CN207768102U - 电磁加热锅和煮食设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及电热电器领域，公开了电磁加热锅和煮食设备。该电磁加热锅包括：锅体(1’)，锅体呈顶部敞开且底部封闭的中空筒状，锅体(1’)底部的外表面包括附着导磁涂层的覆盖区域(2’)和覆盖区域(3’)，区域(2’)中的导磁涂层以锅体(1’)的底部中心向外延伸，区域(3’)中的导磁涂层的内周与区域(2’)中的导磁涂层的外周相接，区域(3’)中的导磁涂层的内周的厚度与区域(2’)中的导磁涂层的外周的厚度相同，以区域(2’)的外周为起始，区域(3’)的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，区域(2’)的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加。该锅用于食物烹饪时加强了锅内食物的沸腾效果。

Description

电磁加热锅和煮食设备

技术领域

本实用新型涉及电热电器技术领域，具体涉及电磁加热锅和煮食设备。

背景技术

铝合金、304不锈钢、陶瓷等材质在家用电器产品中应用非常广泛，但这些非磁性或弱导磁性材质的锅具大多不具备较佳的电磁加热功能。可通过在这些锅具底部制备一层高磁导率的涂层，以实现其良好的电磁加热功能。以Fe、Ni、Co、Fe-Si合金、430不锈钢等细微粉末为原材料，通过加热状态下的高速气流辅助的超音速冷喷涂技术所制备的导磁涂层结合力好、结构致密、孔隙率低、电磁加热感应能力强。可以显著提升非磁性或弱磁性锅具的电磁加热效率。

由于冷喷涂技术在铝锅底部制备的导磁涂层性能优越，有望部分取代目前的铝合金/复底不锈钢板，以及铝合金/不锈钢复合板制备的锅具，显著降低IH加热锅具的制造成本，且还可达到类似的快速高效电磁加热的目的。

然而，目前通过冷喷涂技术得到的附着有导磁涂层的电磁加热锅具用于食物烹饪时，仍然存在受热不均匀，沸腾效果不好的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的通过冷喷涂技术得到的附着有导磁涂层的电磁加热锅具用于食物烹饪时存在受热不均匀导致沸腾效果不好的缺陷，提供电磁加热锅和包括该电磁加热锅的煮食设备。本实用新型提供的电磁加热锅用于食物烹饪时，加强了锅内食物的剧烈沸腾效果，锅内的食物烹饪更加均匀。

根据本实用新型的第一方面，本实用新型提供一种电磁加热锅，该电磁加热锅包括：

锅体1，锅体呈顶部敞开且底部封闭的中空筒状，所述锅体1的侧壁与所述锅体1的底部的连接处为圆弧形；

锅体1的外表面包括附着有导磁涂层的覆盖区域2、覆盖区域3、覆盖区域4，覆盖区域3用于连接所述覆盖区域2和覆盖区域4，所述覆盖区域2中的导磁涂层以锅体1的底部中心向外延伸，

其中，所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2中的导磁涂层的外周相接，并向外延伸至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界，所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域2中的导磁涂层的外周的厚度相同，所述覆盖区域3中的导磁涂层的外周的厚度与和覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界的厚度相同，

以覆盖区域2的外周为起始，所述覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，所述覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，所述覆盖区域4的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小。

根据本实用新型的第二方面，本实用新型提供一种电磁加热锅，该电磁加热锅包括：

锅体1’，锅体呈顶部敞开且底部封闭的中空筒状，

锅体1’底部的外表面包括附着导磁涂层的覆盖区域2’和附着导磁涂层的覆盖区域3’，所述覆盖区域2’中的导磁涂层以锅体1’的底部中心向外延伸，

其中，所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2’中的导磁涂层的外周相接，所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域2’中的导磁涂层的外周的厚度相同，以覆盖区域2’的外周为起始，所述覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，所述覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加。

优选地，所述覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，所述覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2中的导磁涂层的外周相接，并沿锅体1的侧壁与锅体1的底部的连接处向上延伸至与覆盖区域3邻接的所述覆盖区域4的边界。

优选地，所述覆盖区域3中导磁涂层的内周的厚度为D₁，所述覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂，D₁/D₂＝1-3。

优选地，所述覆盖区域3中导磁涂层的内周的厚度D₁为0.1-1mm。

优选地，所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.1-1mm。

优选地，所述覆盖区域2、覆盖区域3、覆盖区域4中的导磁涂层为一体结构。

优选地，所述覆盖区域2’和覆盖区域3’中的导磁涂层为一体结构。

优选地，以锅体1的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占20-60％。

优选地，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占50-120％。

优选地，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占20-60％。

优选地，所述覆盖区域中的导磁涂层的孔隙率各自为小于1％。

优选地，所述覆盖区域中的导磁涂层的孔隙率各自为0.08-0.5％。

优选地，所述覆盖区域中的导磁涂层各自含有磁性金属层。

优选地，所述覆盖区域中的导磁涂层各自含有选自Fe、Fe合金、Ni、Ni合金、Co和Co合金中的一种或两种以上。

优选地，所述锅体由选自不锈钢、铝、铝合金和钛合金中一种或多种材料形成。

根据本实用新型的第二方面，本实用新型还提供一种煮食设备，其中，该煮食设备包括上述电磁加热锅。

优选地，所述煮食设备为电炖锅、电饭煲、电压力锅、煎锅和炒锅中一种或多种。

在本实用新型中，通过对锅的外表面的不同位置的导磁涂层厚度进行控制，使锅具底部中间区域的导磁涂层的厚度相对较厚而其边缘区域相对较薄；或者使锅具底部和侧壁的圆弧过渡区域一定范围内的导磁涂层的厚度相对较厚而其邻近的其他区域的导磁涂层的厚度相对较薄，使得本实用新型提供的电磁加热锅用于食物烹饪时，加强了锅内食物的剧烈沸腾效果，使锅内的食物烹饪更加均匀。

附图说明

图1是本实用新型提供的一种实施方式的电磁加热锅的结构示意图；

图2是本实用新型提供的另一种实施方式的电磁加热锅的结构示意图；

图3是本实用新型提供的一种实施方式的电磁加热锅的外表面的覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4的截面示意图；

图4是本实用新型提供的另一种实施方式的电磁加热锅的底部外表面覆盖区域2’和覆盖区域3’的截面示意图。

附图标记说明

1、锅体；2、覆盖区域2；3、覆盖区域3；4、覆盖区域4；

1’、锅体；2’、覆盖区域2’；3’、覆盖区域3’。

具体实施方式

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下”通常是指参考附图所示的上、下；“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外。

在本文中所披露的范围的端点和任何值都不限于该精确的范围或值，这些范围或值应当理解为包含接近这些范围或值的值。对于数值范围来说，各个范围的端点值之间、各个范围的端点值和单独的点值之间，以及单独的点值之间可以彼此组合而得到一个或多个新的数值范围，这些数值范围应被视为在本文中具体公开。

根据本实用新型的第一方面，本实用新型提供一种电磁加热锅，该电磁加热锅包括：

锅体1，锅体呈顶部敞开且底部封闭的中空筒状，所述锅体1的侧壁与所述锅体1的底部的连接处为圆弧形；

锅体1的外表面包括附着有导磁涂层的覆盖区域2、覆盖区域3、覆盖区域4，覆盖区域3用于连接所述覆盖区域2和覆盖区域4，所述覆盖区域2中的导磁涂层以锅体1的底部中心向外延伸，

其中，所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2中的导磁涂层的外周相接，并向外延伸至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界，所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域2中的导磁涂层的外周的厚度相同，所述覆盖区域3中的导磁涂层的外周的厚度与和覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界的厚度相同，

以覆盖区域2的外周为起始，所述覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，所述覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，所述覆盖区域4的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小。

本实用新型提供的电磁加热锅的结构与现有技术主要不同之处在于：通过对锅的外表面的不同位置的导磁涂层厚度进行控制，使锅具底部中间区域的导磁涂层的厚度相对较厚而其边缘区域相对较薄；或者使锅具底部和侧壁的圆弧过渡区域一定范围内的导磁涂层的厚度相对较厚而其邻近的其他区域的导磁涂层的厚度相对较薄，使得本实用新型提供的电磁加热锅用于食物烹饪时，加强了锅内食物的剧烈沸腾效果，使锅内的食物烹饪更加均匀。这可能是因为由于较厚的导磁涂层的磁力线感应区相对较深，其发热量也较多，而导磁涂层较薄的区域的磁力线感应区相对较浅，其发热量相对较少，因而在相同的时间内，促使导磁涂层较厚的区域对应的锅内区域产生更多的热量和气泡，而导磁涂层厚度较薄的区域对应的锅内区域产生的热量和气泡相对较少，这样容易形成较强的热对流，从而加强锅内食物的沸腾效果，使锅内的食物烹饪更加均匀立体。

本领域技术人员可以理解的是，本实用新型的锅体1(或者锅体1’)的底部和侧壁与盛装物品相接触的表面为内表面，相对的另一面为外表面，即与盛装的物品不接触的表面。

需要说明的是，与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界是指与覆盖区域4与覆盖区域3相接的位置。

根据本实用新型的一种优选实施方式，如图1所示，所述覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，所述覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2中的导磁涂层的外周相接，并沿锅体1的侧壁与锅体1的底部的连接处向上延伸至与覆盖区域3邻接的所述覆盖区域4的边界。在该种实施方式中，导磁涂层较厚的圆弧过渡处对应的锅的内部区域生产更多的热量和气泡，而导磁涂层较薄的区域对应的锅的底部和其他区域产生的热量和气泡较少，使得圆弧过渡处对应的锅的内部区域与锅内中部区域形成较强的热对流，从而加强了锅内的沸腾效果。

根据本实用新型，如图3所示，所述覆盖区域3中导磁涂层的内周的厚度为D₁，所述覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂，D₁和D₂的值可以根据具体使用的锅具的大小和导磁涂层厚度的需求进行合理地选择，一般地，D₁/D₂＝1-3，为了获得更好的沸腾效果，优选情况下，D₁/D₂＝1-2，最优选情况下，D₁/D₂＝1。

根据本实用新型的电磁加热锅，优选情况下，所述覆盖区域3中导磁涂层的内周的厚度D₁为0.1-1mm。

根据本实用新型的电磁加热锅，为了获得更好的沸腾效果，优选情况下，所述覆盖区域2、覆盖区域3、覆盖区域4中的导磁涂层为一体结构。即，所述覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4中的导磁涂层为一体形成。

根据本实用新型的电磁加热锅，所述覆盖区域2的面积可以根据具体使用电磁加热锅的大小进行合理选择，一般地，以锅体1的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占20-60％，为了使得电磁加热锅具有更好的沸腾效果，优选情况下，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占50-120％，进一步优选占60-80％，当所述覆盖区域2的面积大于100％时，所述覆盖区域2的面积包括锅体1的底部外表面的全部面积和与底部邻接的部分侧壁外表面的面积。

根据本实用新型的电磁加热锅，为了进一步提高电磁加热锅的防腐性能，一般地，所述覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4中的导磁涂层的孔隙率各自可以为小于1％，优选情况下，所述覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4中的导磁涂层的孔隙率各自为0.08-0.5％。

根据本实用新型的电磁加热锅，所述覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4中的导磁涂层可以为本领域中常用的导磁涂层，一般地，所述覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4的导磁涂层可以各自含有磁性金属层，优选情况下，所述导磁涂层各自含有选自Fe、Fe合金、Ni、Ni合金、Co和Co合金中的一种或两种以上。

根据本实用新型的电磁加热锅，所述锅体1可以通过本领域中常用的材料形成，例如，所述锅体1由选自不锈钢、铝、铝合金和钛合金中一种或多种材料形成。

根据本实用新型的第二方面，本实用新型还提供了一种电磁加热锅，该电磁加热锅包括：

锅体1’，锅体呈顶部敞开且底部封闭的中空筒状，

锅体1’底部的外表面包括附着导磁涂层的覆盖区域2’和附着导磁涂层的覆盖区域3’，所述覆盖区域2’中的导磁涂层以锅体1’的底部中心向外延伸，

其中，所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2’中的导磁涂层的外周相接，所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域2’中的导磁涂层的外周的厚度相同，以覆盖区域2’的外周为起始，所述覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，所述覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加。

根据本实用新型的电磁加热锅，该锅的底部的中间区域的导磁涂层的厚度相对较厚而其边缘区域相对较薄，导磁涂层较厚的区域对应的锅内中心产生更多的热量和气泡，导磁涂层较薄的区域对应的锅内边缘区域产生的热量和气泡较少，使得锅内中心与锅内边缘区域形成较强的热对流，从而加强了锅内的沸腾效果。

根据本实用新型的电磁加热锅，如图4所示，所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度为D₃，D₃的值可以根据具体使用的锅具的大小和导磁涂层厚度的需求进行合理地选择，一般地，D₃为0.1-1mm。

根据本实用新型的电磁加热锅，如图2所示，为了获得更好的沸腾效果，优选情况下，所述覆盖区域2’和覆盖区域3’中的导磁涂层为一体结构。即，所述覆盖区域2’和覆盖区域3’中的导磁涂层为一体形成。

根据本实用新型的电磁加热锅，所述覆盖区域2’的面积可以根据具体使用电磁加热锅的大小进行合理选择，一般地，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占20-60％，优选占30-50％。

根据本实用新型的电磁加热锅，所述覆盖区域2’和覆盖区域3’中导磁涂层的种类与上文描述一致，在此不再赘述。

根据本实用新型的电磁加热锅，所述锅体1’的材料选择与上文描述一致，在此不在赘述。

本实用新型还提供了上述电磁加热锅的制备方法，该方法包括：在锅体1的外表面的部分区域冷喷涂磁性金属粉末，以在锅体1的外表面形成附着有导磁涂层的覆盖区域2、覆盖区域3、覆盖区域4，覆盖区域3用于连接所述覆盖区域2和覆盖区域4，所述覆盖区域2中的导磁涂层以锅体1的底部中心向外延伸，所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2中的导磁涂层的外周相接，并向外延伸至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界，

其中，所述冷喷涂的条件使得所述覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域2中的导磁涂层的外周的厚度相同，所述覆盖区域3中的导磁涂层的外周的厚度与和覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界的厚度相同，以覆盖区域2的外周为起始，所述覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，所述覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，所述覆盖区域4的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小。

本实用新型通过对冷喷涂工艺中的喷枪的移动速率或者冷喷涂的粉末输送速度进行优化，从而改变电磁加热锅的外表面的导磁涂层的厚度。从而实现了对锅的外表面的不同位置的导磁涂层的厚度进行控制，使得本实用新型提供的电磁加热锅用于食物烹饪时，加强了锅内食物的剧烈沸腾效果，使锅内的食物烹饪更加均匀。

根据本实用新型，可以根据具体的冷喷涂工艺条件对开始喷涂的区域选择，只要可以形成导磁涂层厚度相对较厚和导磁涂层厚度相对较薄的区域即可。

根据本实用新型的一种实施方式，所述冷喷涂的条件包括：冷喷涂的粉末输送速度保持不变，从覆盖区域4开始进行喷涂，冷喷涂采用的喷枪移动至与覆盖区域3邻接的所述覆盖区域4的边界时，喷枪的移动速率开始呈连续下降的趋势，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，喷枪的移动速率开始呈连续上升的趋势。由此形成导磁涂层厚度较厚的覆盖区域3与导磁涂层较薄的覆盖区域4和覆盖区域2。

根据本实用新型，优选情况下，以形成覆盖区域4时的喷枪的移动速率为基准，形成覆盖区域3时喷枪的最小移动速率与其的比值为0.1-0.9，进一步优选为0.5-0.7；形成覆盖区域2时喷枪的最大移动速率与其的比值为1-3，进一步优选为1.5-1.8。

根据本实用新型，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的喷枪的移动速率可以根据所需导磁涂层的具体厚度进行合理的选择，一般地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的喷枪移动速率可以为0.02-0.5m/s，优选为0.05-0.3m/s。为了使锅内的沸腾效果更好，进一步优选地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的喷枪的移动速率为匀速。

根据本实用新型的另一种实施方式，所述冷喷涂的条件包括：冷喷涂采用的喷枪的移动速率保持不变，从覆盖区域4开始进行喷涂，喷枪移动至与覆盖区域3邻接的所述覆盖区域4的边界时，冷喷涂的粉末输送速度开始逐渐增加，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，冷喷涂的粉末输送速度开始逐渐减小。由此形成导磁涂层厚度较厚的覆盖区域3与导磁涂层较薄的区域4和覆盖区域2。

根据本实用新型，优选情况下，以形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的粉末输送速度为基准，形成覆盖区域3时最大的粉末输送速度与其的比值为1.1-1.5，进一步优选为1.2-1.5；形成覆盖区域2时最小的粉末输送速度与其的比值为0.4-0.9，进一步优选为0.6-0.75。

根据本实用新型，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的粉末输送速度可以根据所需导磁涂层的具体厚度进行合理的选择，一般地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的粉末输送速度可以为5-15kg/h，优选为6-10kg/h。为了使锅内的沸腾效果更好，进一步优选地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的粉末输送速度为匀速。

根据本实用新型，优选情况下，为了获得使得锅内沸腾效果更好，所述冷喷涂的条件还包括：工作气体为空气、氦气、氩气和N₂中的一种或多种；喷涂距离为20-45mm，优选为25-40mm；气体加热温度为600-1000℃，优选为700-900℃；喷涂压力为1-5MPa，优选为2-4MPa。

根据本实用新型，冷喷涂采用的粉末为磁性金属粉末，优选地，所述磁性金属为Fe、Fe合金、Ni、Ni合金、Co和Co合金中的一种或两种以上。

根据本实用新型，所述磁性金属粉末的粒径可以根据所需的涂层进行合理地选择，一般地，所述磁性金属粉末的平均粒径可以为10-50μm。

本实用新型的磁性金属粉末经过喷枪喷射并高速撞击到电磁加热锅的外表面的部分区域上，撞击瞬间部分动能转化成热能，磁性金属粒子发生纯塑性剪切变形并牢固附着在基体的表面，整个过程磁性金属粒子没有被融化，由此形成导磁涂层。

根据本实用新型，所述锅体1的材质与上文描述一致，在此不再赘述。

根据本实用新型，优选情况下，所述方法还包括在进行冷喷涂之前，对锅体1的外表面进行除油脱脂。所述除油脱脂的方式为将锅体1的外表面与碱性溶液进行接触。

根据本实用新型，优选地，所述接触的条件包括：接触的温度为50-90℃，接触的持续时间为1-10min。

根据本实用新型，优选地，以所述碱性溶液的总量为基准，所述碱性溶液的浓度为10-40重量％，

根据本实用新型，优选地，所述碱性溶液为NaOH和/或KOH的水溶液。

根据本实用新型，优选地，为了避免影响后续操作，将锅体1的外表面与碱性溶液进行接触后，再用酸性溶液中和、用去离子水进行清洗并干燥。所述酸性溶液可以为本领域中的常用溶液，例如硝酸溶液和/或盐酸溶液，所述酸性溶液的浓度、与酸性溶液接触的时间以及干燥的温度和时间可以参照现有技术进行，在此不再赘述。

根据本实用新型，优选情况下，所述方法还包括在对锅体1的外表面进行除油脱脂之前进行粗化处理，例如，通过喷砂的方式进行粗化处理，可以使用60-100目的金刚砂，使得锅体1的外表面的粗糙度为3-10μm。

根据本实用新型，D₁与D₂的定义和选择与上文描述相同，在此不再赘述。

根据本实用新型，优选情况下，所述覆盖区域3中导磁涂层的内周的厚度D₁为0.1-1mm。

根据本实用新型，为了使得电磁加热锅的沸腾效果更好，优选情况下，所述覆盖区域2、覆盖区域3、覆盖区域4中的导磁涂层为一体结构。

根据本实用新型，所述覆盖区域2的面积的选择与上文描述一致，在此不再赘述。

根据本实用新型，所述覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4中的导磁涂层的孔隙率与上文描述一致，在此不再赘述。

本实用新型还提供了一种电磁加热锅的制备方法，该方法包括：本实用新型提供一种电磁加热锅的制备方法，该方法包括：在锅体1’的底部的外表面的部分区域冷喷涂磁性金属粉末，以在锅体1’的底部的外表面形成附着有导磁涂层的覆盖区域2’和附着导磁涂层的覆盖区域3’，所述覆盖区域2’中的导磁涂层以锅体1’的底部中心向外延伸，所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域2’中的导磁涂层的外周相接，

其中，所述冷喷涂的条件使得所述覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域2’中的导磁涂层的外周的厚度相同，以覆盖区域2’的外周为起始，所述覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，所述覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加。

根据本实用新型，可以根据具体的冷喷涂工艺条件对开始喷涂的区域选择，只要可以形成导磁涂层厚度相对较厚和导磁涂层厚度相对较薄的区域即可。

根据本实用新型的一种实施方式，所述冷喷涂的条件包括：冷喷涂的粉末输送速度保持不变，从覆盖区域3’开始进行喷涂，冷喷涂采用的喷枪移动至覆盖区域2’中导磁涂层的外周时，喷枪的移动速率开始呈连续减小的趋势。由此形成导磁涂层厚度较厚的覆盖区域2’与导磁涂层较薄的区域3’。

根据本实用新型，优选情况下，以形成覆盖区域3’时的喷枪的移动速率为基准，形成覆盖区域2’时喷枪的最小移动速率与其的比值为0.5-0.9，进一步优选为0.5-0.75。

根据本实用新型，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的喷枪的移动速率可以根据所需导磁涂层的具体厚度进行合理的选择，一般地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的喷枪移动速率可以为0.02-0.5m/s，优选为0.05-0.3m/s。为了使锅内的沸腾效果更好，进一步优选地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的喷枪的移动速率为匀速。

根据本实用新型的另一种实施方式，所述冷喷涂的条件包括：所述冷喷涂的条件包括：冷喷涂采用的喷枪的移动速率保持不变，从覆盖区域3’开始进行喷涂，冷喷涂采用的喷枪移动至覆盖区域2’中导磁涂层的外周时，冷喷涂的粉末输送速度开始逐渐增加。由此形成导磁涂层厚度较厚的覆盖区域2’与导磁涂层较薄的区域3’。

根据本实用新型，优选情况下，以形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的粉末输送速度为基准，形成覆盖区域2’时最大的粉末输送速度与其的比值为1-2，进一步优选为1.2-1.5。

根据本实用新型，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的粉末输送速度可以根据所需导磁涂层的具体厚度进行合理的选择，一般地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的粉末输送速度可以为5-15kg/h，优选为6-10kg/h。为了使锅内的沸腾效果更好，进一步优选地，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的粉末输送速度为匀速。

根据本实用新型，优选情况下，为了获得使得锅内沸腾效果更好，所述冷喷涂的条件还包括：工作气体为空气、氦气、氩气和N₂中的一种或多种；喷涂距离为20-45mm，优选为25-40mm；气体加热温度为600-1000℃，优选为700-900℃；喷涂压力为1-5MPa，优选为2-4MPa。

根据本实用新型，冷喷涂使用的磁性金属与磁性金属粉末的平均粒径的选择与上文描述一致，在此不再赘述。

根据本实用新型，所述锅体1’的材质的选择与上文描述一致，在此不再赘述。

根据本实用新型，优选情况下，所述方法还包括在进行冷喷涂之前，对锅体1’的底部的外表面进行除油脱脂。所述除油脱脂的方式为将锅体1’的底部的外表面与碱性溶液进行接触。

根据本实用新型，优选地，所述接触的条件包括：接触的温度为50-90℃，接触的持续时间为1-10min。

根据本实用新型，优选地，以所述碱性溶液的总量为基准，所述碱性溶液的浓度为10-40重量％，

根据本实用新型，优选地，所述碱性溶液为NaOH和/或KOH的水溶液。

根据本实用新型，优选地，为了避免影响后续操作，将锅体1’的底部的外表面与碱性溶液进行接触后，再用酸性溶液中和、用去离子水进行清洗并干燥。所述酸性溶液可以为本领域中的常用溶液，例如硝酸溶液和/或盐酸溶液，所述酸性溶液的浓度、与酸性溶液接触的时间以及干燥的温度和时间可以参照现有技术进行，在此不再赘述。

根据本实用新型，优选情况下，所述方法还包括在对锅体1’的底部的外表面进行除油脱脂之前进行粗化处理，例如，通过喷砂的方式进行粗化处理，可以使用60-100目的金刚砂，使得锅体1’的底部的外表面的粗糙度为3-10μm。

根据本实用新型，D₃的定义和选择与上文描述相同，在此不再赘述。

根据本实用新型，为了使得电磁加热锅的沸腾效果更好，优选情况下，所述覆盖区域2’和覆盖区域3’中的导磁涂层为一体结构。

根据本实用新型，所述覆盖区域2’的面积的选择与上文描述一致，在此不再赘述。

根据本实用新型，所述覆盖区域2’和覆盖区域3’中的导磁涂层的孔隙率与上文描述一致，在此不再赘述。

根据本实用新型的第二方面，本实用新型提供一种煮食设备，包括电磁加热锅，所述电磁加热锅为本实用新型提供的上述电磁加热锅或者本实用新型的上述制备方法制得的电磁加热锅。

根据本实用新型，优选情况下，所述煮食设备为电炖锅、电饭煲、电压力锅、煎锅和炒锅中一种或多种。

以下将通过实施例对本实用新型进行详细描述。

采用激光粒度分析仪(购自厦门科王电子有限公司，型号为KW510)测定粉末的平均粒径。

实施例1

(1)将铝锅基体进行预处理，其中预处理的方法包括：a)采用60-80目的棕钢砂，在0.6MPa的喷气气流压力下对铝锅基体的外表面进行喷砂处理使其表面粗糙度为6μm，然后用高压气流将其表面残留的细微粉末颗粒吹干净；b)用20重量％的NaOH水溶液在80℃下碱洗2分钟；c)用10重量％的硝酸溶液中和2分钟；d)用去离子水清洗后，300℃下烘干10分钟；

(2)选用粒径为40μm的镍粉对步骤(1)得到的铝锅基体的外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力3MPa；气体加热温度900℃；喷射距离为40mm；粉末输送速度5kg/h，如图1所示，从覆盖区域4开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的喷枪移动速率为0.2m/s，当喷枪移动至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界时，喷枪的移动速率开始逐渐下降，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，喷枪的移动速率开始逐渐上升，其中，在形成覆盖区域3时喷枪的最小移动速率为0.1m/s，在形成覆盖区域2时喷枪的最大移动速率为0.3m/s。

如图3所示，覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占65％；覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度D₁为0.4mm，覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂为0.4mm，以覆盖区域2的外周为起始，覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，覆盖区域2中导磁涂层最薄的厚度为0.3mm；覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加，覆盖区域3中导磁涂层最厚的厚度为0.5mm；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，覆盖区域4中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域4中导磁涂层的最薄的厚度为0.2mm。

实施例2

(1)将铝锅基体进行预处理，其中预处理的方法包括：a)采用60-80目的棕钢砂，在0.6MPa的喷气气流压力下对铝锅基体的外表面进行喷砂处理使其表面粗糙度为7μm，然后用高压气流将其表面残留的细微粉末颗粒吹干净；b)用25重量％的NaOH水溶液在85℃下碱洗2分钟；c)用10重量％的硝酸溶液中和2分钟；d)用去离子水清洗后，300℃下烘干10分钟；

(2)选用粒径为20μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度700℃；喷射距离为35mm；粉末输送速度6kg/h，如图1所示，从覆盖区域4开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的喷枪移动速率为0.08m/s，当喷枪移动至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界时，喷枪的移动速率开始逐渐下降，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，喷枪的移动速率开始逐渐上升，其中，在形成覆盖区域3时喷枪的最小移动速率为0.05m/s，在形成覆盖区域2时喷枪的最大移动速率为0.13m/s。

如图3所示，覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占80％；覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度D₁为0.3mm，覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂为0.3mm，以覆盖区域2的外周为起始，覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，覆盖区域2中导磁涂层最薄的厚度为0.1mm；覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加，覆盖区域3中导磁涂层最厚的厚度为0.4mm；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，覆盖区域4中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域4中导磁涂层的最薄的厚度为0.1mm。

实施例3

(1)将铝锅基体进行预处理，其中预处理的方法包括：a)采用60-80目的棕钢砂，在0.6MPa的喷气气流压力下对铝锅基体的外表面进行喷砂处理使其表面粗糙度为5μm，然后用高压气流将其表面残留的细微粉末颗粒吹干净；b)用35重量％的NaOH溶液在60℃下碱洗2分钟；c)用10重量％的硝酸溶液中和2分钟；d)用去离子水清洗后，300℃下烘干10分钟；

(2)选用粒径为35μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度800℃；喷射距离为20mm；粉末输送速度10kg/h，如图1所示，从覆盖区域4开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的喷枪移动速率为0.1m/s，当喷枪移动至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界时，喷枪的移动速率开始逐渐下降，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，喷枪的移动速率开始逐渐上升，其中，在形成覆盖区域3时喷枪的最小移动速率为0.07m/s，在形成覆盖区域2时喷枪的最大移动速率为0.18m/s。

如图3所示，覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占70％；覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度D₁为0.5mm，覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂为0.5mm，以覆盖区域2的外周为起始，覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，覆盖区域2中导磁涂层最薄的厚度为0.4mm；覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加，覆盖区域3中导磁涂层最厚的厚度为0.6mm；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，覆盖区域4中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域4中导磁涂层的最薄的厚度为0.3mm。

实施例4

(1)将铝锅基体进行预处理，其中预处理的方法包括：a)采用60-80目的棕钢砂，在0.8MPa的喷气气流压力下对铝锅基体的外表面进行喷砂处理使其表面粗糙度为6μm，然后用高压气流将其表面残留的细微粉末颗粒吹干净；b)用20重量％的NaOH溶液在50℃下碱洗2分钟；c)用10重量％的盐酸溶液中和2分钟；d)用去离子水清洗后，300℃下烘干10分钟；

(2)选用粒径为40μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度700℃；喷射距离为40mm；喷枪移动速率为0.05m/s；如图1所示，从覆盖区域4开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时，粉末输送速度为7kg/h，当喷枪移动至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界时，粉末输送速度开始逐渐下降，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，粉末输送速度开始逐渐上升，其中，在形成覆盖区域3时最大的粉末输送速度为9kg/h，在形成覆盖区域2时最小的粉末速度为5kg/h。

如图3所示，覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占65％；覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度D₁为0.2mm，覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂为0.2mm，以覆盖区域2的外周为起始，覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，覆盖区域2中导磁涂层最薄的厚度为0.1mm；覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加，覆盖区域3中导磁涂层最厚的厚度为0.4mm；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，覆盖区域4中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域4中导磁涂层的最薄的厚度为0.1mm。

实施例5

(1)将铝锅基体进行预处理，其中预处理的方法包括：a)采用60-80目的棕钢砂，在0.6MPa的喷气气流压力下对铝锅基体的外表面进行喷砂处理使其表面粗糙度为5μm，然后用高压气流将其表面残留的细微粉末颗粒吹干净；b)用20重量％的NaOH溶液在50℃下碱洗2分钟；c)用10重量％的硝酸溶液中和2分钟；d)用去离子水清洗后，300℃下烘干10分钟；

(2)选用粒径为25μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的底部外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度850℃；喷射距离为30mm；喷枪移动速率为0.06m/s；如图1所示，从覆盖区域4开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时，粉末输送速度为8kg/h，当喷枪移动至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界时，粉末输送速度开始逐渐下降，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，粉末输送速度开始逐渐上升，其中，在形成覆盖区域3时最大的粉末输送速度为10kg/h，在形成覆盖区域2时最小的粉末速度为5kg/h。

如图3所示，覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占70％；覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度D₁为0.5mm，覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂为0.5mm，以覆盖区域2的外周为起始，覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，覆盖区域2中导磁涂层最薄的厚度为0.4mm；覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加，覆盖区域3中导磁涂层最厚的厚度为0.6mm；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，覆盖区域4中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域4中导磁涂层的最薄的厚度为0.4mm。

实施例6

(1)将铝锅基体进行预处理，其中预处理的方法包括：a)采用60-80目的棕钢砂，在0.6MPa的喷气气流压力下对铝锅基体的外表面进行喷砂处理使其表面粗糙度为5μm，然后用高压气流将其表面残留的细微粉末颗粒吹干净；b)用35重量％的NaOH溶液在70℃下碱洗2分钟；c)用10重量％的硝酸溶液中和2分钟；d)用去离子水清洗后，300℃下烘干12分钟；

(2)选用粒径为30μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度900℃；喷射距离为35mm；喷枪移动速率为0.07m/s；如图1所示，从覆盖区域4开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域4时的粉末输送速度为9kg/h，当喷枪移动至与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界时，粉末输送速度开始逐渐下降，当喷枪移动至覆盖区域2中导磁涂层的外周时，粉末输送速度开始逐渐上升，其中，在形成覆盖区域3时最大的粉末输送速度为12kg/h，在形成覆盖区域2时最小的粉末速度为6kg/h。

如图3所示，覆盖区域4形成在锅体1的侧壁的外表面上，覆盖区域2形成在锅体1的底部的外表面上，以锅体1的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2的面积占80％；覆盖区域3中的导磁涂层的内周的厚度D₁为0.3mm，覆盖区域3中导磁涂层的外周的厚度为D₂为0.3mm，以覆盖区域2的外周为起始，覆盖区域2中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，覆盖区域2中导磁涂层最薄的厚度为0.1mm；覆盖区域3中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加，覆盖区域3中导磁涂层最厚的厚度为0.4mm；以与覆盖区域3邻接的覆盖区域4的边界为起始，覆盖区域4中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域4中导磁涂层的最薄的厚度为0.1mm。

实施例7

采用与实施例1相同的方法对铝锅基体进行预处理，不同的是，步骤(2)中，选用粒径为40μm的镍粉对步骤(1)得到的铝锅基体的底部外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度900℃；喷射距离为40mm；粉末输送速度6kg/h，如图2所示，从覆盖区域3’开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的喷枪移动速率为0.06m/s，当喷枪移动至覆盖区域2’中的导磁涂层的外周时，喷枪移动速率开始连续减小，在形成覆盖区域2’时喷枪的最小移动速率为0.03m/s。

如图4所示，覆盖区域2’和覆盖区域3’形成在锅体1’的底部的外表面上，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占35％，覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.3mm，以覆盖区域2’的外周为起始，覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域3’中导磁涂层最薄的厚度为0.2mm；覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加，覆盖区域2’中导磁涂层最厚的厚度为0.4mm。

实施例8

采用与实施例2相同的方法对铝锅基体进行预处理，不同的是，步骤(2)中，选用粒径为20μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的底部外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度700℃；喷射距离为35mm；粉末输送速度7kg/h，如图2所示，从覆盖区域3’开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的喷枪移动速率为0.07m/s，当喷枪移动至覆盖区域2’中的导磁涂层的外周时，喷枪移动速率开始连续减小，在形成覆盖区域2’时喷枪的最小移动速率为0.05m/s。

如图4所示，覆盖区域2’和覆盖区域3’形成在锅体1’的底部的外表面上，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占40％，覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.4mm，以覆盖区域2’的外周为起始，覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域3’中导磁涂层最薄的厚度为0.3mm；覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加，覆盖区域2’中导磁涂层最厚的厚度为0.5mm。

实施例9

采用与实施例3相同的方法对铝锅基体进行预处理，不同的是，步骤(2)中，选用粒径为35μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的底部外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度800℃；喷射距离为20mm；粉末输送速度10kg/h，如图2所示，从覆盖区域3’开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时的喷枪移动速率为0.08m/s，当喷枪移动至覆盖区域2’中的导磁涂层的外周时，喷枪移动速率开始连续减小，在形成覆盖区域2’时喷枪的最小移动速率为0.06m/s。

如图4所示，覆盖区域2’和覆盖区域3’形成在锅体1’的底部的外表面上，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占50％，覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.3mm，以覆盖区域2’的外周为起始，覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域3’中导磁涂层最薄的厚度为0.2mm；覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加，覆盖区域2’中导磁涂层最厚的厚度为0.4mm。

实施例10

采用与实施例4相同的方法对铝锅基体进行预处理，不同的是，步骤(2)中，选用粒径为40μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的底部外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度700℃；喷射距离为40mm；喷枪移动速率为0.05m/s；如图2所示，从覆盖区域3’开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时，粉末输送速度为7kg/h，当喷枪移动至覆盖区域2’中的导磁涂层的外周时，粉末输送速度开始逐渐上升，在形成覆盖区域2’时最大的粉末输送速度为9kg/h。

如图4所示，覆盖区域2’和覆盖区域3’形成在锅体1’的底部的外表面上，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占30％，覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.4mm，以覆盖区域2’的外周为起始，覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域3’中导磁涂层最薄的厚度为0.3mm；覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加，覆盖区域2’中导磁涂层最厚的厚度为0.5mm。

实施例11

采用与实施例5相同的方法对铝锅基体进行预处理，不同的是，步骤(2)中，选用粒径为25μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的底部外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度750℃；喷射距离为40mm；喷枪移动速率为0.05m/s；如图2所示，从覆盖区域3’开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时，粉末输送速度为6kg/h，当喷枪移动至覆盖区域2’中的导磁涂层的外周时，粉末输送速度开始逐渐上升，在形成覆盖区域2’时最大的粉末输送速度为8kg/h。

如图4所示，覆盖区域2’和覆盖区域3’形成在锅体1’的底部的外表面上，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占45％，覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.3mm，以覆盖区域2’的外周为起始，覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域3’中导磁涂层最薄的厚度为0.2mm；覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加，覆盖区域2’中导磁涂层最厚的厚度为0.4mm。

实施例12

采用与实施例6相同的方法对铝锅基体进行预处理，不同的是，步骤(2)中，选用粒径为30μm的铁粉对步骤(1)得到的铝锅基体的底部外表面的部分区域进行冷喷涂处理，冷喷涂的条件包括：工作气体为空气，喷射压力2.5MPa；气体加热温度850℃；喷射距离为40mm；喷枪移动速率为0.06m/s；如图2所示，从覆盖区域3’开始进行喷涂，形成附着有导磁涂层的覆盖区域3’时，粉末输送速度为8kg/h，当喷枪移动至覆盖区域2’中的导磁涂层的外周时，粉末输送速度开始逐渐上升，在形成覆盖区域2’时最大的粉末输送速度为12kg/h。

如图4所示，覆盖区域2’和覆盖区域3’形成在锅体1’的底部的外表面上，以锅体1’的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域2’的面积占48％，覆盖区域3’中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.4mm，以覆盖区域2’的外周为起始，覆盖区域3’的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，覆盖区域3’中导磁涂层最薄的厚度为0.2mm；覆盖区域2’的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加，覆盖区域2’中导磁涂层最厚的厚度为0.5mm。

对比例1

采用实施例1的方法进行电磁加热锅的制备，所不同的是，形成附着有导磁涂层的覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4时的喷枪移动速率均为0.2m/s。

对比例2

采用实施例4的方法进行电磁加热锅的制备，所不同的是，形成附着有导磁涂层的覆盖区域2、覆盖区域3和覆盖区域4时，粉末输送速度均为7kg/h。

实施例13

采用实施例1的方法进行电磁加热锅的制备，所不同的是，形成覆盖区域2时的喷枪移动速率为1m/s。

实施例14

采用实施例4的方法进行电磁加热锅的制备，所不同的是，形成覆盖区域2时最小的粉末输送速度为3kg/h。

测试例

1、涂层表面硬度：根据GB/T 9790-1988采用维氏硬度计(购自上海长方光学仪器有限公司，型号为HX-1000)测定冷喷涂层的维氏硬度。载荷为100gf，加载时间为15s，结果见表1。

2、涂层孔隙率：根据中华人民共和国机械行业标准JB/T7509-94测定涂层孔隙率。结果见表1。

3、电磁加热性能：采用安捷伦公司生产的功率仪测试锅具加热的最大功率值(W)。将内锅置于电磁炉上加热，输入功率为1500W。

4、沸腾时间的测定：将基体厚度为3mm的上述实施例1-14和对比例1-2制备的铝合金冷喷导磁锅内放置3L的水，烧开至100℃，并保水持沸腾3min后，立即停止加热，随后测量锅内沸水从沸腾至无任何沸腾现象的时间，记作沸腾时间。

表1

通过表1的结果可以看出，采用本实用新型的特定喷涂方式使得本实用新型实用新型提供的电磁加热锅用于食物烹饪时，加强了锅内食物的剧烈沸腾效果，使锅内的食物烹饪更加均匀。

以上详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于此。在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型，包括各个技术特征以任何其它的合适方式进行组合，这些简单变型和组合同样应当视为本实用新型所公开的内容，均属于本实用新型的保护范围。

Claims (18)

1.一种电磁加热锅，该电磁加热锅包括：

锅体(1)，锅体呈顶部敞开且底部封闭的中空筒状，所述锅体(1)的侧壁与所述锅体(1)的底部的连接处为圆弧形；

锅体(1)的外表面包括附着有导磁涂层的覆盖区域(2)、覆盖区域(3)、覆盖区域(4)，覆盖区域(3)用于连接所述覆盖区域(2)和覆盖区域(4)，所述覆盖区域(2)中的导磁涂层以锅体(1)的底部中心向外延伸，

其特征在于，所述覆盖区域(3)中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域(2)中的导磁涂层的外周相接，并向外延伸至与覆盖区域(3)邻接的覆盖区域(4)的边界，所述覆盖区域(3)中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域(2)中的导磁涂层的外周的厚度相同，所述覆盖区域(3)中的导磁涂层的外周的厚度与和覆盖区域(3)邻接的覆盖区域(4)的边界的厚度相同，

以覆盖区域(2)的外周为起始，所述覆盖区域(2)中的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑减小，所述覆盖区域(3)中的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑增加；以与覆盖区域(3)邻接的覆盖区域(4)的边界为起始，所述覆盖区域(4)的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小。

2.一种电磁加热锅，该电磁加热锅包括：

锅体(1’)，锅体呈顶部敞开且底部封闭的中空筒状，

锅体(1’)底部的外表面包括附着导磁涂层的覆盖区域(2’)和附着导磁涂层的覆盖区域(3’)，所述覆盖区域(2’)中的导磁涂层以锅体(1’)的底部中心向外延伸，

其特征在于，所述覆盖区域(3’)中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域(2’)中的导磁涂层的外周相接，所述覆盖区域(3’)中的导磁涂层的内周的厚度与覆盖区域(2’)中的导磁涂层的外周的厚度相同，以覆盖区域(2’)的外周为起始，所述覆盖区域(3’)的导磁涂层的厚度为沿向外的方向呈平滑减小，所述覆盖区域(2’)的导磁涂层的厚度为沿向内的方向呈平滑增加。

3.根据权利要求1所述电磁加热锅，其中，所述覆盖区域(4)形成在锅体(1)的侧壁的外表面上，所述覆盖区域(2)形成在锅体(1)的底部的外表面上，所述覆盖区域(3)中的导磁涂层的内周与所述覆盖区域(2)中的导磁涂层的外周相接，并沿锅体(1)的侧壁与锅体(1)的底部的连接处向上延伸至与覆盖区域(3)邻接的所述覆盖区域(4)的边界。

4.根据权利要求1所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域(3)中导磁涂层的内周的厚度为D₁，所述覆盖区域(3)中导磁涂层的外周的厚度为D₂，D₁/D₂＝1-3。

5.根据权利要求4所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域(3)中导磁涂层的内周的厚度D₁为0.1-1mm。

6.根据权利要求2所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域(3’)中的导磁涂层的内周的厚度D₃为0.1-1mm。

7.根据权利要求1所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域(2)、覆盖区域(3)、覆盖区域(4)中的导磁涂层为一体结构。

8.根据权利要求2所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域(2’)和覆盖区域(3’)中的导磁涂层为一体结构。

9.根据权利要求1所述的电磁加热锅，其中，以锅体(1)的外表面的面积为基准，所述覆盖区域(2)的面积占20-60％。

10.根据权利要求9所述的电磁加热锅，其中，以锅体(1)的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域(2)的面积占50-120％。

11.根据权利要求2所述的电磁加热锅，其中，以锅体(1’)的底部的外表面的面积为基准，所述覆盖区域(2’)的面积占20-60％。

12.根据权利要求1-11中任意一项所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域中的导磁涂层的孔隙率各自为小于1％。

13.根据权利要求12所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域中的导磁涂层的孔隙率各自为0.08-0.5％。

14.根据权利要求1所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域中的导磁涂层各自含有磁性金属层。

15.根据权利要求14所述的电磁加热锅，其中，所述覆盖区域中的导磁涂层各自含有选自Fe、Fe合金、Ni、Ni合金、Co和Co合金中的一种或两种以上。

16.根据权利要求1或2所述的电磁加热锅，其中，所述锅体由选自不锈钢、铝、铝合金和钛合金中一种或多种材料形成。

17.一种煮食设备，该煮食设备包括电磁加热锅，其特征在于，所述电磁加热锅为权利要求1-16中任意一项所述的电磁加热锅。

18.根据权利要求17所述的煮食设备，其中，所述煮食设备为电炖锅、电饭煲、电压力锅、煎锅和炒锅中一种或多种。