CN207507891U - 一种真空碳氢清洗腔装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空碳氢清洗腔装置，包括：清洗腔本体；所述清洗腔本体上设有真空泵；所述真空清洗腔一端设有开口，另一端设有旋转单元；所述真空清洗腔上位于开口处设有自动密闭门；所述真空清洗腔内部设有旋转支架；所述旋转单元包括：旋转电机和旋转轴；所述旋转轴一端设置在旋转支架上，另一端通过传动链条与旋转电机的输出端连接；所述旋转支架内部下端设有滚筒传送带，两侧设有超声辅助清洗单元；所述清洗腔本体下端设有液位传感器。通过上述方式，本实用新型结构简单，使用方便，在清洗工程中零件要进行360度旋转和摇摆，减少零件上的积液，减少零件清洗的盲区，提高零件的清洁度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种真空碳氢清洗腔装置的改进，特别涉及一种结构简单，使用方便，在清洗工程中零件要进行360度旋转和摇摆，同时在干燥要减少零件上的积液，减少零件清洗的盲区；并且清洗腔还搭载超声波，在清洗腔中真空状态下对零件进行多次清洗后才能获得零件，提高零件的清洁度的真空碳氢清洗腔装置。
背景技术
现代碳氢工业清洗采用的清洗方式大多为方槽，在真空的作用下容易变形而导至碳氢液体渗漏。
实用新型内容
本实用新型主要解决的技术问题是提供一种结构简单，使用方便，在清洗工程中零件要进行360度旋转和摇摆，同时在干燥要减少零件上的积液，减少零件清洗的盲区；并且清洗腔还搭载超声波，在清洗腔中真空状态下对零件进行多次清洗后才能获得零件，提高零件的清洁度的真空碳氢清洗腔装置。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种真空碳氢清洗腔装置，包括：清洗腔本体；所述清洗腔本体上设有真空泵；所述真空清洗腔一端设有开口，另一端设有旋转单元；所述真空清洗腔上位于开口处设有自动密闭门；所述真空清洗腔内部设有旋转支架；所述旋转单元包括：旋转电机和旋转轴；所述旋转轴一端设置在旋转支架上，另一端通过传动链条与旋转电机的输出端连接；所述旋转支架内部下端设有第一滚筒传送带，两侧设有超声辅助清洗单元；所述清洗腔本体下端设有液位传感器。
优选的，所述超声辅助清洗单元包括：设置在清洗腔本体内部的两侧的震盒和下端的底震。
优选的，所述旋转电机为带刹车的减速电机；所述旋转电机的减速比为30。
优选的，所述自动密闭门的上端和下端均设有滑轨；所述自动密闭门上端滑轨的上端设有气缸；所述气缸与上端滑轨的滑块连接。
优选的，所述旋转支架内部还设有喷嘴泵。
优选的，所述清洗腔本体上部呈横向圆柱形，下部呈倒梯形。
本实用新型的有益效果是：本实用新型所述的一种真空碳氢清洗腔装置，结构简单，使用方便，在清洗工程中零件要进行360度旋转和摇摆，同时在干燥要减少零件上的积液，减少零件清洗的盲区；并且清洗腔还搭载超声波，在清洗腔中真空状态下对零件进行多次清洗后才能获得零件，提高零件的清洁度。
附图说明
下面结合附图对本实用新型技术方案作进一步说明：
附图1为本实用新型所述的真空碳氢清洗腔装置的结构示意图。
附图2为本实用新型所述的真空碳氢清洗腔装置打开自动密闭门的右视图。
其中：1、清洗腔本体；2、开口；3、旋转单元；4、自动密闭门；5、滑轨；6、旋转支架；7、旋转电机；8、旋转轴；9、传动链条；10、滚筒传送带；11、液位传感器；12、震盒；13、底震。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1和图2，本实用新型包括：
为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是一种真空碳氢清洗腔装置，包括：清洗腔本体1；所述清洗腔本体1上部呈横向圆柱形，下部呈倒梯形；所述清洗腔本体1上设有真空泵；所述清洗腔本体1一端设有开口2，另一端设有旋转单元3；所述清洗腔本体1上位于开口2处设有自动密闭门4；所述自动密闭门4的上端和下端均设有滑轨5；所述自动密闭门4上端滑轨5的上端设有气缸14；所述气缸14与自动密闭门4上端滑轨5的滑块连接；所述清洗腔本体1内部设有旋转支架6；所述旋转单元3包括：旋转电机7和旋转轴8；所述旋转电机7为带刹车的减速电机；所述旋转电机7的减速比为30；所述旋转轴8一端设置在旋转支架6上，另一端通过传动链条9与旋转电机7的输出端连接；所述旋转支架6内部下端设有第一滚筒传送带10，两侧设有超声辅助清洗单元；所述清洗腔本体1下端设有液位传感器11；所述超声辅助清洗单元包括：设置在清洗腔本体1内部的两侧的震盒12和下端的底震13；所述旋转支架6内部还设有喷嘴泵。
使用前，将需要清洗的零件在进入清洗腔本体1前，必须作为散装物那样作为批次处理或需要安放进清洗提篮上。零件装载进清洗提篮进入清洗腔，清洗提篮可通过旋转单元3实现旋转，摇摆，或静滞。
清洗使，溶剂灌注到清洗腔直到溶液液位到达清洗提篮的上部边缘，使零件都完全浸没在溶剂中。为了提高清洗效果溶剂通过溶剂泵的循环来造成紊流，溶剂通过喷嘴泵出；同时，也可以选择超声波震荡工作。在浸没清洗中溶剂会通过过滤组来去除颗粒和切削杂质。
本实用新型的有益效果是：本实用新型所述的一种真空碳氢清洗腔装置，结构简单，使用方便，在清洗工程中零件要进行360度旋转和摇摆，同时在干燥要减少零件上的积液，减少零件清洗的盲区；并且清洗腔还搭载超声波，在清洗腔中真空状态下对零件进行多次清洗后才能获得零件，提高零件的清洁度。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并加以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围，凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
Claims (6)
1.一种真空碳氢清洗腔装置，其特征在于：包括：清洗腔本体；所述清洗腔本体上设有真空泵；所述真空清洗腔一端设有开口，另一端设有旋转单元；所述真空清洗腔上位于开口处设有自动密闭门；所述真空清洗腔内部设有旋转支架；所述旋转单元包括：旋转电机和旋转轴；所述旋转轴一端设置在旋转支架上，另一端通过传动链条与旋转电机的输出端连接；所述旋转支架内部下端设有滚筒传送带，两侧设有超声辅助清洗单元；所述清洗腔本体下端设有液位传感器。
2.根据权利要求1所述的真空碳氢清洗腔装置，其特征在于：所述超声辅助清洗单元包括：设置在清洗腔本体内部的两侧的震盒和下端的底震。
3.根据权利要求1所述的真空碳氢清洗腔装置，其特征在于：所述旋转电机为带刹车的减速电机；所述旋转电机的减速比为30。
4.根据权利要求1所述的真空碳氢清洗腔装置，其特征在于：所述自动密闭门的上端和下端均设有滑轨；所述自动密闭门上端滑轨的上端设有气缸；所述气缸与上端滑轨的滑块连接。
5.根据权利要求1所述的真空碳氢清洗腔装置，其特征在于：所述旋转支架内部还设有喷嘴泵。
6.根据权利要求1所述的真空碳氢清洗腔装置，其特征在于：所述清洗腔本体上部呈横向圆柱形，下部呈倒梯形。
Priority Applications (1)
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| CN201721441955.6U CN207507891U (zh) | 2017-11-02 | 2017-11-02 | 一种真空碳氢清洗腔装置 |
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Publications (1)
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ID=62538015
Family Applications (1)
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| CN201721441955.6U Active CN207507891U (zh) | 2017-11-02 | 2017-11-02 | 一种真空碳氢清洗腔装置 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN207507891U (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111530843A (zh) * | 2020-04-23 | 2020-08-14 | 安泰科技股份有限公司 | 工件清洗用装置 |
| CN113976538A (zh) * | 2021-11-18 | 2022-01-28 | 苏州诺姆自动化科技有限公司 | 一种用于环保型溶剂清洗机的清洗腔 |
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2017
- 2017-11-02 CN CN201721441955.6U patent/CN207507891U/zh active Active
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| CN111530843B (zh) * | 2020-04-23 | 2022-01-25 | 安泰科技股份有限公司 | 工件清洗用装置 |
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