铬硅合金管（5）；背管（1）的一端设有内密封面（2）和卡槽（3），背管（1）的另一端设有定位槽（7）和法兰（8）。
2.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述背管（1）内壁的两端设有导向斜面（10）。
3.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述铬硅合金管（5）的两端设有防裂倒角（4）和溅射过渡区（9）。
4.根据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述铬硅合金管（5）中部的厚度为3-15毫米。
5.据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述钎焊层（6）为铟层。
6.据权利要求1所述的旋转铬硅靶材，其特征在于，所述背管（1）为304不锈钢背管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201721775065.9U CN207904355U (zh) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | 一种旋转铬硅靶材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201721775065.9U CN207904355U (zh) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | 一种旋转铬硅靶材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN207904355U true CN207904355U (zh) | 2018-09-25 |
Family
ID=63568254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201721775065.9U Active CN207904355U (zh) | 2017-12-18 | 2017-12-18 | 一种旋转铬硅靶材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN207904355U (zh) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109676800A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-26 | 河北冠靶科技有限公司 | 一种高硬度高脆性陶瓷旋转靶材的加工方法 |
| CN113025971A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-06-25 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种管靶材及其用途 |
| CN113897585A (zh) * | 2021-10-11 | 2022-01-07 | 芜湖映日科技股份有限公司 | 一种硅铬旋转溅射靶材及其制备方法 |
-
2017
- 2017-12-18 CN CN201721775065.9U patent/CN207904355U/zh active Active
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109676800A (zh) * | 2018-12-29 | 2019-04-26 | 河北冠靶科技有限公司 | 一种高硬度高脆性陶瓷旋转靶材的加工方法 |
| CN113025971A (zh) * | 2021-03-01 | 2021-06-25 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种管靶材及其用途 |
| CN113897585A (zh) * | 2021-10-11 | 2022-01-07 | 芜湖映日科技股份有限公司 | 一种硅铬旋转溅射靶材及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN207904355U (zh) | 一种旋转铬硅靶材 | |
| CN103695858B (zh) | 一种用于刀具涂层沉积的多功能全自动离子镀膜机及其使用方法 | |
| CN101787512A (zh) | 一种多元金属元素掺杂类金刚石膜的制备方法 | |
| CN105603371A (zh) | 一种磁性溅射靶材 | |
| CN113529071B (zh) | 轨道球阀密封面的激光熔覆层及其制备方法 | |
| CN109023269B (zh) | 一种靶材的制作方法 | |
| CN202576553U (zh) | 磁控溅射靶材 | |
| CN204224460U (zh) | 大面积高透镀膜玻璃 | |
| CN104209875A (zh) | 一种超硬材料磨具及其制备方法 | |
| CN108390013A (zh) | 一种锂离子电池电极材料表面纳米金属修饰方法 | |
| CN102330057B (zh) | 硬质材质半导体元器件的金属钌薄膜的制备方法 | |
| CN107995932A (zh) | 磁控溅射阴极系统 | |
| CN201614403U (zh) | 一种镀金陶瓷 | |
| CN206666637U (zh) | 一种具有混镀的高效真空电镀装置 | |
| CN215251137U (zh) | 异形溅射靶材 | |
| CN102383127B (zh) | 一种在蒙乃尔合金表面制备激光改性层的复合工艺方法 | |
| CN208378982U (zh) | 一种磁控溅射靶材用水路背板 | |
| CN211841488U (zh) | 一种靶材辅助抛光装置 | |
| CN108857266A (zh) | 一种闸板密封面加工工艺及焊接工装 | |
| CN108265289A (zh) | 一种氩弧熔覆原位合成多种增强相复合涂层的方法 | |
| CN208667834U (zh) | 磁控溅射/微波表面波沉积系统 | |
| CN101586228A (zh) | 磁控溅射镀膜系统中提高平面靶材利用率的方法 | |
| CN219603667U (zh) | 一种长寿命旋转阴极磁控溅射靶材 | |
| CN206631576U (zh) | 一种耐高温碱腐蚀和磨蚀的反应釜 | |
| CN212713731U (zh) | 一种靶材组件 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |