CN206992133U - 一种应用于多结太阳能电池的复合dbr结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构,包括按层状结构依次叠加的3~15层AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层和5~25层AlInP/AlGaInP组合层,AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层和AlInP/AlGaInP组合层的层数总和不超过35层,AlInP/AlGaInP组合层是由层状叠加的AlInP层和AlGaInP层构成,AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层是由层状叠加的AlAs/AlxOy组合层和AlGaInAs层构成,AlAs/AlxOy组合层中的AlxOy是由一部分AlAs经过高温湿法氧化而成,且生成的AlxOy折射率比余下的AlAs低,从而能拓宽DBR的反射光子范围。本实用新型可以避免传统DBR结构反射光子能量的范围不够宽,造成E+ΔE范围内一部分高能粒子不能被有效吸收的情况,将DBR本身的优势作用发挥到极致。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能光伏发电的技术领域,尤其是指一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构。
背景技术
近年来,不断有通讯报道航空航天科技取得令人瞩目的新成果,说明其相关领域的技术水也在不断进步和提高。其中,空间电源是航天器通信、数据传输、空间观测以及试验研究的能量来源,随着世界宇航业的迅猛发展和空间竞争的不断加剧,对空间主电源提出了更高的要求:长寿命、高功率、耐高温、低成本,这也是空间电源研究和提升的方向。
高效三结GaAs太阳电池与目前广泛使用的硅太阳电池相比,具有更高的光电转换效率、更强的抗辐照能力、更好的耐高温性能、更小的重量,是国际公认最具竞争力的新一代太阳电池,正在航天领域逐步得到广泛应用。但实际上,GaInP/GaAs/Ge三结太阳能电池作为砷化镓多结电池的主流结构,其带隙组合1.85/1.42/0.67eV对于太阳光光谱并不是最佳的,原因在于Ge底电池的短路电流要比中电池和顶电池的大很多,由于串联结构的电流限制原因,造成很大部分底电池电流转换成热量损失掉。为了提高电池性能,途径一是调整优化带隙组成,即通过提高中顶电池的In组分将带隙调整为1.82~1.87/1.3~1.4/0.67eV;途径二是增加电池结数充分吸收利用光谱能量,比如AlGaInP/AlGaInAs/GaInAs/Ga1-3yIn3yNyAs1-y/Ga1-3xIn3xNxAs1-x/Ge六结太阳能电池结构设计。目前,途径一是日渐趋于成熟的技术路线。设计与实验表明,为了将分段光谱能量充分吸收,各子电池厚度必须足够厚,基本在2~3.5微米,这种情况下,太阳能电池在太空环境中受到大量高能粒子辐照,材料质量变差,尤其是砷化物子电池更为严重,导致各子电池性能有不同程度地衰减,最终影响电池整体的性能。
研究表明,在子电池下方加入适当的DBR(Distributed Brag Reflector分布式布拉格反射层)结构可以在很大程度上使问题得到缓解。这是因为通过调节DBR结构反射相应波段的太阳光,可使初次没有被材料吸收的光子反射回去被二次吸收,相当于变相地增加了“有效吸收厚度”,因此该子电池设计厚度得以大幅降低,电池厚度减薄可以使电池的抗辐照性能显著提升,对于材料质量差少子寿命短的材料还可有效提高少子收集数量。
然而,传统DBR结构的反射波段较窄,不能够很好地涵盖子电池的吸收波段,比如带隙组合1.85/1.33/0.67eV三结电池的中子电池,本该吸收波段670~920nm,但由于材料本身性质的限制,传统DBR(一般为AlGaInAs/AlGaInAs组合层)反射波段仅涵盖150nm左右,导致部分光子不能被反射回有源区再次吸收利用。如果用两种DBR范围的组合层材料简单叠加,每套DBR必须生长足够的对数才会达到理想反射效果,这无疑会增加整体DBR厚度,提高外延源耗及时间成本。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点与不足,提供了一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构,可以避免传统DBR结构反射光子能量的范围不够宽,造成E+ΔE范围内一部分高能粒子不能被有效吸收的情况,将DBR本身的优势作用发挥到极致,最终提高电池整体光电转换效率。
为实现上述目的,本实用新型所提供的技术方案为:一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构,包括按层状结构依次叠加的3~15层AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层和5~25层AlInP/AlGaInP组合层,所述AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层和AlInP/AlGaInP组合层的层数总和不超过35层,且该AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层中的x=1,2,3,4…,y=1,2,3,4…;所述AlInP/AlGaInP组合层是由层状叠加的AlInP层和AlGaInP层构成,所述AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层是由层状叠加的AlAs/AlxOy组合层和AlGaInAs层构成,其中,所述AlAs/AlxOy组合层中的AlxOy是由一部分AlAs经过高温湿法氧化而成,且生成的AlxOy折射率比余下的AlAs低,从而能拓宽DBR的反射光子范围。
所述AlInP层、AlGaInP层、AlAs/AlxOy组合层、AlGaInAs层的厚度设计遵循公式:式中,d为厚度,λ为预计反射波段的中心反射波长,n为对应材料的折射率,其中,AlAs/AlxOy组合层选用AlxOy的折射率。
本实用新型与现有技术相比,具有如下优点与有益效果:
1、本实用新型的复合DBR结构联合高温湿法氧化的工艺较传统结构工艺有很大优势,一方面,采用AlAs/AlGaInAs、AlInP/AlGaInP组合DBR加氧化的方法可以在保持反射率效果的基础上展宽反射范围,使透射的光子被二次吸收的几率增加,有利于提高电池效率;另一方面,高温湿法工艺所需装置简单,控制参数为氧化炉压力、氧化温度和时间,在芯片端容易实现稳定工艺。此外,本实用新型的复合DBR总层数较常规DBR几乎没有增加,即不会增加外延成本。总之,本实用新型的复合DBR结构及氧化工艺可以使DBR的反射范围展宽到基本覆盖其子电池的吸收带宽,可进一步减薄基区厚度,降低外延成本,使砷化物子电池抗辐照性能得到一定程度的提升,并使一些材料质量差少子扩散长度较小(如:GaInNAs材料)的问题得到进一步缓解。
2、本实用新型的关键在于通过控制高温湿法氧化的时间等参数,可以准确控制高铝层的氧化深度,保证电池器件整体导通(保留的部分铝砷起连通电池作用,消除AlxOy不导电的影响),在提高太阳能电池转换效率的研究中,本实用新型的复合DBR结构作用可以得到更为极致地应用。
附图说明
图1为本实用新型所述复合DBR结构示意图。
图2为本实用新型所述复合DBR经高温湿法氧化后的效果示意图之一
图3为本实用新型所述复合DBR经高温湿法氧化后的效果示意图之二。
图4为含复合DBR结构的四结太阳能电池示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型作进一步说明。
如图1所示,本实施例所提供的复合DBR结构,包括按层状结构依次叠加的3~15层AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层1和5~25层AlInP/AlGaInP组合层2,所述AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层1和AlInP/AlGaInP组合层2的层数总和不超过35层,且该AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层中的x=1,2,3,4…,y=1,2,3,4…;所述AlInP/AlGaInP组合层2是由层状叠加的AlInP层21和AlGaInP层22构成,所述AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层是由层状叠加的AlAs/AlxOy组合层11和AlGaInAs层12构成,其中,所述AlAs/AlxOy组合层11中的AlxOy(即Al的氧化物)是由一部分AlAs经过高温湿法氧化而成,即AlAs/AlxOy组合层11实质是由AlAs层13通过高温湿法氧化工艺转变而成,具体请见图2和图3所示,且生成的AlxOy折射率比余下的AlAs低,由于生成物AlxOy具有更低的折射率,这样可使得复合DBR反射光子范围拓宽,而保留的部分AlAs起连通电池作用,消除AlxOy不导电的影响。
此外,所述AlInP层21、AlGaInP层22、AlAs/AlxOy组合层11、AlGaInAs层12的厚度设计遵循公式:式中,d为厚度,λ为预计反射波段的中心反射波长,n为对应材料的折射率,其中,AlAs/AlxOy组合层11选用AlxOy的折射率。
如图4所示,为含本实施例上述复合DBR结构的四结太阳能电池,该四结太阳能电池是采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,外延生长过程中沉积复合DBR,电池芯片制程中添加高温湿法氧化的工艺流程。其中,所述四结太阳能电池以Ge单晶片为衬底,即采用Ge衬底01,在所述Ge衬底01上按照层状叠加结构由下至上依次设置有GaInP/GaInAs渐变缓冲层02、第一套复合DBR03、GaInAs子电池04、第二套复合DBR05、AlGaInAs子电池06和AlGaInP子电池07,各子电池之间由隧道结08连接。
所述第一套复合DBR03的反射波长为780~950nm,AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层1的层数为8层,AlInP/AlGaInP组合层2的层数为18层。
所述GaInAs子电池04中GaInAs材料的光学带隙约为1.25~1.3eV。
所述第二套复合DBR05的反射波长为600~780nm,AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层1的层数为6层,AlInP/AlGaInP组合层2的层数为14层。
所述AlGaInAs子电池06中AlGaInAs材料的光学带隙约为1.5~1.6eV。
所述AlGaInP子电池07中AlGaInP材料的光学带隙约为2.1~2.15eV。
本实施例上述的高温湿法氧化工艺作为一种特殊工艺处理步骤,设在芯片制程中的适当工艺段(本实施例优选安排在切割且蒸镀电极保护层之后),经高温湿法氧化后,复合DBR中的一部分AlAs被氧化生成AlxOy和AsH3有毒气体,具体工艺步骤如下:
步骤一:将裸露出切割边的样品(该样品上已沉积有按层状结构依次叠加的3~15层AlAs/AlGaInAs组合层和5~25层AlInP/AlGaInP组合层,其中所述的AlAs/AlGaInAs组合层是由层状叠加的AlAs层13和AlGaInAs层12构成)放置在反应舟内;
步骤二:反应舟置放在密闭腔室,腔室压力恒定(本实施例优先选用1atm),温度100~300℃(本实施例优先选用260℃);
步骤三:以氮气为载气,将载有水蒸气的混合气通入腔室,并记录氧化时间,其中在氧化的过程当中,AlAs层13的部分结构被氧化,生成AlxOy和AsH3有毒气体,即所述AlAs层13最终会被氧化成所需的AlAs/AlxOy组合层11;
步骤四:将尾气(具体是AsH3有毒气体)排出,进行专业妥善处理(本实施例优选通入喷淋式尾气处理器)。
此外,经多次实验验证AlAs氧化总深度不超过电池芯片长度的2/3,而较佳氧化层效果示意图请参见图2和图3所示。
经验证,利用本方案制备的四结太阳能电池,在各子电池的带隙得以优化基础上,结合使用具有更为优异反光效果的DBR可使GaInAs和AlGaInAs子电池更多地吸收太阳光子,显著减弱其对四结太阳能电池短路电流的限流程度,提高转换效率。分析可知,在AM0条件下,传统DBR结构的四结太阳能电池的短路电流(Isc)为16.0mA/cm2,而具有本实用新型的复合DBR结构的四结太阳能电池的Isc可达17.0mA/cm2,且其转换效率可提高至33.4%,具体请参见下表1所示。
表1AM0条件下,含传统DBR结构的四结太阳能电池与含本实用新型的复
合DBR结构的四结太阳能电池的性能比较
电池类型 | Isc(mA/cm2) | Voc(mV) | Pm(W/m2) | FF(%) | Eff(%) |
传统DBR | 16.0 | 3250 | 441.82 | 85 | 32.6 |
复合DBR | 17.0 | 3210 | 452.31 | 83 | 33.4 |
以上所述实施例只为本实用新型之较佳实施例,并非以此限制本实用新型的实施范围,故凡依本实用新型之形状、原理所作的变化,均应涵盖在本实用新型的保护范围内。
Claims (2)
1.一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构,其特征在于:包括按层状结构依次叠加的3~15层AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层和5~25层AlInP/AlGaInP组合层,所述AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层和AlInP/AlGaInP组合层的层数总和不超过35层,且该AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层中的x=1,2,3,4…,y=1,2,3,4…;所述AlInP/AlGaInP组合层是由层状叠加的AlInP层和AlGaInP层构成,所述AlAs/AlxOy/AlGaInAs组合层是由层状叠加的AlAs/AlxOy组合层和AlGaInAs层构成,其中,所述AlAs/AlxOy组合层中的AlxOy是由一部分AlAs经过高温湿法氧化而成,且生成的AlxOy折射率比余下的AlAs低,从而能拓宽DBR的反射光子范围。
2.根据权利要求1所述的一种应用于多结太阳能电池的复合DBR结构,其特征在于:所述AlInP层、AlGaInP层、AlAs/AlxOy组合层、AlGaInAs层的厚度设计遵循公式:式中,d为厚度,λ为预计反射波段的中心反射波长,n为对应材料的折射率,其中,AlAs/AlxOy组合层选用AlxOy的折射率。
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- 2017-07-19 CN CN201720875673.0U patent/CN206992133U/zh active Active
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