CN207031534U - 一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，包括冷却管、靶材、磁座，所述冷却管外部设置有所述磁座，所述磁座边缘设置有第一条形磁铁，所述第一条形磁铁旁边设置有第二条形磁铁，所述第一条形磁铁与所述第二条形磁铁之间设置有固定座，所述固定座上设置有吸盘，所述吸盘上设置有所述靶材。有益效果在于：环形结构，保证所述靶材的每个部位均受到轰击，提高了利用率，而且更换简单，方便，内部零件可以继续使用，降低了成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜技术领域，特别是涉及一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置。
背景技术
所谓镀膜，就是在固体表面上镀上一层与基体材料不同的薄层材料，从而改变表面的基体性质的技术。ITO导电玻璃镀膜技术，即通过磁控溅射的方法将氧化铟锡(简称ITO)靶材，溅射沉积到玻璃表面，从而形成一层透明导电的氧化物薄膜。所谓“溅射”就是用荷能粒子(通常是气体的正离子)轰击物体，从而引起物理表面原子从母体中逸出的现象。型连续性真空镀膜设备，主要是在真空的环境下连续不断的将靶材溅射沉积到玻璃基板上。靶材从更换到用完，其寿命直接影响了镀膜产品的成本。尤其是ITO导电玻璃镀膜行业，因氧化铟锡的价格极其昂贵，溅射用靶材的成本占产品成本的三分之一以上，故提高溅射靶材的利用率一直是镀膜行业技术人员追求的方向。现有的技术存在的主要问题是靶材使用后更换时连带磁铁等材料全部丢弃，造成了极大的浪费，提高了镀膜的成本。
实用新型内容
本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置。
本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：
一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，包括冷却管、靶材、磁座，所述冷却管外部设置有所述磁座，所述磁座边缘设置有第一条形磁铁，所述第一条形磁铁旁边设置有第二条形磁铁，所述第一条形磁铁与所述第二条形磁铁之间设置有固定座6，所述固定座6上设置有吸盘，所述吸盘上设置有所述靶材。
上述结构中，所述磁座为可旋转结构，进行镀膜时，所述磁座带动所述靶材以一定的速度匀速旋转，气体离子轰击所述靶材表面，穿过所述第一条形磁铁和所述第二条形磁铁形成的磁力网，与旋转的所述靶材接触后内部的原子溅射而出从而射到玻璃基板上，当所述靶材不能继续使用时，只需更换外部的所述靶材，将新的所述靶材固定在所述吸盘上即可再次使用。
进一步的，所述磁座间隙配合嵌套在所述冷却管外部，所述冷却管内部设置有冷却液后冷却气体。
进一步的，所述第一条形磁铁共有三个，三个所述第一条形磁铁均匀镶嵌在所述磁座侧壁上。
进一步的，所述第二条形磁铁共有三个，三个所述第二条形磁铁均匀镶嵌在所述磁座侧壁上。
进一步的，三个所述第一条形磁铁和三个所述第二条形磁铁交错分布。
进一步的，所述第一条形磁铁和所述第二条形磁铁的磁极相反。
进一步的，所述固定座6共有三/六个，所述固定座6通过螺钉均匀固定在所述磁座外壁上。
进一步的，所述固定座6采用非金属材料制成。
进一步的，所述吸盘嵌套在所述固定座6顶部，所述吸盘为长方形。
进一步的，所述靶材吸附在所述吸盘上，所述靶材围绕所述磁座一周形成筒型结构，所述靶材的连接处通过胶水粘结在一起。
本实用新型的有益效果在于：环形结构，保证所述靶材的每个部位均受到轰击，提高了利用率，而且更换简单，方便，内部零件可以继续使用，降低了成本。
附图说明
图1是本实用新型所述一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置的横断面结构简图。
附图标记说明如下：
1、靶材；2、第一条形磁铁；3、磁座；4、冷却管；5、第二条形磁铁；6、固定座6；7、吸盘。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明：
如图1所示，一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，包括冷却管4、靶材1、磁座3，冷却管4外部设置有磁座3，磁座3边缘设置有第一条形磁铁2，第一条形磁铁2旁边设置有第二条形磁铁5，第一条形磁铁2与第二条形磁铁5之间设置有固定座6，固定座6上设置有吸盘7，吸盘7上设置有靶材1。
上述结构中，磁座3为可旋转结构，进行镀膜时，磁座3带动靶材1以一定的速度匀速旋转，气体离子轰击靶材1表面，穿过第一条形磁铁2和第二条形磁铁5形成的磁力网，与旋转的靶材1接触后内部的原子溅射而出从而射到玻璃基板上，当靶材1不能继续使用时，只需更换外部的靶材1，将新的靶材1固定在吸盘7上即可再次使用。
进一步的，磁座3间隙配合嵌套在冷却管4外部，冷却管4内部设置有冷却液后冷却气体，第一条形磁铁2共有三个，三个第一条形磁铁2均匀镶嵌在磁座3侧壁上，第二条形磁铁5共有三个，三个第二条形磁铁5均匀镶嵌在磁座3侧壁上，三个第一条形磁铁2和三个第二条形磁铁5交错分布，第一条形磁铁2和第二条形磁铁5的磁极相反，固定座6共有三/六个，固定座6通过螺钉均匀固定在磁座3外壁上，固定座6采用非金属材料制成，吸盘7嵌套在固定座6顶部，吸盘7为长方形，靶材1吸附在吸盘7上，靶材1围绕磁座3一周形成筒型结构，靶材1的连接处通过胶水粘结在一起。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。
Claims (10)
1.一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：包括冷却管（4）、靶材（1）、磁座3，所述冷却管（4）外部设置有所述磁座3，所述磁座3边缘设置有第一条形磁铁（2），所述第一条形磁铁（2）旁边设置有第二条形磁铁（5），所述第一条形磁铁（2）与所述第二条形磁铁（5）之间设置有固定座（6），所述固定座（6）上设置有吸盘（7），所述吸盘（7）上设置有所述靶材（1）。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述磁座3间隙配合嵌套在所述冷却管（4）外部，所述冷却管（4）内部设置有冷却液后冷却气体。
3.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述第一条形磁铁（2）共有三个，三个所述第一条形磁铁（2）均匀镶嵌在所述磁座3侧壁上。
4.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述第二条形磁铁（5）共有三个，三个所述第二条形磁铁（5）均匀镶嵌在所述磁座3侧壁上。
5.根据权利要求1、3、4中任意一项所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：三个所述第一条形磁铁（2）和三个所述第二条形磁铁（5）交错分布。
6.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述第一条形磁铁（2）和所述第二条形磁铁（5）的磁极相反。
7.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述固定座（6）共有三/六个，所述固定座（6）通过螺钉均匀固定在所述磁座3外壁上。
8.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述固定座（6）采用非金属材料制成。
9.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述吸盘（7）嵌套在所述固定座（6）顶部，所述吸盘（7）为长方形。
10.根据权利要求1所述的一种镀膜工艺用可重复利用靶材装置，其特征在于：所述靶材（1）吸附在所述吸盘（7）上，所述靶材（1）围绕所述磁座3一周形成筒型结构，所述靶材（1）的连接处通过胶水粘结在一起。
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- 2017-06-27 CN CN201720757298.XU patent/CN207031534U/zh not_active Expired - Fee Related
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