CN207765449U - 显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种显示基板及显示装置，属于显示技术领域。本实用新型的显示基板，其划分为显示区和环绕显示区的封装区；所述显示基板包括基底，设置在所述基底上的层间绝缘层；所述层间绝缘层在与所述封装区对应的位置设置有凹槽；在所述凹槽内设置有密封胶；其中，所述凹槽的侧壁能够使得照射至其上的光反射至所述密封胶。此时，通过激光照射密封胶时，可以通过凹槽的侧壁的将激光反射能够照射至密封胶上，以使密封胶的侧面烧结，避免出现无效密封区，从而使得显示基板和盖板通过密封胶完美的密封。

Description

显示基板及显示装置

技术领域

本实用新型属于显示技术领域，具体涉及一种显示基板及显示装置。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)内的发光材料和功能材料对水和气比较敏感，因此，对氧的密封要求以及对水的阻隔要求均较高，为防止水汽和氧气对OLED器件的影响，目前中小尺寸的OLED显示器件多采用激光封装(Laser sealing)工艺和Frit材料(玻璃材料)进行封装，即利用激光束移动加热玻璃封装胶熔化，熔化的玻璃封装胶在上下两玻璃基板间形成密闭的封装连接，从而提供气密式密封，然而，封装工艺中利用激光束移动加热玻璃封装胶熔化的过程中，激光束并不能够照射至玻璃封装胶的侧边，导致玻璃封装胶的侧面呈现毛刺状，形成了无效封装区，导致封装区域的信赖性差，从而影响器件的寿命。

综上，提供一款封装效果好的OLED面板是亟需要解决的技术问题。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种避免出现无效密封区的显示基板及显示装置。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种显示基板，其划分为显示区和环绕所述显示区的封装区；所述显示基板包括基底，设置在所述基底上的层间绝缘层；所述层间绝缘层在与所述封装区对应的位置设置有凹槽；在所述凹槽内设置有密封胶；其中，所述凹槽的侧壁能够使得照射至其上的光反射至所述密封胶。

优选的是，所述凹槽底面的宽度大于所述密封胶与所述层间绝缘层接触的表面的宽度。

优选的是，所述凹槽的侧壁与其底面的夹角为钝角。

优选的是，所述层间绝缘层包括像素限定层；其中，所述像素限定层在与所述显示区对应的位置设置有容纳部；所述容纳部中设置有有机电致发光器件的发光材料。

优选的是，所述密封胶包括玻璃料。

优选的是，所述密封胶包括UV胶。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种显示装置，其包括上述的显示基板。

本实用新型具有如下有益效果：

由于在本实用新型的显示基板的层间绝缘层中形成有凹槽，而密封胶设置在凹槽中，且当有光线照射至在凹槽的侧壁时，光线经过凹槽的侧壁的反射能够照射至密封胶上，也即在通过发射激光以使密封将显示基板和盖板进行密封，此时，通过激光照射密封胶时，可以通过凹槽的侧壁的将激光反射能够照射至密封胶上，以使密封胶的侧面烧结，避免出现无效密封区，从而使得显示基板和盖板通过密封胶完美的密封。

附图说明

图1为本实用新型的实施例1的显示基板的结构示意图；

图2为本实用新型的实施例1的显示基板的凹槽将光反射至密封胶的示意图；

图3为本实用新型的实施例2的第一种情况的显示基板的制备方法的流程图；

图4为本实用新型的实施例2的第二种情况的显示基板的制备方法的流程图。

其中附图标记为：10、基底；20、盖板；1、层间绝缘层；11、凹槽；2、密封胶；3、像素驱动电路的各层结构；4、薄膜晶体管的各层结构；Q1、显示区；Q2、封装区。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

实施例1：

结合图1和2所示，本实施例提供一种显示基板，其划分为显示区Q1和环绕显示区Q1的封装区Q2；该显示基板包括基底10，设置在基底10上的层间绝缘层1；该层间绝缘层1在与所述封装区Q2对应的位置设置有凹槽11；在凹槽11内设置有密封胶2；其中，该凹槽11的侧壁能够使得照射至其上的光反射至所述密封胶2，也即该凹槽11的侧壁是相对基底10是倾斜的。

由于在本实施例显示基板的层间绝缘层1中形成有凹槽11，而密封胶2设置在凹槽11中，且当有光线照射至在凹槽11的侧壁时，光线经过凹槽11的侧壁的反射能够照射至密封胶2上，也即在通过发射激光以使密封胶2将显示基板和盖板20进行密封，此时，通过激光照射密封胶2时，可以通过凹槽11的侧壁的将激光反射能够照射至密封胶2上，以使密封胶2的侧面烧结，避免出现无效密封区，从而使得显示基板和盖板20通过密封胶2完美的密封。

其中，在本实施例中凹槽11底面的宽度大于密封胶2与层间绝缘层1接触的表面的宽度。也即，凹槽11的宽度是大于密封胶2的宽度的，这样以来，可以将可能将照射至在凹槽11的侧壁光线，经过凹槽11的侧壁的反射能够尽可能多的照射至密封胶2上，以使密封胶2侧面更好的烧结。

其中，在本实施例提供一种能够通过凹槽11自身结构使得照射至在凹槽11的侧壁光线反射至密封胶2上，即凹槽11的侧壁与其底面的夹角为钝角，优选的，该钝角的范围在115°至165°。当然，也可以根据方案具体设置。

其中，本实施例中的显示基板可以是OLED基板，也可以是液晶面板中所用的阵列基板。以下结合这两种基板对本实施例的显示基板进行具体说明。

第一种情况，本实施例中的显示基板为OLED基板，其中，层间绝缘层1为像素限定层；在基底10上设置有像素驱动电路的各层结构3，在像素驱动电路所在层的上方设置有有机电致发光器件的阳极的图形，且有机电致发光器件的阳极的和像素驱动电路中的驱动管的漏极连接；像素限定层设置在有机电致发光器件的阳极上，在该像素限定层与显示区Q1对应的位置设置有容纳部，且在该容纳部所在位置裸露出有机电致发光器件的阳极；在该像素限定层与封装区Q2对应的位置设置有凹槽11，在凹槽11内设置有密封胶2，且该凹槽11的侧壁能够使得照射至其上的光反射至密封胶2，这样以来，在发射激光时激光照射至凹槽11的侧壁将激光反射至密封胶2的侧面，以使密封胶2的侧面烧结，避免出现无效密封区，从而使得显示基板和盖板20通过密封胶2完美的密封。

当然，在该OLED基板的像素限定层的容纳部中设置有有机电致发光器件的发光材料，在发光材料所在层上方设置有有机电致发光器件的阴极。

其中，上述的密封胶2为玻璃料，当然，也可以采用其他材料进行密封。

第二种情况，本实施例中的显示基板为液晶面板中所用的阵列基板，4为薄膜晶体管的各层结构。该阵列基板的密封胶2具体为UV胶，层间绝缘层1为阵列基板中的平坦化层，凹槽11位于平坦化层的封装区Q2中，且凹槽11的侧壁能够使得照射至其上的光反射至UV胶，从而使得在通过光照对UV胶固化时，以使UV胶全方位固化。

实施例2：

本实施例提供一种显示基板的制备方法，该方法能够制备实施例1中的显示基板。该显示基板划分为显示区Q1和环绕显示区Q1的封装区Q2；该方法包括：在基底10上形成层间绝缘层1；在层间绝缘层1与封装区Q2对应的位置形成凹槽11；在凹槽11中形成密封胶2；其中，凹槽11的侧壁能够使得照射至其上的光反射至密封胶2。

由于在本实施例显示基板的制备方法中所形成的层间绝缘层1中形成有凹槽11，而密封胶2形成在凹槽11中，且当有光线照射至在凹槽11的侧壁时，光线经过凹槽11的侧壁的反射能够照射至密封胶2上，也即在通过发射激光以使密封胶2将显示基板和盖板20进行密封，此时，通过激光照射密封胶2时，可以通过凹槽11的侧壁的将激光反射能够照射至密封胶2上，以使密封胶2的侧面烧结，避免出现无效密封区，从而使得显示基板和盖板20通过密封胶2完美的密封。

其中，本实施例中的显示基板可以是OLED基板，也可以是液晶面板中所用的阵列基板。以下结合这两种基板的制备方法对本实施例的显示基板的制备方法进行具体说明。

第一种情况，本实施例中的显示基板为OLED基板，其中，层间绝缘层1为像素限定层，如图3所示，该制备方法具体包括如下步骤：

步骤一、在基底10上，通过构图工艺形成包括像素驱动电路的各层结构3。以像素驱动电路为2T1C的像素驱动电路为例，也即像素驱动电路包括开关管、驱动管、存储电容。

步骤二、在像素驱动电路所在层的上方，通过构图工艺形成包括有机电致发光器件的阳极的图形。其中，有机电致发光器件的阳极的和像素驱动电路中的驱动管的漏极连接。

步骤三、在有机电致发光器件的阳极所在层上方，形成像素限定层，并通过构图工艺，在该像素限定层与显示区Q1对应的位置形成包括容纳部图形，以及与封装区Q2对应的位置形成包括凹槽11图形；其中，在该容纳部所在位置裸露出有机电致发光器件的阳极。

优选的，上述的容纳部和凹槽11采用一次构图工艺形成，这样一来工艺步骤简单，易于实现。

步骤四、在像素限定层的容纳部中形成有机电致发光器件的发光材料。

步骤五、在像素限定层的发光材料所在层上方，形成有机电致发光器件的阴极。

步骤六、在完成上述步骤的基底10上，在像素限定层的凹槽11内设置有密封胶2，该密封胶2为玻璃料，且该凹槽11的侧壁能够使得照射至其上的光反射至玻璃料，这样以来，在发射激光时激光照射至凹槽11的侧壁将激光反射至玻璃料的侧面，以使玻璃料的侧面烧结，避免出现无效密封区，从而使得显示基板和盖板20通过玻璃料完美的密封。

至此完成OLED基板的制备。

第二种情况，本实施例中的显示基板为液晶面板中所用的阵列基板，该阵列基板的密封胶2具体为UV胶，层间绝缘层1为阵列基板中的平坦化层，如图4所示，该制备方法具体包括如下步骤：

步骤一、在基底10上，通过构图工艺形成包括薄膜晶体管的各层结构4。

步骤二、在形成有薄膜晶体管的基底10上形成平坦化层，并在平坦化层与封装区Q2对应的位置形成凹槽11。

步骤三、在凹槽11中形成UV胶，且凹槽11的侧壁能够使得照射至其上的光反射至UV胶，从而使得在通过光照对UV胶固化时，以使UV胶全方位固化。

至此完成液晶面板中所用的阵列基板的制备。

实施例2：

本实施例提供了一种显示装置，其包括实施例1中的显示基板。因此，本实施例的显示装置的密封效果好。

其中，显示装置可以为液晶显示装置或者电致发光显示装置，例如液晶面板、电子纸、OLED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1.一种显示基板，其划分为显示区和环绕所述显示区的封装区；所述显示基板包括基底，设置在所述基底上的层间绝缘层；其特征在于，所述层间绝缘层在与所述封装区对应的位置设置有凹槽；在所述凹槽内设置有密封胶；其中，所述凹槽的侧壁能够使得照射至其上的光反射至所述密封胶。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽底面的宽度大于所述密封胶与所述层间绝缘层接触的表面的宽度。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽的侧壁与其底面的夹角为钝角。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述层间绝缘层包括像素限定层；其中，所述像素限定层在与所述显示区对应的位置设置有容纳部；所述容纳部中设置有有机电致发光器件的发光材料。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述密封胶包括玻璃料。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述密封胶包括UV胶。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-6中任意一项所述的显示基板。