CN207102544U - 一种固体物料自动上料机 - Google Patents

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徐大鹏
冯英
张成龙
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Guangxi Xintiande Energy Co ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种固体物料自动上料机,包括电机、固定在支架上的传送带和料斗,所述传送带由电机控制,所述传送带中部设有凹槽,所述料斗位于传送带一端上方,所述料斗底部与传送带紧密相切,所述料斗底部漏料口与凹槽相匹配,所述传送带另一端连接进料口,所述传送带倾斜设置,料斗端高、进料口端低。本实用新型的有益效果是:使用本实用新型在避免工人身体不受到损害的前提下,弥补了人工加料的不足,操作方便,使加料更加精确,加料速度均匀,同时加料速度可调,避免了反应设备中局部浓度过大对最终产品质量的影响。

Description

一种固体物料自动上料机
技术领域
本实用新型属于化工产品的加料装置技术领域,具体的说涉及一种固体物料自动上料机。
背景技术
在化工产品生产过程中,需要向反应釜中投入固体原料和液体原料,液体原料通常采用计量罐和计量泵精确滴加;固体原料一般为人工从人孔中投入反应设备中,此举存在很大的弊端,一方面,化工原料大部分为有毒有害物质,对人体或多或少都有伤害,人工投料不利于投料工人的身体健康;另一方面,不能满足固体原料缓慢均匀加入反应设备中这一要求,反应设备中极易发生局部固体原料浓度过高现象,不利于产品质量的控制。
实用新型内容
本实用新型的目的是为克服上述现有技术的不足,提供了一种固体物料自动上料机。
为实现上述目的,本实用新型采用下述技术方案:一种固体物料自动上料机,包括电机、固定在支架上的传送带和料斗,所述传送带由电机控制,所述传送带中部设有凹槽,所述料斗位于传送带一端上方,所述料斗底部与传送带紧密相切,所述料斗底部漏料口与凹槽相匹配,所述传送带另一端连接进料口,所述传送带倾斜设置,料斗端高、进料口端低。
作为优化的,所述凹槽与传送带运动方向一致且分布于整个传送带上。
作为优化的,所述传送带与水平面夹角为10-45°。
作为优化的,所述传送带与进料口接触位置基部设有可拆卸清扫凹槽的清扫刷。
本实用新型的有益效果是:使用本使用新型在避免工人身体不受到损害的前提下,弥补了人工加料的不足,操作方便,使加料更加精确,加料速度均匀,同时加料速度可调,避免了反应设备中局部浓度过大对最终产品质量的影响。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的结构示意图;
图中所示:1、料斗,2、电机,3、支架,4、传送带,5、凹槽,6、漏料口,7、清扫刷。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1所示的一种固体物料自动上料机,包括电机2、固定在支架3上的传送带4和料斗1,所述传送带4由电机2控制,所述传送带4中部设有凹槽5,所述料斗1位于传送带4一端上方,所述料斗1底部与传送带4紧密相切,所述料斗底部漏料口6与凹槽5相匹配,进料时,固体物料通过料斗1底部漏料口进入凹槽5内,固体物料从料斗1下方向前运动时,由于料斗1底部与传送带4相切,固体物料仅存在于凹槽5中,可以根据需要,调整传送带4的运行速度,进而控制进料量。传送带向进料口运动,倾斜设置,与水平面夹角为10-45°,料斗端高、进料口端低。所述传送带4与进料口接触位置基部设有清扫凹槽的可拆卸清扫刷7。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (4)

1.一种固体物料自动上料机,包括电机、固定在支架上的传送带和料斗,所述传送带由电机控制,其特征在于:所述传送带中部设有凹槽,所述料斗位于传送带一端上方,所述料斗底部与传送带紧密相切,所述料斗底部漏料口与凹槽相匹配,所述传送带另一端连接进料口,所述传送带倾斜设置,料斗端高、进料口端低。
2.根据权利要求1所述的一种固体物料自动上料机,其特征在于:所述凹槽与传送带运动方向一致且分布于整个传送带上。
3.根据权利要求1所述的一种固体物料自动上料机,其特征在于:所述传送带与水平面夹角为10-45°。
4.根据权利要求1所述的一种固体物料自动上料机,其特征在于:所述传送带与进料口接触位置基部设有清扫凹槽的可拆卸清扫刷。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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