CN207699931U - 一种记忆革 - Google Patents

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吴平
王志明
张凤
陈利安
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Abstract

本实用新型公开了一种记忆革,其特征是,包括基布层,所述基布层的一侧固定贴合有湿法贝斯层;所述湿法贝斯层上设有干法贴面层;所述干法贴面层固定贴合于湿法贝斯层背向基布层的一侧的表面;所述干法贴面层上设置有表面花纹层,所述表面花纹层固定贴合于干法贴面层背向湿法贝斯层的一侧的表面;所述湿法贝斯层的原料采用含金属丝成分的纺织纤维布。本实用新型所达到的有益效果:本实用新型涉及的记忆革成品因金属丝底布特性,皮革表面花纹饱满立体感强烈,花纹定型效果好,保持永久。

Description

一种记忆革
技术领域
本实用新型涉及一种合成革,具体涉及一种记忆革。
背景技术
目前,合成革产品逐渐成为未来流行的趋势,合成革已广泛用于生产箱包、服装、鞋类等产品。现在人们对皮革的美观程度越来越关注,为了使合成革能够满足人们对革面美感的需求,会对皮革进行压花、喷涂料等处理,使合成革的表面花型饱满、高亮、透感。现有技术中,合成革的压花、喷涂料处理中存在很多技术困难,加工出来的成品表面易出现亮度低、立体感差等缺陷,不能满足人们对高品质的需求。
实用新型内容
为解决现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种记忆革,表面花纹饱满立体感强烈,花纹定型效果好,能够保持永久。
为了实现上述目标,本实用新型采用如下的技术方案:
一种记忆革,其特征是,包括基布层,所述基布层的一侧固定贴合有湿法贝斯层;所述湿法贝斯层上设有干法贴面层;所述干法贴面层固定贴合于湿法贝斯层背向基布层的一侧的表面;所述干法贴面层上设置有表面花纹层,所述表面花纹层固定贴合于干法贴面层背向湿法贝斯层的一侧的表面;所述湿法贝斯层的原料采用含金属丝成分的纺织纤维布。
前述的一种记忆革,其特征是,所述表面花纹层的厚度是0.05-0.10mm。
前述的一种记忆革,其特征是,所述干法贴面层的厚度是0.10-0.15mm。
前述的一种记忆革,其特征是,所述湿法贝斯层的厚度是0.25-0.35mm。
前述的一种记忆革,其特征是,所述基布层的厚度是0.35-0.45mm。
前述的一种记忆革,其特征是,所述表面花纹层的厚度是0.05mm,所述干法贴面层的厚度是0.10mm,所述湿法贝斯层的厚度是0.35mm,所述基布层的厚度是0.35mm。
本实用新型所达到的有益效果:本实用新型涉及的记忆革成品因金属丝底布特性,皮革表面花纹饱满立体感强烈,花纹定型效果好,保持永久。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本实用新型的技术方案,而不能以此来限制本实用新型的保护范围。
本实用新型涉及的一种记忆革,如图1所示,包括基布层4,基布层4的一侧固定贴合有湿法贝斯层3。
湿法贝斯层3上设有干法贴面层2,干法贴面层2固定贴合于湿法贝斯层3背向基布层4的一侧的表面。
干法贴面层2上设置有表面花纹层1,表面花纹层1固定贴合于干法贴面层2背向湿法贝斯层3的一侧的表面。
湿法贝斯层的原料采用含金属丝成分的纺织纤维布。记忆革成品因金属丝底布特性,皮革表面花纹饱满立体感强烈,花纹定型效果好,保持永久。
进一步的,表面花纹层的厚度是0.05mm。干法贴面层的厚度是0.10mm。湿法贝斯层的厚度是0.35mm。基布层的厚度是0.35mm。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和变形,这些改进和变形也应视为本实用新型的保护范围。

Claims (6)

1.一种记忆革,其特征是,包括基布层,所述基布层的一侧固定贴合有湿法贝斯层;所述湿法贝斯层上设有干法贴面层;所述干法贴面层固定贴合于湿法贝斯层背向基布层的一侧的表面;所述干法贴面层上设置有表面花纹层,所述表面花纹层固定贴合于干法贴面层背向湿法贝斯层的一侧的表面;所述湿法贝斯层的原料采用含金属丝成分的纺织纤维布。
2.根据权利要求1所述的一种记忆革,其特征是,所述表面花纹层的厚度是0.05-0.10mm。
3.根据权利要求1所述的一种记忆革,其特征是,所述干法贴面层的厚度是0.10-0.15mm。
4.根据权利要求1所述的一种记忆革,其特征是,所述湿法贝斯层的厚度是0.25-0.35mm。
5.根据权利要求1所述的一种记忆革,其特征是,所述基布层的厚度是0.35-0.45mm。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的一种记忆革,其特征是,所述表面花纹层的厚度是0.05mm,所述干法贴面层的厚度是0.10mm,所述湿法贝斯层的厚度是0.35mm,所述基布层的厚度是0.35mm。
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