CN207067963U - 一种触控基板和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种触控基板和显示装置，属于显示设备领域。该触控基板包括保护盖板和设置在保护盖板上的触控层，触控层和保护盖板之间设有第一消隐层，触控层的远离保护盖板的一侧设有第二消隐层，通过在触控层的相反的两侧分别设置第一消隐层和第二消隐层，相比于现有的触控面板中只在触控层的一侧设置消隐层，可以进一步提高触控层的透过率，减少触控层的反光对显示画面的影响。

Description

一种触控基板和显示装置
技术领域
本实用新型涉及显示设备领域，特别涉及一种触控基板和显示装置。
背景技术
触控面板是一种兼具显示和指令输入功能的显示器件。用户可以用手或物体直接与触控面板接触，触控面板可以检测到触摸点，并根据用户触摸的区域做出相应的响应。目前的触控面板中，OGS(One Glass Solution，单片式触控面板)触控面板由于制作工艺简单，因此使用范围比较广泛。
OGS触控面板包括层叠的显示模组、触控层和保护玻璃，其中触控层直接制作在保护玻璃上。触控层通常采用透明导电氧化物制作，通过刻蚀等工艺形成触控层的图案。由于OGS触控面板的触控层设置在保护玻璃上，距离OGS触控面板的表层较近，使得触控层的图案在环境光的照射下很容易被人眼察觉到，因此会影响到使用者的使用体验。为了避免人眼察觉到触控层的图案，在触控层和保护玻璃之间增加了IM(Index Matching，折射率匹配)膜(又称消隐膜)，以减小透明导电氧化物的反射率，降低图案与其他区域之间的视觉反差，使得图案的线条在环境光下变淡，实现图案的消隐。
发明人在实现本实用新型的过程中发现，现有技术中至少存在以下技术问题：
尽管设置了IM膜可以减小反射率，实现图案的消隐，但是现有的触控面板的反射率仍然不能满足较高的显示要求。
实用新型内容
为了解决如何减少触控面板的反射率，以减少环境光对显示画面的影响的问题，本实用新型实施例提供了一种触控基板和显示装置。所述技术方案如下：
一方面，本实用新型实施例提供了一种触控基板，所述触控基板包括保护盖板和设置在所述保护盖板上的触控层，所述触控层和所述保护盖板之间设有第一消隐层，所述触控层的远离所述保护盖板的一侧设有第二消隐层。
可选地，所述第一消隐层为至少一组子层构成的周期结构，所述第二消隐层为单层结构。
优选地，所述第一消隐层的每组子层均包括层叠的第一子层和第二子层，所述第一子层的折射率大于所述第二子层的折射率，其中，所述第一子层为每组子层中，较靠近所述保护盖板的子层。
进一步地，当所述第一消隐层包括至少两组子层时，所述第一消隐层的不同组子层中的第一子层的折射率相同且厚度不同，并且所述第一消隐层的不同组子层中的第二子层的折射率相同且厚度不同。
优选地，所述第一消隐层的第一子层为NbO层，所述第一消隐层的第二子层为SiO2层。
优选地，所述第一消隐层的第一子层的厚度为40埃～140埃，所述第一消隐层的第二子层的厚度为350埃～450埃。
可选地，所述第二消隐层为SiON层。
进一步地，所述第二消隐层的厚度为650埃～750埃。
优选地，所述保护盖板上还设置有增透层，所述增透层位于所述第一消隐层和所述保护盖板之间，或者，所述增透层和所述第一消隐层分别位于所述保护盖板的两侧面。
进一步地，所述增透层为至少一组子层构成的周期结构，所述增透层的每组子层均包括层叠的第一子层和第二子层，所述增透层的第一子层的折射率大于所述增透层的第二子层的折射率，其中，所述增透层的第一子层为每组子层中，较靠近所述保护盖板的子层。
进一步地，当所述增透层包括至少两组子层时，所述增透层的不同组子层中的第一子层的折射率相同且厚度不同，并且所述增透层的不同组子层中的第二子层的折射率相同且厚度不同。
可选地，所述增透层的第一子层为NbO层，所述增透层的第二子层为SiO2层。
进一步地，所述增透层包括2组子层。
进一步地，所述增透层的第一组子层中的第一子层的厚度为140埃～240埃，第二子层的厚度为190埃～290埃，所述增透层的第二组子层中的第一子层的厚度为1080埃～1180埃，第二子层的厚度为780埃～880埃，其中所述增透层的第一组子层为所述增透层中较靠近所述保护盖板的一组子层。
另一方面，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括前述的任一种触控基板。
本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果是：通过在触控层的相反的两侧分别设置第一消隐层和第二消隐层，相比于现有的触控面板中只在触控层的一侧设置消隐层，可以进一步提高触控层的透过率，减少触控层的反光对显示画面的影响。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型实施例提供的一种触控基板的结构示意图；
图2是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图；
图3是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图；
图4是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图；
图5是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图；
图6是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
图1是本实用新型实施例提供的一种触控基板的结构示意图。如图1所示，该触控基板包括保护盖板10、触控层30、第一消隐层20和第二消隐层40，触控层30设置在保护盖板10上，第一消隐层20设置在触控层30和保护盖板10之间，第二消隐层40设置在触控层30的远离保护盖板10的一侧。
保护盖板10由透明材料制成，可以是但不限于是玻璃或树脂。
触控层30包括触控电极和与触控电极连接的引线，触控电极和引线均可以采用透明导电材料制成，例如ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)。
本实用新型实施例通过在触控层的相反的两侧分别设置第一消隐层和第二消隐层，相比于现有的触控面板中只在触控层的一侧设置消隐层，可以进一步提高触控层的透过率，使触控层30在可见光下更加不易被察觉，同时还可以减少触控层的反光对显示画面的影响。
实现时，第一消隐层20可以为至少一组子层构成的周期结构，每组子层均包括第一子层21和第二子层22，其中，周期结构指当周期数大于1时，第一消隐层20的不同组子层中的第一子层21的材料相同，不同组子层中的第二子层22的材料相同。采用周期结构可以只需要两种材料制作第一消隐层20，便于制作。
具体地，如图1所示，第一消隐层20包括层叠设置的第一子层21和第二子层22，其中，第一子层21的折射率大于第二子层22的折射率，且第一子层21较靠近保护盖板10。由于第一子层21和第二子层22之间的折射率存在差异，从而可以借助光的相消干涉原理减少反射光，使触控层30在可见光下不可见。
具体地，第一消隐层20的第一子层21可以为NbO层，第一消隐层20的第二子层22可以为SiO2层。NbO和SiO2均为透明材料，可以减少对光线的吸收，NbO的折射率为2.3，SiO2的折射率为1.47。
进一步地，第一消隐层20的第一子层21的厚度可以为40埃～140埃，第一消隐层20的第二子层22的厚度可以为350埃～450埃。NbO层的厚度和SiO2层的厚度会影响第一消隐层20对不同波长的光的反射率和透过率，该厚度搭配下的第一消隐层20对波长为550nm左右的光有较低的反射率和较高的透过率。
图2是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图。图2所示的触控基板的结构与图1所示的触控基板的结构基本相同，不同之处在于，图2所示的触控基板的第一消隐层20包括层叠设置的两组子层，每组子层均包括第一子层21和第二子层22，两组子层的厚度不同。由于一组子层只能使某一波长范围内的光线的透过率提高，反射率降低，通过设置两组子层，两组子层的厚度不同，使得两组子层的光学厚度也不同，通过改变两组子层的光学厚度，可以使更大波长范围的光线的透过率提高，反射率降低。
在其他实施例中，第一消隐层20还可以包括层叠设置的更多组子层，当第一消隐层20包括至少两组子层时，当第一消隐层20包括至少两组子层时，第一消隐层20的不同组子层中的第一子层21的折射率相同且厚度不同，并且第一消隐层20的不同组子层中的第二子层22的折射率相同且厚度不同。第一消隐层20的每组子层均可以包括层叠的第一子层21和第二子层22，第一子层21的折射率均大于第二子层22的折射率，其中，第一子层21为每组子层中，较靠近保护盖板10的子层，由于第一子层21的折射率均相同，第二子层22的折射率相同，因此可以通过改变第一子层21和第二子层22的厚度，使得每组子层的光学厚度也不同，从而可以使更大波长范围的光线的透过率提高，反射率降低。由于光学厚度等于几何厚度与折射率的乘积，因此可以通过改变折射率或者几何厚度进行调整光学厚度，而折射率与材料和工艺都有关，通过折射率不变，改变几何厚度的形式改变每组子层的光学厚度，工艺更简单，便于制作。
在图1或图2所示触控基板中，第二消隐层40可以为单层结构。由于光线在穿透触控基板的各层的同时会在相邻两层的界面处发生反射，且在较靠近光线入射一侧的界面上发生的反射更强，因此将第一消隐层20设置为周期结构可以更加利于减小触控层30与保护盖板10之间的界面处发生的反射，而将第二消隐层40设置为单层结构可以在进一步提高触控基板的透过率的情况下降低触控基板的厚度。
具体地，第二消隐40层可以为SiON层。SiON为透明材料，SiON的折射率为1.65。
进一步地，第二消隐层40的厚度可以为650埃～750埃。在该厚度范围内的SiON层对波长为550nm左右的光有较低的反射率和较高的透过率。
此外，在第二消隐层40的远离触控层30的一侧上还可以涂覆有OCA(OpticallyClear Adhesive，光学胶)，以便于将触控基板与显示模组相贴合。
图3是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图。图3所示的触控基板的结构与图1所示的触控基板的结构基本相同，不同之处在于，图3所示的触控基板还包括增透层50，增透层50和第一消隐层20分别位于保护盖板10的两侧面。通过在保护盖板上设置增透层50，以降低保护盖板10对环境光的反射，增大保护盖板10的透过率，从而提高画面显示的效果。同时，由于反射减少后，触控面板在熄屏状态下，反射的环境光也减少，人眼会觉得触控面板的显示区域会更暗，使得显示区域与非显示区域之间的亮度更加接近，非显示区域包括BM(black matrix，黑矩阵)区域和边框区域，有利于实现显示器件中面板与边框的一体黑，增强美感。
实现时，所述增透层50可以为至少一组子层构成的周期结构，每组子层均包括第一子层51和第二子层52，其中，周期结构指当周期数大于1时，增透层50的不同组子层中的第一子层51的材料相同，不同组子层中的第二子层52的材料相同。采用周期结构可以只需要两种材料制作增透层50，便于制作。
如图3所示，增透层50可以包括层叠设置的第一子层51和第二子层52，增透层50的第一子层51的折射率大于增透层50的第二子层52的折射率，且第一子层51较靠近保护盖板10。由于第一子层51和第二子层52之间的折射率存在差异，在第一子层51和第二子层52的表面上的反射光存在相位差，从而可以借助光的相消干涉原理减少反射光，增加透过率。
具体地，增透层50的第一子层51可以为NbO层，增透层50的第二子层52可以为SiO2层。NbO和SiO2均为透明材料，可以减少增透层50对光线的吸收。
进一步地，在本实施例中，增透层50的第一子层51的厚度可以为900埃～1000埃，第二子层52的厚度可以为800埃～900埃。
图4是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图，图4所示的触控基板的结构与图3所示的触控基板的结构基本相同，不同之处在于，图4所示的触控基板中，增透层50位于第一消隐层20和保护盖板10之间。
图5是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图，图5所示的触控基板的结构与图3所示的触控基板的结构基本相同，不同之处在于，在图5所示的触控基板中，增透层50包括层叠设置的两组子层，每组子层的厚度不同，增透层50的每组子层均可以包括层叠的第一子层51和第二子层52。由于一组子层只能使某一波长范围内的光线的透过率提高，反射率降低，通过设置两组子层，两组子层的厚度不同，使得两组子层的光学厚度也不同，通过改变两组子层的光学厚度，可以使更大波长范围的光线的透过率提高，反射率降低。设置两组子层可以使得增透层既具有较高的透过率和较低的反射率，又可以减少层叠的层数，便于制造。
进一步地，增透层50的第一组子层中的第一子层51的厚度可以为140埃～240埃，第二子层52的厚度可以为190埃～290埃，增透层50的第二组子层中的第一子层51的厚度可以为1080埃～1180埃，第二子层52的厚度可以为780埃～880埃，其中，增透层50的第一组子层为增透层50中较靠近保护盖板10的一组子层。采用该厚度搭配的增透层50的具有较高的透过率和较低的反射率，有利于进一步提高画面显示的效果，使熄屏时，触控面板的显示区域与非显示区域之间的亮度更加接近。
设置第一消隐层20、第二消隐层40可以提高触控层30的透过率和降低触控层30的反射率，增透层50可以提高保护盖板10的透过率和降低保护盖板10的反射率，通过同时设置第一消隐层20、第二消隐层40和包括两组子层的增透层50，可以使触控基板对550nm波长的可见光的透过率达到94％以上，550nm位于可见光波段的中间位置，使550nm波长的可见光的透过率达到94％以上，反射率达到5％以下，则在可见光波段中，临近550nm波长的可见光也具有较高的透过率，有利于提高画面显示的效果。
在其他实施例中，增透层50也可以是包括更多组子层的周期结构，当增透层50包括至少两组子层时，增透层50的不同组子层中的第一子层51的折射率相同且厚度不同，并且增透层50的不同组子层中的第二子层52的折射率相同且厚度不同。增透层50的每组子层均可以包括层叠的第一子层51和第二子层52，增透层50的第一子层51的折射率均大于增透层50的第二子层52的折射率。由于增透层50的第一子层51的折射率均相同，第二子层52的折射率相同，因此可以通过改变第一子层51和第二子层52的厚度，使得每组子层的光学厚度也不同，从而可以使更大波长范围的光线的透过率提高，反射率降低。光学厚度可以通过改变折射率或者厚度进行调整，通过改变厚度的形式改变每组子层的光学厚度，工艺更简单，便于制作。且由于每组子层的厚度不同，使得每组子层的光学厚度也不同，从而可以使更大波长范围的光线的透过率提高，反射率降低。
图6是本实用新型实施例提供的另一种触控基板的结构示意图。图6所示的触控基板的结构与图5所示的触控基板的结构基本相同，不同之处在于，图6所示的触控基板中，增透层50设置在保护盖板10的靠近触控层30的一侧。
需要说明的是，虽然图5和图6所示的触控基板中的第一消隐层20均只包括一组子层，但是在其他实施例中，第一消隐层20也可以包括两组或是两组以上的子层，本实用新型并不以此为限。
在制作本实用新型实施例所提供的触控基板时，第一消隐层20、第二消隐层40以及增透层50均可以采用溅镀的方式制作。
本实用新型实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括前述的任意一种触控基板。
该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。对于该显示装置的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的，在此不做赘述，也不应作为对本实用新型的限制。
本实用新型实施例通过在触控层的相反的两侧分别设置第一消隐层和第二消隐层，相比于现有的触控面板中只在触控层的一侧设置消隐层，可以进一步提高触控层的透过率，减少触控层的反光对显示画面的影响。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (15)

1.一种触控基板，所述触控基板包括保护盖板和设置在所述保护盖板上的触控层，其特征在于，所述触控层和所述保护盖板之间设有第一消隐层，所述触控层的远离所述保护盖板的一侧设有第二消隐层。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一消隐层为至少一组子层构成的周期结构，所述第二消隐层为单层结构。
3.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述第一消隐层的每组子层均包括层叠的第一子层和第二子层，所述第一子层的折射率大于所述第二子层的折射率，其中，所述第一子层为每组子层中，较靠近所述保护盖板的子层。
4.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，当所述第一消隐层包括至少两组子层时，所述第一消隐层的不同组子层中的第一子层的折射率相同且厚度不同，并且所述第一消隐层的不同组子层中的第二子层的折射率相同且厚度不同。
5.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述第一消隐层的第一子层为NbO层，所述第一消隐层的第二子层为SiO2层。
6.根据权利要求5所述的触控基板，其特征在于，所述第一消隐层的第一子层的厚度为40埃～140埃，所述第一消隐层的第二子层的厚度为350埃～450埃。
7.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述第二消隐层为SiON层。
8.根据权利要求7所述的触控基板，其特征在于，所述第二消隐层的厚度为650埃～750埃。
9.根据权利要求1～8任一项所述的触控基板，其特征在于，所述保护盖板上还设置有增透层，所述增透层位于所述第一消隐层和所述保护盖板之间，或者，所述增透层和所述第一消隐层分别位于所述保护盖板的两侧面。
10.根据权利要求9所述的触控基板，其特征在于，所述增透层为至少一组子层构成的周期结构，所述增透层的每组子层均包括层叠的第一子层和第二子层，所述增透层的第一子层的折射率大于所述增透层的第二子层的折射率，其中，所述增透层的第一子层为每组子层中，较靠近所述保护盖板的子层。
11.根据权利要求10所述的触控基板，其特征在于，当所述增透层包括至少两组子层时，所述增透层的不同组子层中的第一子层的折射率相同且厚度不同，并且所述增透层的不同组子层中的第二子层的折射率相同且厚度不同。
12.根据权利要求10所述的触控基板，其特征在于，所述增透层的第一子层为NbO层，所述增透层的第二子层为SiO2层。
13.根据权利要求12所述的触控基板，其特征在于，所述增透层包括2组子层。
14.根据权利要求13所述的触控基板，其特征在于，所述增透层的第一组子层中的第一子层的厚度为140埃～240埃，第二子层的厚度为190埃～290埃，所述增透层的第二组子层中的第一子层的厚度为1080埃～1180埃，第二子层的厚度为780埃～880埃，其中所述增透层的第一组子层为所述增透层中较靠近所述保护盖板的一组子层。
15.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1～14任一项所述的触控基板。
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