CN207570763U - 一种可测量vlc装备抗杂光性能的检测装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,该装置包括:杂光光源模块、抗杂光性能分析模块、双轴联动运动控制模块、主半透半反镜、副半透半反镜、待测VLC装置夹具、衰减器及箱体;所述杂光光源模块包括杂光光源与杂光光源底座;所述杂光光源底座安装在箱体底部,用于放置杂光光源;所述双轴联动运动控制模块包括X轴步进电机、X轴丝杆导轨、X轴滑动平台、Y轴步进电机、Y轴丝杆导轨与Y轴滑动平台;所述主半透半反镜通过固定件固定在箱体的底部;所述副半透半反镜安装在X轴滑动平台上。本实用新型提供的装置结构合理、实用性强、灵活性好,节省工时,提高机械移动精度,提高检测精度,替代人力,大大降低了成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及可见光通信装备检测装置,尤其涉及一种可测量VLC(VisibleLight Communication可见光通信)装备抗杂光性能的检测装置。
背景技术
可见光通信是无线通信、光通信的一种,是利用肉眼看得见的“可视光”传递信息的新一代通信技术。
VLC装置抗杂光干扰性能表示LED可见光通信系统在正常工作时,抵抗外部可见光的干扰的能力。在实验室标准测试环境下,可以通过人为设置可见光光源充当杂讯光标准,用来测量可见光通信系统抗杂光干扰性能。
目前,仍未见有专门的实验室检验设备对VLC装置抗杂光性能进行评价,不利于VLC装置规范的发展,故VLC装置抗杂光性能检测装置的研制非常必要。
发明内容
为解决上述技术问题,本实用新型的目的是提供一种可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,该检测装置能够测量VLC装备抗杂光性能,提高机械移动精度,替代人力。
本实用新型的目的通过以下的技术方案来实现:
一种可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,包括:杂光光源模块、抗杂光性能分析模块(209)、双轴联动运动控制模块、主半透半反镜(208)、副半透半反镜(207)、待测VLC装置夹具、衰减器(210)及箱体;
所述杂光光源模块包括杂光光源(211)与杂光光源底座(212);所述杂光光源底座(212)安装在箱体底部,用于放置杂光光源;
所述双轴联动运动控制模块包括X轴步进电机(201)、X轴丝杆导轨(202)、X轴滑动平台(203)、Y轴步进电机(204)、Y轴丝杆导轨(205)与Y轴滑动平台(206);
所述主半透半反镜(208)通过固定件固定在箱体的底部;
所述副半透半反镜(207)安装在X轴滑动平台(203)上。
与现有技术相比,本实用新型的一个或多个实施例可以具有如下优点:
能够测量VLC装备抗杂光性能,检测装置结构合理、实用性强、灵活性好,有效提高机械移动精度,提高检测精度,替代人力。
附图说明
图1是可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置整体结构示意图;
图2是可测量VLC装备抗杂光性能的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合实施例及附图对本实用新型实施方式作进一步详细的描述。
如图1和图2所示,为可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置整体结构,包括:杂光光源模块、抗杂光性能分析模块209、双轴联动运动控制模块、主半透半反镜208、副半透半反镜207、待测VLC装置夹具、衰减器210及箱体;
所述杂光光源模块包括杂光光源211与杂光光源底座212;所述杂光光源底座212安装在箱体底部,用于放置杂光光源;
所述双轴联动运动控制模块包括X轴步进电机201、X轴丝杆导轨202、X轴滑动平台203、Y轴步进电机204、Y轴丝杆导轨205与Y轴滑动平台206;
所述主半透半反镜208通过固定件固定在箱体的底部;
所述副半透半反镜207安装在X轴滑动平台203上。
上述杂光光源通过固定件安装固定在杂光光源底座上,用于提供杂光参照。
上述抗杂光性能分析模块包括照度计,该照度计通过固定件安装在X轴滑动平台上,用以测量透过半透半反镜的光束照度。
上述副半透半反镜通过固定件固定在X轴滑动平台上,用于均分VLC装备光源发出的光束分散至待测VLC装备接收器及照度计。
上述Y轴步进电机与Y轴丝杆导轨通过固定件安装在X轴滑动平台上,且在Y轴步进电机与Y轴丝杆导轨之间设置有减速器,并通过该减速器连接;所述Y轴滑动平台与Y轴丝杆导轨相连,并通过设置的丝杆螺母调节VLC装备接收器与副半透半反镜距离。
上述X轴步进电机与X轴丝杆导轨安装在箱体的底部,且在X轴步进电机与X轴丝杆导轨之间设置有减速器,并通过该减速器连接;所述X轴滑动平台与X轴丝杆导轨相连,并通过设置的丝杆螺母调整半透半反镜与待测VLC装备光源距离。
上述待测VLC装置夹具包括VLC装备光源支座103;所述框架箱体包括外挡光板101与内挡光板102;所述衰减器安装在内挡光板上,并通过固定件固定,用以对待测VLC装备光源进行照度衰减。
上述VLC装备光源支座安装于箱体的底部,并通过固定件固定,用于放置VLC装备光源。
上述实施例的工作流程为:
①安装VLC装置光源与待测VLC装置,启动双轴联动运动控制模块,调至待测VLC装置正常工作状态。
②把待测VLC装置及照度仪移动至最远端。
③调制待测VLC光源控制产生伪随机序列。
④调节衰减器,按衰减量从小到大进行加载,直至待测VLC装置未能接收到正常的伪随机序列,记录为Emin。
⑤调节衰减器和安装平台前后位置至照度值大小为2Emin。
⑥打开VLC装置光源,设置杂光光源为直流模式,调节杂光光源照度值直至待测设备无法接收到正确信号,关闭信号光源,记录此时照度值。
虽然本实用新型所揭露的实施方式如上,但所述的内容只是为了便于理解本实用新型而采用的实施方式,并非用以限定本实用新型。任何本实用新型所属技术领域内的技术人员,在不脱离本实用新型所揭露的精神和范围的前提下,可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化,但本实用新型的专利保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (6)
1.一种可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,其特征在于,所述装置包括:杂光光源模块、抗杂光性能分析模块(209)、双轴联动运动控制模块、主半透半反镜(208)、副半透半反镜(207)、待测VLC装置夹具、衰减器(210)及箱体;
所述杂光光源模块包括杂光光源(211)与杂光光源底座(212);所述杂光光源底座(212)安装在箱体底部,用于放置杂光光源;
所述双轴联动运动控制模块包括X轴步进电机(201)、X轴丝杆导轨(202)、X轴滑动平台(203)、Y轴步进电机(204)、Y轴丝杆导轨(205)与Y轴滑动平台(206);
所述主半透半反镜(208)通过固定件固定在箱体的底部;
所述副半透半反镜(207)安装在X轴滑动平台(203)上。
2.如权利要求1所述的可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,其特征在于,所述抗杂光性能分析模块(209)包括照度计,该照度计通过固定件安装在X轴滑动平台上,用以测量透过半透半反镜的光束照度。
3.如权利要求1所述的可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,其特征在于,
所述Y轴步进电机(204)与Y轴丝杆导轨(205)通过固定件安装在X轴滑动平台(203)上,且在Y轴步进电机(204)与Y轴丝杆导轨(205)之间设置有减速器,并通过该减速器连接;
所述Y轴滑动平台(206)与Y轴丝杆导轨(205)相连,并通过设置的丝杆螺母调节VLC装备接收器与副半透半反镜距离。
4.如权利要求1所述的可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,其特征在于,
所述X轴步进电机(201)与X轴丝杆导轨(202)安装在箱体的底部,且在X轴步进电机(201)与X轴丝杆导轨(202)之间设置有减速器,并通过该减速器连接;
所述X轴滑动平台(203)与X轴丝杆导轨(202)相连,并通过设置的丝杆螺母调整半透半反镜与待测VLC装备光源距离。
5.如权利要求1所述的可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,其特征在于,
所述待测VLC装置夹具包括VLC装备光源支座(103);
所述箱体包括外挡光板(101)与内挡光板(102);
所述衰减器(210)安装在内挡光板(102)上,并通过固定件固定,用以对待测VLC装备光源进行照度衰减。
6.如权利要求5所述的可测量VLC装备抗杂光性能的检测装置,其特征在于,所述VLC装备光源支座(103)安装于箱体的底部,并通过固定件固定,用于放置VLC装备光源。
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