CN207326722U - 研磨抛光机主轴机构 - Google Patents

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CN207326722U CN201721390308.7U CN201721390308U CN207326722U CN 207326722 U CN207326722 U CN 207326722U CN 201721390308 U CN201721390308 U CN 201721390308U CN 207326722 U CN207326722 U CN 207326722U
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王�华
陈泊霖
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Dongguan Wei Ming Industrial Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种研磨抛光机主轴机构,包括:主轴、轴外圈、轴承、轴承盖板,所述主轴设于所述轴外圈内并通过所述轴承进行支撑,所述轴外圈的两端均设有所述轴承盖板,贯穿所述轴外圈外壁与所述轴外圈内壁,以及所述主轴的顶端均开设有腐蚀性研磨抛光液入口,且所述主轴为中空结构,且正对所述腐蚀性研磨抛光液入口开设有侧开口及上开口,所述主轴底端还设有腐蚀性研磨抛光液出口,腐蚀性研磨抛光液通过所述腐蚀性研磨抛光液入口进入,并可从设置在所述主轴上的所述侧开口及上开口进入至所述主轴内部,并从所述腐蚀性研磨抛光液出口流出。本实用新型是一种研磨抛光机主轴机构。

Description

研磨抛光机主轴机构
技术领域
本实用新型涉及一种研磨抛光机主轴机构。
背景技术
主轴是指从发动机或电动机接受动力并将它传给其它机件的传动轴。现有技术的主轴为非中空的,研磨抛光液不能到达毛刷的中心,使研磨抛光效果大打折扣。
因此,亟需一种研磨抛光机主轴机构。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种研磨抛光机主轴机构。
为了实现上述目的,本实用新型提供的技术方案为:提供一种研磨抛光机主轴机构,包括:主轴、轴外圈、轴承、轴承盖板,所述主轴设于所述轴外圈内并通过所述轴承进行支撑,所述轴外圈的两端均设有所述轴承盖板,贯穿所述轴外圈外壁与所述轴外圈内壁,以及所述主轴的顶端均开设有腐蚀性研磨抛光液入口,且所述主轴为中空结构,且正对所述腐蚀性研磨抛光液入口开设有侧开口及上开口,所述主轴底端还设有腐蚀性研磨抛光液出口,腐蚀性研磨抛光液通过所述腐蚀性研磨抛光液入口进入,并可从设置在所述主轴上的所述侧开口及上开口进入至所述主轴内部,并从所述腐蚀性研磨抛光液出口流出。
所述轴外圈外壁正对所述双重保护高分子自润滑密封圈处,开设有油杯,所述油杯用于对所述双重保护高分子自润滑密封圈补充高分子油脂。
还包括研磨抛光液管以及设置在所述研磨抛光液管上的控制开关,所述研磨抛光液管与所述研磨抛光液入口连接。
所述轴外圈内壁开设有挡圈槽,所述挡圈槽内设置用于将所述轴承进行定位的挡圈。
还包括压环及双重保护高分子自润滑密封圈,所述主轴的两端均通过所述双重保护高分子自润滑密封圈进行密封,所述双重保护高分子自润滑密封圈通过所述压环固定于所述轴外圈内壁与所述主轴外壁之间。
与现有技术相比,由于在本实用新型研磨抛光机主轴机构中,所述主轴为中空结构,研磨抛光液在主轴旋转的离心力的作用下,从研磨抛光毛刷的中心向外流出,大大提高了研磨抛光效率。另外采用双重保护高分子自润滑密封圈双重保护,在主轴高速旋转下,提高了使用寿命,避免了经常更换密封圈而影响生产效率的情况发生。
通过以下的描述并结合附图,本实用新型将变得更加清晰,这些附图用于解释本实用新型的实施例。
附图说明
图1为本实用新型研磨抛光机主轴机构的一个实施例的示意图。
具体实施方式
现在参考附图描述本实用新型的实施例,附图中类似的元件标号代表类似的元件。如上所述,如图1所示,本实用新型实施例提供的研磨抛光机主轴机构100,包括:主轴5、轴外圈2、轴承4、轴承盖板6,所述主轴5设于所述轴外圈2内并通过所述轴承4进行支撑,所述轴外圈2的两端均设有所述轴承盖板6,贯穿所述轴外圈2外壁与所述轴外圈2内壁,以及所述主轴的顶端均开设有腐蚀性研磨抛光液入口9、19,且所述主轴5为中空结构,且正对所述腐蚀性研磨抛光液入口9、19开设有侧开口10及上开口15,所述主轴5底端还设有腐蚀性研磨抛光液出口11,腐蚀性研磨抛光液通过所述腐蚀性研磨抛光液入口9、19进入,并可从设置在所述主轴5上的所述侧开口10及上开口15进入至所述主轴5内部,并从所述腐蚀性研磨抛光液出口11流出。所述轴外圈2的两端均设有所述轴承盖板6。
一个实施例中,所述轴外圈2外壁正对所述双重保护高分子自润滑密封圈3处,开设有油杯8,所述油杯8用于对所述双重保护高分子自润滑密封圈3补充高分子油脂。
一个实施例中,还包括研磨抛光液管12以及设置在所述研磨抛光液管12上的控制开关13,所述研磨抛光液管12与所述研磨抛光液入口9、19连接,通过控制开关13可以自由切换研磨抛光液的进入位置及控制研磨抛光液的流量。
一个实施例中,所述轴外圈2内壁开设有挡圈槽(图上未示),所述挡圈槽内设置用于将所述轴承4进行定位的挡圈7。
一个实施例中,还包括压环1及双重保护高分子自润滑密封圈3,所述主轴5设于所述轴外圈2内并通过所述轴承4进行支撑,所述主轴5的两端均通过所述双重保护高分子自润滑密封圈3进行密封,所述双重保护高分子自润滑密封圈3通过所述压环1固定于所述轴外圈2内壁与所述主轴5外壁之间。
与现有技术相比,结合图1,由于在本实用新型研磨抛光机主轴机构100中,所述主轴为中空结构,研磨抛光液在主轴旋转的离心力的作用下,从研磨抛光毛刷的中心向外流出,大大提高了研磨抛光效率。另外采用双重保护高分子自润滑密封圈双重保护,在主轴高速旋转下,提高了使用寿命,避免了经常更换密封圈而影响生产效率的情况发生。
以上所揭露的仅为本实用新型的优选实施例而已,当然不能以此来限定本实用新型之权利范围,因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化,仍属本实用新型所涵盖的范围。

Claims (5)

1.一种研磨抛光机主轴机构,其特征在于,包括:主轴、轴外圈、轴承、轴承盖板,所述主轴设于所述轴外圈内并通过所述轴承进行支撑,所述轴外圈的两端均设有所述轴承盖板,贯穿所述轴外圈外壁与所述轴外圈内壁,以及所述主轴的顶端均开设有腐蚀性研磨液入口,且所述主轴为中空结构,且正对所述腐蚀性研磨液入口开设有侧开口及上开口,所述主轴底端还设有腐蚀性研磨液出口,腐蚀性研磨液通过所述腐蚀性研磨液入口进入,并可从设置在所述主轴上的所述侧开口及上开口进入至所述主轴内部,并从所述腐蚀性研磨液出口流出。
2.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构,其特征在于,所述轴外圈外壁正对双重保护高分子自润滑密封圈处,开设有油杯,所述油杯用于对所述双重保护高分子自润滑密封圈补充高分子油脂。
3.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构,其特征在于,还包括研磨液管以及设置在所述研磨液管上的控制开关,所述研磨液管与所述研磨液入口连接。
4.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构,其特征在于,所述轴外圈内壁开设有挡圈槽,所述挡圈槽内设置用于将所述轴承进行定位的挡圈。
5.如权利要求1所述的研磨抛光机主轴机构,其特征在于,还包括压环及双重保护高分子自润滑密封圈,所述主轴的两端均通过所述双重保护高分子自润滑密封圈进行密封,所述双重保护高分子自润滑密封圈通过所述压环固定于所述轴外圈内壁与所述主轴外壁之间。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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