CN207904178U - 一种避免气泡的保护膜结构 - Google Patents

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李小刚
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Abstract

本实用新型公开了一种避免气泡的保护膜结构,包括基材层,所述基材层上表面设置有胶面抗静电层,所述胶面抗静电层上表面设置有胶粘剂层,所述基材层下表面设置有表面抗静电层,所述表面抗静电层下表面设置有防刮层。本实用新型,解决静电引起覆膜气泡的保护膜结构,在传统的保护膜结构上,增加专门的静电消除层,大大的降低了覆膜气泡现象,抗静电层为涂布的一种聚合物类静电消除剂,具有很强的稳定性,其表面电阻值可以控制在10的8‑10次方,抗静电要求表面阻值在10的12次方以下,完全可以达到抗静电的功能,从而消除静电带来的气泡问题。

Description

一种避免气泡的保护膜结构
技术领域
本实用新型涉及膜内装饰技术领域,具体是一种避免气泡的保护膜结构。
背景技术
目前在膜内装饰领域,经常遇到保护膜覆膜时因为静电太大,导致覆膜后出现大小不同的气泡现象。这类不良会在印刷烘烤,或者成型,或者切割等制程中产生各种不良,导致良率降低,增加制造成本。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种避免气泡的保护膜结构,以解决现有技术中的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种避免气泡的保护膜结构,包括基材层,所述基材层上表面设置有胶面抗静电层,所述胶面抗静电层上表面设置有胶粘剂层,所述基材层下表面设置有表面抗静电层,所述表面抗静电层下表面设置有防刮层。
优选的,所述胶面抗静电层和表面抗静电层结构相同。
优选的,所述胶面抗静电层和表面抗静电层均设置为聚合物类静电消除剂涂层。
优选的,所述防刮层设置为特氟龙涂料层。
优选的,所述基材层设置为透明基材层。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型解决静电引起覆膜气泡的保护膜结构,在传统的保护膜结构上,增加专门的静电消除层,大大的降低了覆膜气泡现象,抗静电层为涂布的一种聚合物类静电消除剂,具有很强的稳定性,其表面电阻值可以控制在10的8-10次方,抗静电要求表面阻值在10的12次方以下,完全可以达到抗静电的功能,从而消除静电带来的气泡问题;通过设置防刮层,增加了膜的抗刮性能。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中:1-胶粘剂层;2-胶面抗静电层;3-基材层;4-表面抗静电层;5-防刮层。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1,本实用新型实施例中,一种避免气泡的保护膜结构,包括基材层3,基材层3上表面设置有胶面抗静电层2,胶面抗静电层2上表面设置有胶粘剂层1,基材层3下表面设置有表面抗静电层4,表面抗静电层4下表面设置有防刮层5,胶面抗静电层2和表面抗静电层4结构相同,胶面抗静电层2和表面抗静电层4均设置为聚合物类静电消除剂涂层,防刮层5设置为特氟龙涂料层,基材层3设置为透明基材层。
本实用新型的工作原理是:通过设置胶面抗静电层2和表面抗静电层4,解决静电引起覆膜气泡的保护膜结构,在传统的保护膜结构上,增加专门的抗静电层4,大大的降低了覆膜气泡现象,抗静电层为涂布的一种聚合物类静电消除剂,具有很强的稳定性,其表面电阻值可以控制在10的8-10次方,抗静电要求表面阻值在10的12次方以下,完全可以达到抗静电的功能,从而消除静电带来的气泡问题。
对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

Claims (5)

1.一种避免气泡的保护膜结构,包括基材层(3),其特征在于:所述基材层(3)上表面设置有胶面抗静电层(2),所述胶面抗静电层(2)上表面设置有胶粘剂层(1),所述基材层(3)下表面设置有表面抗静电层(4),所述表面抗静电层(4)下表面设置有防刮层(5)。
2.根据权利要求1所述的一种避免气泡的保护膜结构,其特征在于:所述胶面抗静电层(2)和表面抗静电层(4)结构相同。
3.根据权利要求2所述的一种避免气泡的保护膜结构,其特征在于:所述胶面抗静电层(2)和表面抗静电层(4)均设置为聚合物类静电消除剂涂层。
4.根据权利要求1所述的一种避免气泡的保护膜结构,其特征在于:所述防刮层(5)设置为特氟龙涂料层。
5.根据权利要求1所述的一种避免气泡的保护膜结构,其特征在于:所述基材层(3)设置为透明基材层。
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