CN207501702U - 连续式真空炉 - Google Patents
连续式真空炉 Download PDFInfo
- Publication number
- CN207501702U CN207501702U CN201720821390.8U CN201720821390U CN207501702U CN 207501702 U CN207501702 U CN 207501702U CN 201720821390 U CN201720821390 U CN 201720821390U CN 207501702 U CN207501702 U CN 207501702U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- section
- chamber
- condensation
- feeding
- continuous vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
本实用新型公开一种连续式真空炉，其包括：送料预热段，用于对固体粉末状的原材料进行上料处理及预加热处理；气化段，用于对预加热处理后的原材料进行进一步加热气化，以直接形成原材料气化物或产生化学反应后生成新物质气化物；凝结出料段，用于使原材料气化物或新物质气化物冷却凝结形成凝结状成品并对之进行出料处理；送料预热段、气化段以及凝结出料段依次相接设置，且送料预热段、气化段以及凝结出料段均真空密封设置。本实用新型的连续式真空炉，其将上料、预热、气化、凝结以及出料连成一体，适用于固体高温纯化、固体材料气化发生化学反应并重新凝结形成新的固体生成物等生产过程，可实现氧化亚硅等产品的大规模连续生产，极大地节约能耗。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空炉技术领域，特别涉及一种连续式真空炉。
背景技术
目前，国内外绝大部分真空炉均为间歇式的单体炉，单体炉的生产过程为：进料→升温→恒温→降温→出料，从而完成一个单次循环。这种生产工艺的特点是设备简单、投资较少、操作容易，但是由于每次生产都需要升温降温，导致能源使用效率不高、单位产品能耗高。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提出一种连续式真空炉，其将上料、预热、气化、凝结以及出料连成一体，适用于固体高温纯化、固体材料气化发生化学反应并重新凝结形成新的固体生成物等生产过程，可实现氧化亚硅等产品的大规模连续生产，极大地节约能耗。
为实现上述目的，本实用新型提供的一种连续式真空炉，所述连续式真空炉包括：送料预热段，用于对固体粉末状的原材料进行上料处理及预加热处理；气化段，用于对预加热处理后的所述原材料进行进一步加热气化，以直接形成原材料气化物或产生化学反应后生成新物质气化物；凝结出料段，用于使所述原材料气化物或所述新物质气化物冷却凝结形成凝结状成品并对之进行出料处理；所述送料预热段、所述气化段以及所述凝结出料段依次相接设置，且所述送料预热段、所述气化段以及所述凝结出料段均真空密封设置。
进一步地，所述送料预热段包括管状结构的送料预热室，所述送料预热室内置有螺旋式上料机构及第一加热装置。
进一步地，所述气化段包括管状结构的气化室及内置于所述气化室中的第二加热装置，所述气化室的前端与所述送料预热室的后端相连接。
进一步地，所述第一加热装置及所述第二加热装置均为感应加热装置，所述感应加热装置包括环设于所述送料预热室的内壁上的第一加热线圈或环设于所述气化室的内壁上的第二加热线圈。
进一步地，所述凝结出料段包括凝结室与出料室，所述凝结室的一侧侧壁与所述气化室的后端相连接设置，所述凝结室的底部通过一漏斗结构与所述出料室的顶部进行相连接设置，所述出料室的底部设有漏斗式出料口。
进一步地，所述凝结室为冷筒结构，所述凝结室还内置有旋转刮板，用于将所述凝结室的内壁上凝结状的生成物自动刮落，以通过所述漏斗结构落入所述出料室中。
进一步地，所述旋转刮板还设有造粒粗糙面，用于对所述凝结室的内壁上的凝结状的生成物进行粗糙化处理。
进一步地，所述出料室的一侧侧壁设有抽真空口，用于对所述送料预热室、所述气化室、所述凝结室以及所述出料室进行抽真空处理。
进一步地，所述出料室的一侧侧壁设有保护气体入口，用于对所述送料预热室、所述气化室、所述凝结室以及所述出料室进行保护气体的通入处理。
进一步地，所述出料室内置有螺旋式出料机构。
本实用新型提供的连续式真空炉，其将送料预热段、气化段以及凝结出料段依次相接设置，且该送料预热段、气化段以及凝结出料段均真空密封设置，使之将上料、预热、气化、凝结以及出料连成一体，适用于固体高温纯化、固体材料气化发生化学反应并重新凝结形成新的固体生成物等生产过程，可实现氧化亚硅等产品的大规模连续生产，极大地节约能耗。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的连续式真空炉的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本实用新型，但并不构成对本实用新型的限定。此外，下面所描述的本实用新型各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
如图1所示，本实用新型实施例提供一种连续式真空炉100，该连续式真空炉100包括送料预热段110、气化段120以及凝结出料段130，其中，送料预热段110主要用于对固体粉末状的原材料进行上料处理及预加热处理；气化段120 主要用于对预加热处理后的所述原材料进行进一步加热气化，以直接形成原材料气化物或产生化学反应后生成新物质气化物；凝结出料段130主要用于使所述原材料气化物或所述新物质气化物冷却凝结形成凝结状成品并对之进行出料处理。送料预热段110、气化段120以及凝结出料段130依次相接设置，且送料预热段110、气化段120以及凝结出料段130均真空密封设置。
在本实施例中，如图1所示，送料预热段110包括管状结构的送料预热室111，送料预热室111内置螺旋式上料机构112及第一加热装置113。这样一来，通过螺旋式上料机构112可对固体粉末状的原材料进行螺旋上料处理，而通过第一加热装置113可对进行上料处理中的固体粉末状的原材料进行预加热处理。气化段120包括管状结构的气化室121及内置于气化室121中的第二加热装置122，气化室121的前端与送料预热室111的后端相连接。这样一来，通过气化室121 的前端与送料预热室111的后端相连接，可确保两者之间的密封性能，而通过第二加热装置122可对预加热处理后的所述原材料进行进一步加热气化，以直接形成原材料气化物或产生化学反应后生成新物质气化物。具体地，第一加热装置113及第二加热装置122均为感应加热装置，该感应加热装置包括环设于送料预热室111的内壁上的第一加热线圈或环设于气化室121的内壁上的第二加热线圈，以通过第一加热线圈对进行上料处理中的固体粉末状的原材料进行预加热处理，通过第二加热线圈对预加热处理后的所述原材料进行进一步加热气化，以直接形成原材料气化物或产生化学反应后生成新物质气化物。
如图1所示，凝结出料段130包括凝结室131与出料室132，凝结室131的一侧侧壁与气化室121的后端相连接设置，以确保两者之间的密封性能。凝结室131的底部通过一漏斗结构133与出料室132的顶部进行相连接设置，以确保凝结室131刮落的凝结状成品可快速落入出料室132的同时，确保两者之间的密封性能。出料室132的底部设有漏斗式出料口134，以便于进行快速出料。具体地，凝结室131为冷筒结构，凝结室131还内置有旋转刮板135，用于将凝结室131的内壁上的凝结状成品自动刮落，以通过漏斗结构133落入出料室132 中。旋转刮板135还设有造粒粗糙面136，用于对凝结室131的内壁上凝结状成品进行粗糙化处理。出料室132的一侧侧壁设有抽真空口137，用于对送料预热室111、气化室121、凝结室131以及出料室132进行抽真空处理，以确保该送料预热段110、气化段120以及凝结出料段130均真空密封设置。
另外，出料室132的一侧侧壁还设有保护气体入口(未图示)，用于对送料预热室111、气化室121、凝结室131以及出料室132进行保护气体的通入处理。出料室132内置有螺旋式出料机构(未图示)，可对落入出料室132内的凝结状的生成物进行螺旋出料处理。
以一氧化硅的生产为例，本连续式真空炉100按如下方式进行工作，首先，将固体粉末状的硅与二氧化硅送入送料预热室111中，使之在螺旋式上料机构 112的工作下，通过送料预热室111以进入气化室121中，与之同时，第一加热装置113在本连续式真空炉100的线路板控制下，对通过送料预热室111的固体粉末状的硅与二氧化硅进行预加热处理。然后，当预加热过的固体粉末状的硅与二氧化硅进入气化室121中后，第二加热装置122在本连续式真空炉100 的线路板控制下，对其进行进一步加热气化(该温度可达1000多度)，使其发生化学反应，生成一氧化硅的气化物，以进入凝结室131中。由于凝结室131 为冷筒结构，其内壁可在本连续式真空炉100的线路板控制下保持低温状态，当一氧化硅的气化物遇到低温状态下的凝结室131的内壁凝结，便可得到一氧化硅的凝结状成品。最后，在旋转刮板135的工作下，凝结室131的内壁上的凝结状成品便自动刮落，以落入出料室132中，再通过漏斗式出料口134进行快速出料。
本实用新型提供的连续式真空炉，其将送料预热段、气化段以及凝结出料段依次相接设置，且该送料预热段、气化段以及凝结出料段均真空密封设置，使之将上料、预热、气化、凝结以及出料连成一体，适用于固体高温纯化、固体材料气化发生化学反应并重新凝结形成新的固体生成物等生产过程，可实现氧化亚硅等产品的大规模连续生产，极大地节约能耗。
以上结合附图对本实用新型的实施方式作了详细说明，但本实用新型不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本实用新型原理和精神的情况下，对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，仍落入本实用新型的保护范围内。
Claims (10)
1.一种连续式真空炉，其特征在于，所述连续式真空炉包括：
送料预热段，用于对固体粉末状的原材料进行上料处理及预加热处理；
气化段，用于对预加热处理后的所述原材料进行进一步加热气化，以直接形成原材料气化物或产生化学反应后生成新物质气化物；
凝结出料段，用于使所述原材料气化物或所述新物质气化物冷却凝结形成凝结状成品并对之进行出料处理；
所述送料预热段、所述气化段以及所述凝结出料段依次相接设置，且所述送料预热段、所述气化段以及所述凝结出料段均真空密封设置。
2.根据权利要求1所述的连续式真空炉，其特征在于，所述送料预热段包括管状结构的送料预热室，所述送料预热室内置有螺旋式上料机构及第一加热装置。
3.根据权利要求2所述的连续式真空炉，其特征在于，所述气化段包括管状结构的气化室及内置于所述气化室中的第二加热装置，所述气化室的前端与所述送料预热室的后端相连接。
4.根据权利要求3所述的连续式真空炉，其特征在于，所述第一加热装置及所述第二加热装置均为感应加热装置，所述感应加热装置包括环设于所述送料预热室的内壁上的第一加热线圈或环设于所述气化室的内壁上的第二加热线圈。
5.根据权利要求4所述的连续式真空炉，其特征在于，所述凝结出料段包括凝结室与出料室，所述凝结室的一侧侧壁与所述气化室的后端相连接设置，所述凝结室的底部通过一漏斗结构与所述出料室的顶部进行相连接设置，所述出料室的底部设有漏斗式出料口。
6.根据权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，所述凝结室为冷筒结构，所述凝结室还内置有旋转刮板，用于将所述凝结室的内壁上凝结状的生成物自动刮落，以通过所述漏斗结构落入所述出料室中。
7.根据权利要求6所述的连续式真空炉，其特征在于，所述旋转刮板还设有造粒粗糙面，用于对所述凝结室的内壁上的凝结状的生成物进行粗糙化处理。
8.根据权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，所述出料室的一侧侧壁设有抽真空口，用于对所述送料预热室、所述气化室、所述凝结室以及所述出料室进行抽真空处理。
9.根据权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，所述出料室的一侧侧壁设有保护气体入口，用于对所述送料预热室、所述气化室、所述凝结室以及所述出料室进行保护气体的通入处理。
10.根据权利要求5所述的连续式真空炉，其特征在于，所述出料室内置有螺旋式出料机构。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201720821390.8U CN207501702U (zh) | 2017-07-08 | 2017-07-08 | 连续式真空炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201720821390.8U CN207501702U (zh) | 2017-07-08 | 2017-07-08 | 连续式真空炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN207501702U true CN207501702U (zh) | 2018-06-15 |
Family
ID=62497396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201720821390.8U Active CN207501702U (zh) | 2017-07-08 | 2017-07-08 | 连续式真空炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN207501702U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107289788A (zh) * | 2017-07-08 | 2017-10-24 | 深圳市汇美新科技有限公司 | 连续式真空炉 |
-
2017
- 2017-07-08 CN CN201720821390.8U patent/CN207501702U/zh active Active
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107289788A (zh) * | 2017-07-08 | 2017-10-24 | 深圳市汇美新科技有限公司 | 连续式真空炉 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN107289788A (zh) | 连续式真空炉 | |
| CN103409155B (zh) | 多管回转炉以及用其进行物料低温干馏的方法 | |
| CN102092751B (zh) | 一种热解结晶六水氯化铝生产氧化铝并副产盐酸的方法 | |
| CN102515231B (zh) | 循环流化床焙烧炉生产高温氧化铝的装置及方法 | |
| CN105400528B (zh) | 一种稻壳快速热解装置及配套系统 | |
| CN106946252B (zh) | 外热回转式活性炭高效节能生产装置 | |
| CN102992285B (zh) | 一种利用密闭环形加热炉生产黄磷的方法及设备 | |
| CN207501702U (zh) | 连续式真空炉 | |
| CN106115747A (zh) | 一种利用氢氧化镁生产氧化镁的装置 | |
| CN104528674A (zh) | 一种大规模生产高纯度五氧化二磷的方法 | |
| CN106219488B (zh) | 一种制备盐酸并提纯石英砂的方法及装置 | |
| CN103194266B (zh) | 连续煤矸石热解气化方法 | |
| CN100453463C (zh) | 两级动态煅烧氯化镁制氧化镁和氯化氢混合气体工艺和设备 | |
| CN201784077U (zh) | Acr树脂真空螺旋干燥装置 | |
| CN103803650B (zh) | 一种生产三氧化钼的方法 | |
| CN113880470B (zh) | 生产建筑石膏的工艺及装备 | |
| CN106040110B (zh) | 氯化汞还原加热腔及用该加热腔的汞蒸气发生装置及方法 | |
| CN201909512U (zh) | 一种多功能催化剂干燥炉 | |
| CN205556106U (zh) | 一种活性炭生产装置 | |
| CN208649411U (zh) | 脱砷装置 | |
| CN204874386U (zh) | 一种炼焦炉烟道余热回收利用系统 | |
| CN107265488B (zh) | 一种二步法生产γ型氧化铝的工艺装置与方法 | |
| CN207192805U (zh) | 一种电石炉尾气显热和钙材回收利用耦合的系统 | |
| JPS5828218B2 (ja) | カンシキシヨウカスイワセツカイノセイゾウホウホウ | |
| CN202080897U (zh) | 零煤耗的活性炭生产装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| TR01 | Transfer of patent right | ||
| TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20220805 Address after: Room 101, No. 3, Xingyihui Industrial Park, Tianliao Community, Yutang Street, Guangming District, Shenzhen, Guangdong 518107 Patentee after: ADVANCED PRECISION TECHNOLOGY Co.,Ltd. Address before: Room A304, No. 2, Longgang Tianan Digital Innovation Park, No. 441, Huangge Road, Longcheng Street, Longgang District, Shenzhen, Guangdong 518000 Patentee before: SHENZHEN HUIMEI NEW TECHNOLOGY CO.,LTD. |