CN207163693U - 一种扫描场镜畸变校准装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种扫描场镜畸变校准装置，包括扫描头组件、场镜组件、光掩膜、固定件、光学原件、安装块、滑轨、滑块和遮光板，场镜组件和扫描头组件均安装在安装架上，扫描头组件设置在场镜组件左侧，光学原件设置在场镜组件的正下方，光掩膜通过固定件可拆卸式固定在光学原件上端面，固定件通过铰链安装在光学原件上端面，两个安装块对称固定在场镜组件下端，两个滑轨分别对称固定在安装块右端面，两个滑块分别位于两个滑轨内部，本实用新型可以使用同轴成像、照明、和一个标准件（光掩模）来校准场镜的畸变和验证畸变校准后的精度，结构简单，方法上很直接，无需使用激光打印工件，无需使用离线测量设备。

Description

一种扫描场镜畸变校准装置

技术领域

本实用新型涉及激光加工领域，具体为一种扫描场镜畸变校准装置。

背景技术

目前，公知的扫描场镜畸变校准是使用激光在加工件上打一个规则的二维图案，然后使用精准的XY平移台测量图案的坐标误差 。然后把测量到的误差反馈给扫描头，用来补偿激光扫描场镜的畸变。但是，这种场镜误差校准方法很不方便，第一它需要使用竞争的XY平移台和一个成像系统来测量图案的误差，第二它还需要使用大小合适的工件来打印激光图案，第三还需要使用激光在另一个工件上打验证图案来验证畸变校准后的精度。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型目的是提供一种扫描场镜畸变校准装置，以解决上述背景技术中提出的问题，本实用新型使用方便，操作简单，系统性高，实用性强。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种扫描场镜畸变校准装置，包括装置主体和遮光机构，所述装置主体包括包括扫描头组件、场镜组件、光掩膜、固定件和光学原件，所述场镜组件和扫描头组件均安装在安装架上，所述扫描头组件设置在场镜组件左侧，所述光学原件设置在场镜组件的正下方，所述光掩膜通过固定件可拆卸式固定在光学原件上端面，所述固定件通过铰链安装在光学原件上端面，所述遮光机构设置在场镜组件下端，所述遮光机构包括安装块、滑轨、滑块和遮光板，所述安装块、滑轨和滑块均设有两个，两个所述安装块对称固定在场镜组件下端，两个所述滑轨分别对称固定在安装块右端面，两个所述滑块分别位于两个滑轨内部。

进一步地，所述固定件设有六个，六个所述固定件等距排布在光学原件上端面棱角处。

进一步地，所述场镜组件与光学原件轴心线重合。

进一步地，所述光掩膜下端面设置有晶圆加工件。

进一步地，所述扫描头组件与场镜组件均设有两个，两个所述扫描头组件对称安装在安装架上，两个所述场镜组件对称安装在安装架上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型可以使用同轴成像、照明、和一个标准件（光掩模）来校准场镜的畸变和验证畸变校准后的精度。结构简单，方法上很直接，无需使用激光打印工件，无需使用离线测量设备。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型遮光机构的结构示意图；

附图标记中：1.扫描头组件；2.场镜组件；3.光掩膜；4.固定件；5.光学原件；6.遮光机构；61.安装块；62.滑轨；63.滑块；64.遮光板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1、2，本实用新型提供一种技术方案：一种扫描场镜畸变校准装置，包括装置主体和遮光机构，装置主体包括扫描头组件1、场镜组件2、光掩膜3、固定件4和光学原件5，场镜组件2和扫描头组件1均安装在安装架上，扫描头组件1设置在场镜组件2左侧，光学原件5设置在场镜组件2的正下方，光掩膜3通过固定件4可拆卸式固定在光学原件5上端面，固定件4通过铰链安装在光学原件5上端面，遮光机构6设置在场镜组件2下端，遮光机构6包括安装块61、滑轨62、滑块63和遮光板64，安装块61、滑轨62和滑块63均设有两个，两个安装块61对称固定在场镜组件2下端，两个滑轨62分别对称固定在安装块61右端面，两个滑块63分别位于两个滑轨62内部。

固定件4设有六个，六个固定件4等距排布在光学原件5上端面棱角处，场镜组件2与光学原件5轴心线重合，光掩膜3下端面设置有晶圆加工件，扫描头组件1与场镜组件2均设有两个，两个扫描头组件1对称安装在安装架上，两个场镜组件2对称安装在安装架上。

本实用新型在工作时：光掩模是使用高精度半导体设备制成，光掩模上精确排布了周期性间隔的目标，掩模的精度远远高于扫描场镜的畸变误差，可以把它作为标准件来对待。且光掩模上目标的分布范围大于扫描场镜的扫描范围。我们在通往激光扫描振镜的光路中添加一个同轴成像系统，并使用照明系统让光掩模上的目标能够经过场镜后在同轴相机上清晰成像。同轴成像下获得的掩模目标位置已经包含了场镜的畸变误差，经过和掩模目标的实际位置比较后，畸变误差就可以被分离出来，用来补偿激光扫描场镜的畸变。场镜畸变被补偿后，使用同样方法可以验证补偿后的精度。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点，对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种扫描场镜畸变校准装置，包括装置主体和遮光机构（6），其特征在于：所述装置主体包括扫描头组件（1）、场镜组件（2）、光掩膜（3）、固定件（4）和光学原件（5），所述场镜组件（2）和扫描头组件（1）均安装在安装架上，所述扫描头组件（1）设置在场镜组件（2）左侧，所述光学原件（5）设置在场镜组件（2）的正下方，所述光掩膜（3）通过固定件（4）可拆卸式固定在光学原件（5）上端面，所述固定件（4）通过铰链安装在光学原件（5）上端面；

所述遮光机构（6）设置在场镜组件（2）下端，所述遮光机构（6）包括安装块（61）、滑轨（62）、滑块（63）和遮光板（64），所述安装块（61）、滑轨（62）和滑块（63）均设有两个，两个所述安装块（61）对称固定在场镜组件（2）下端，两个所述滑轨（62）分别对称固定在安装块（61）右端面，两个所述滑块（63）分别位于两个滑轨（62）内部。

2.根据权利要求1所述的一种扫描场镜畸变校准装置，其特征在于：所述固定件（4）设有六个，六个所述固定件（4）等距排布在光学原件（5）上端面棱角处。

3.根据权利要求1所述的一种扫描场镜畸变校准装置，其特征在于：所述场镜组件（2）与光学原件（5）轴心线重合。

4.根据权利要求1所述的一种扫描场镜畸变校准装置，其特征在于：所述光掩膜（3）下端面设置有晶圆加工件。

5.根据权利要求1所述的一种扫描场镜畸变校准装置，其特征在于：所述扫描头组件（1）与场镜组件（2）均设有两个，两个所述扫描头组件（1）对称安装在安装架上，两个所述场镜组件（2）对称安装在安装架上。