CN207596734U - 一种金色低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

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樊义平
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Abstract

本实用新型公开了一种金色低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基体,由玻璃基体向外依次包括:由玻璃基体向外依次包括:氧化不锈钢膜层、第一金属钛膜层、银膜层、第二金属钛膜层、氧化硅膜层。本实用新型各个膜层厚度经过反复实验得出,这样的厚度设置,既能够达到应有的效果,又能够节省膜层材料,降低成本。

Description

一种金色低辐射镀膜玻璃
技术领域
本实用新型涉及镀膜玻璃技术领域,具体而言,涉及一种金色低辐射镀膜玻璃。
背景技术
低辐射镀膜玻璃除了具备阻隔紫外线反射红外线从而起到隔热保温的效果外,丰富的外观颜色完美的色彩装饰效果也是其被广泛应用的一大原因。金色作为给人一种高贵尊雅视觉享受的颜色被市场青睐。然而,目前在建筑物上所应用的金色镀膜玻璃基本上都是金色阳光控制镀膜玻璃,金色低辐射镀膜玻璃的应用则是一片空白,原因主要是存在如下问题:
金色阳光控制镀膜玻璃因起步早工艺成熟,而金色低辐射镀膜玻璃还未有成熟工艺,个别企业制备金色低辐射镀膜玻璃采用金做为薄膜材质,虽然能实现纯正的金色颜色但制备成本极其昂贵市场无法接受,而采用传统的银做为薄膜材质又没有找到合适的工艺。因此,提供一种室外面及透过色均为纯正金色的低辐射镀膜玻璃具有非常重要的意义。
实用新型内容
本实用新型为了解决现有技术存在的金色低辐射镀膜玻璃工艺尚未成熟的技术问题,提供一种室外面及透过色均为纯正金色的低辐射镀膜玻璃。为达到上述目的,本实用新型所采用的技术方案如下:
一种金色低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基体,其特征在于:由玻璃基体向外依次包括:氧化不锈钢膜层、第一金属钛膜层、银膜层、第二金属钛膜层、氧化硅膜层。
进一步地,所述氧化不锈钢膜层的厚度为100-120nm。
进一步地,所述第一金属钛膜层的厚度为1-5nm。
进一步地,所述银膜层的厚度为20-25nm。
进一步地,所述第二金属钛膜层的厚度为1-5nm。
进一步地,所述氧化硅膜层的厚度为10-20nm。
本实用新型的有益效果如下:
本实用新型采用的氧化不锈钢膜层,由于折射率非常高,能很轻易的将干涉主波长调到金色光所属波段;采用两层金色钛膜能有效的起到保护银膜层不被氧化;采用的银膜厚度是一般其它颜色低辐射镀膜玻璃银膜的2倍,一方面可以提高反射从而增强金色效果,另一方面也降低了玻璃表面辐射率提高了节能效果;采用的氧化硅膜层即为颜色调节层同时也提升整个膜层的抗腐蚀性能,增加机械强度,提高镀膜玻璃的加工性能;
本实用新型的各个膜层厚度经过反复实验得出,这样的厚度设置,既能够达到应有的效果,又能够节省膜层材料,降低成本。
附图说明
图1为本实用新型玻璃结构示意图;
图中:1-玻璃基体,2-氧化不锈钢膜层,3-第一金属钛膜层,4-银膜层,5-第二金属钛膜层,6-氧化硅膜层。
具体实施方式
如图1所示,一种金色低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基体1,为6mm的浮法白玻,由玻璃基体1向外依次包括:氧化不锈钢膜层2、第一金属钛膜层3、银膜层4、第二金属钛膜层5、氧化硅膜层6。
实施例1:
本实施例各膜层沉积的厚度如下:
氧化不锈钢膜层2的厚度为100nm、第一金属钛膜层3的厚度为1nm、银膜层4的厚度为20nm、第二金属钛膜层5的厚度为1nm、氧化硅膜层6的厚度为10nm。
制备上述的一种金色低辐射镀膜玻璃,采用离线真空磁控溅射技术,包括以下步骤:
(1)对玻璃基体1进行清洗、干燥;
(2)预真空过渡;
(3)在玻璃基体1上镀厚度为100nm的氧化不锈钢膜层2,镀该膜层时,采用中频电源加旋转阴极在氩气800SCCM氧气1000SCCM氛围中溅射沉积,功率为240KW;
(4)在氧化不锈钢膜层2上镀厚度为1nm的第一金属钛膜层3,镀该膜层时,采用直流电源加平面阴极在氩气500SCCM氛围中溅射沉积,功率为1KW;
(5)在第一金属钛膜层3上镀厚度为20nm的银膜层4,镀该膜层时,采用直流电源在氩气300SCCM氛围中溅射沉积,功率为7KW;
(6)在银膜层4上镀厚度为1nm的第二金属钛膜层5,镀该膜层时,采用直流电源加平面阴极在氩气500SCCM氛围中溅射沉积,功率为0.8KW;
(7)在第二金属钛膜层5上镀厚度为10nm的氧化硅膜层6,镀该膜层时,采用中频电源加旋转阴极在氩气800SCCM氧气1000SCCM氛围中溅射沉积,功率为30KW;
(8)预真空过渡;
(9)成品检测。
镀膜完成后此玻璃可见光透过率为40%,室外面颜色值为a:5 b:40,透过颜色值a:3 b:29,表面辐射率为0.03实现了预期性能。
实施例2:
本实施例各膜层沉积的厚度如下:
氧化不锈钢膜层2的厚度为110nm、第一金属钛膜层3的厚度为3nm、银膜层4的厚度为23nm、第二金属钛膜层5的厚度为3nm、氧化硅膜层6的厚度为15nm。
制备上述的一种金色低辐射镀膜玻璃,采用离线真空磁控溅射技术,包括以下步骤:
(1)对玻璃基体1进行清洗、干燥;
(2)预真空过渡;
(3)在玻璃基体1上镀厚度为110nm的氧化不锈钢膜层2,镀该膜层时,采用中频电源加旋转阴极在氩气800SCCM氧气1000SCCM氛围中溅射沉积,功率为240KW;
(4)在氧化不锈钢膜层2上镀厚度为3nm的第一金属钛膜层3,镀该膜层时,采用直流电源加平面阴极在氩气500SCCM氛围中溅射沉积,功率为1KW;
(5)在第一金属钛膜层3上镀厚度为23nm的银膜层4,镀该膜层时,采用直流电源在氩气300SCCM氛围中溅射沉积,功率为7KW;
(6)在银膜层4上镀厚度为3nm的第二金属钛膜层5,镀该膜层时,采用直流电源加平面阴极在氩气500SCCM氛围中溅射沉积,功率为0.8KW;
(7)在第二金属钛膜层5上镀厚度为15nm的氧化硅膜层6,镀该膜层时,采用中频电源加旋转阴极在氩气800SCCM氧气1000SCCM氛围中溅射沉积,功率为30KW;
(8)预真空过渡;
(9)成品检测。
镀膜完成后此玻璃可见光透过率为40%,室外面颜色值为a:5 b:40,透过颜色值a:3 b:29,表面辐射率为0.03实现了预期性能。
实施例3:
本实施例各膜层沉积的厚度如下:
氧化不锈钢膜层2的厚度为120nm、第一金属钛膜层3的厚度为5nm、银膜层4的厚度为25nm、第二金属钛膜层5的厚度为5nm、氧化硅膜层6的厚度为20nm。
制备上所述的一种金色低辐射镀膜玻璃,采用离线真空磁控溅射技术,包括以下步骤:
(1)对玻璃基体1进行清洗、干燥;
(2)预真空过渡;
(3)在玻璃基体1上镀厚度为120nm的氧化不锈钢膜层2,镀该膜层时,采用中频电源加旋转阴极在氩气800SCCM氧气1000SCCM氛围中溅射沉积,功率为240KW;
(4)在氧化不锈钢膜层2上镀厚度为5nm的第一金属钛膜层3,镀该膜层时,采用直流电源加平面阴极在氩气500SCCM氛围中溅射沉积,功率为1KW;
(5)在第一金属钛膜层3上镀厚度为25nm的银膜层4,镀该膜层时,采用直流电源在氩气300SCCM氛围中溅射沉积,功率为7KW;
(6)在银膜层4上镀厚度为5nm的第二金属钛膜层5,镀该膜层时,采用直流电源加平面阴极在氩气500SCCM氛围中溅射沉积,功率为0.8KW;
(7)在第二金属钛膜层5上镀厚度为20nm的氧化硅膜层6,镀该膜层时,采用中频电源加旋转阴极在氩气800SCCM氧气1000SCCM氛围中溅射沉积,功率为30KW;
(8)预真空过渡;
(9)成品检测。
镀膜完成后此玻璃可见光透过率为40%,室外面颜色值为a:5 b:40,透过颜色值a:3 b:29,表面辐射率为0.03实现了预期性能。
本实用新型采用的氧化不锈钢膜层,由于折射率非常高,能很轻易的将干涉主波长调到金色光所属波段;采用两层金色钛膜能有效的起到保护银膜层不被氧化;采用的银膜厚度是一般其它颜色低辐射镀膜玻璃银膜的2倍,一方面可以提高反射从而增强金色效果,另一方面也降低了玻璃表面辐射率提高了节能效果;采用的氧化硅膜层即为颜色调节层同时也提升整个膜层的抗腐蚀性能,增加机械强度,提高镀膜玻璃的加工性能;
本实用新型的各个膜层厚度经过反复实验得出,这样的厚度设置,既能够达到应有的效果,又能够节省膜层材料,降低成本。
本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求所界定的保护范围为准。

Claims (6)

1.一种金色低辐射镀膜玻璃,包括玻璃基体,其特征在于:由玻璃基体向外依次包括:
氧化不锈钢膜层、第一金属钛膜层、银膜层、第二金属钛膜层、氧化硅膜层。
2.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述氧化不锈钢膜层的厚度为100-120nm。
3.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第一金属钛膜层的厚度为1-5nm。
4.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述银膜层的厚度为20-25nm。
5.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述第二金属钛膜层的厚度为1-5nm。
6.根据权利要求1所述的一种金色低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述氧化硅膜层的厚度为10-20nm。
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