CN207811933U - 一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统 - Google Patents

一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统 Download PDF

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张勇
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Abstract

本实用新型公开了一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统,包括一个源瓶，通过进气阀连通的进气管道，通过排气阀与扩散炉连通的排气管道，所述排气阀和所述扩散炉之间设有一第一气动阀和一压力控制计。本实用新型设有第一气动阀和第二气动阀计使进气管道和排气管道之间压力平衡，压力控制计调节源瓶压力的设定值，从而控制进入炉体的三氯氧磷浓度，从而保证扩散工艺的持续稳定性，满足低压扩散工艺。

Description

一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统
技术领域
本实用新型涉及光伏行业，尤其涉及一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统。
背景技术
在光伏行业，扩散炉主要用于对单晶硅片、多晶硅片进行掺杂，形成PN结。对于常压扩散炉，炉内压力主要靠通入大量氮气维持，稳定性差而且比较浪费气体，因此近年来低压扩散技术开始广泛应用，相对常压扩散工艺，低压扩散可以弥补诸多不足，炉内真空环境的引入，可以大幅提高扩散的均匀型和稳定性。对于低压扩散工艺，源瓶压力与炉内压力的互相配合很大程度影响了扩散方块电阻，低压扩散炉源瓶压力与炉内压力需调节到相应的值来达到扩散的要求。
实用新型内容
本实用新型提供一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统，用于平衡源瓶压力,能更好的调节进入扩散炉内气体的压力。
本实用新型提出的技术方案是一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统,包括一个源瓶，通过进气阀连通的进气管道，通过排气阀与扩散炉连通的排气管道，其中，所述排气阀和所述扩散炉之间设有一第一气动阀和一压力控制计。
优选地，所述进气管道和所述排气管道之间设有一用于平衡压力的第二气动阀。
优选地，所述压力控制计采用MKS技术生产的压力控制计。
所述源瓶内装的是三氯氧磷，通入的气体是氮气。
与现有技术相比，本实用新型设有第一气动阀和第二气动阀，使进气管道和排气管道之间压力平衡，压力控制计调节源瓶压力的设定值，从而控制进入炉体的三氯氧磷浓度，从而保证扩散工艺的持续稳定性，满足低压扩散工艺。
附图说明
图1为本实用新型的源瓶气路系统示意图。
图2为本实用新型的MKS压力控制计原理示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对实用新型进行详细的说明。
如图1所示，本实用新型提出用于扩散炉的源瓶压力控制系统,包括一个源瓶1、通过进气阀2连通的进气管道4，通过排气阀3与扩散炉9连通的排气管道5，其中，排气阀和所述扩散炉之间设有一第一气动阀6和一压力控制计8。进气管道4和排气管道5之间设有一用于平衡压力的第二气动阀7。
工作时，氮气通过进气管道4同时打开进气阀2，将氮气引至源瓶1并且与源瓶1内的三氯氧磷混合，再打开排气阀3，带有三氯氧磷的氮气从源瓶1出来，通过排气管道5，经过第一气动阀6，压力控制计8，最后进入扩散炉9。同时打开第二气动阀7用于平衡进气管道4和排气管道5之间的压力，且在压力控制计8的调节下，使氮气压力符合扩散炉9内相应的压力。在低压状态下，当进入扩散炉9内的氮气压力太小时，调节压力控制计8提高压力设定值，便可提高进入扩散炉9内的氮气压力；当进入扩散炉9内的氮气压力太大时，调节压力控制计8降低压力设定值，便可降低进入扩散炉9内的氮气压力。
图2为本实用新型的MKS压力控制计原理图，MKS压力控制计是以单位时间内压力体积的流量方式来控制气体质量流量的测量仪器。气体由排气管道5引至MKS压力控制计时，气体先通过MKS技术装置81，再经过控制阀82，最后才通至扩散炉。MKS技术装置81和控制阀82共同完成对进入扩散炉气体压力的调节。
本实用新型设有第一气动阀和第二气动阀，使进气管道和排气管道之间压力平衡，压力控制计调节源瓶压力的设定值，从而控制进入炉体的三氯氧磷浓度，从而保证扩散工艺的持续稳定性，满足低压扩散工艺。
上述实施例仅用于说明本实用新型的具体实施方式。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和变化，这些变形和变化都应属于本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种用于扩散炉的源瓶压力控制系统,包括一个源瓶(1)，通过进气阀（2）连通的进气管道（4），通过排气阀（3）与扩散炉（9）连通的排气管道（5），其特征在于，所述排气阀和所述扩散炉之间设有一第一气动阀（6）和一压力控制计（8）。
2.如权利要求1所述的源瓶压力控制系统，其特征在于，所述进气管道（4）和所述排气管道（5）之间设有一用于平衡压力的第二气动阀（7）。
3.如权利要求1所述的源瓶压力控制系统，其特征在于，所述压力控制计（8）采用MKS技术生产的压力控制计。
4.如权利要求1所述的源瓶压力控制系统，其特征在于，所述源瓶（1）内装的是三氯氧磷，通入的气体是氮气。
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