CN206982428U - 一种塞规用研磨装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种塞规用研磨装置，包括研磨主体，在所述研磨主体的侧壁上开设有一缺口，所述研磨主体包括胶木层以及设置在胶木层外部的树脂层和金属层，在所述金属层的两端分别设置有一树脂层，所述的金属层和树脂层将所述的胶木层包围，并与胶木层同轴设置，在所述的树脂层以及金属层上设置有数个研磨凸起。本实用新型的优点是：在取出塞规时候，不会再对塞规造成二次伤害，保证了划痕的减少，表面平整度大幅提高。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种塞规用研磨装置。
背景技术
在对塞规研磨时，需要用到研磨工具，以保证塞规表面的光洁度和平整度，而目前的研磨工具（例如砂轮）由于结构设置的缺陷，导致了在研磨过程中，会出现一些划痕，光洁度和平整度欠缺，产生了较多的残次品。
发明内容
为克服现有技术的缺陷，本实用新型提供一种塞规用研磨装置，本实用新型的技术方案是：
一种塞规用研磨装置，包括研磨主体，在所述研磨主体的侧壁上开设有一缺口，所述研磨主体包括胶木层以及设置在胶木层外部的树脂层和金属层，在所述金属层的两端分别设置有一树脂层，所述的金属层和树脂层将所述的胶木层包围，并与胶木层同轴设置，在所述的树脂层以及金属层上设置有数个研磨凸起。
本实用新型的优点是：将研磨主体设置成了层状结构，设置了金属层以及材质较软（相比金属层而言）的树脂层，通过胶木层将金属层和树脂层连接，研磨完成后，在取出塞规时候，不会再对塞规造成二次伤害，保证了划痕的减少，表面平整度大幅提高。
附图说明
图1是本实用新型的主体结构示意图。
图2是图1的俯视图。
具体实施方式
下面结合具体实施例来进一步描述本实用新型，本实用新型的优点和特点将会随着描述而更为清楚。但这些实施例仅是范例性的，并不对本实用新型的范围构成任何限制。本领域技术人员应该理解的是，在不偏离本实用新型的精神和范围下可以对本实用新型技术方案的细节和形式进行修改或替换，但这些修改和替换均落入本实用新型的保护范围内。
参见图1和图2，本实用新型涉及一种塞规用研磨装置，包括研磨主体，在所述研磨主体的侧壁上开设有一缺口5，所述研磨主体包括胶木层2以及设置在胶木层2外部的树脂层4（树脂层采用树脂材料制作而成）和金属层5（采用硬度较强的金属，例如钢、锰等），在所述金属层5的两端分别设置有一树脂层4，所述的金属层5和树脂层4将所述的胶木层2包围，并与胶木层2同轴设置，在所述的树脂层4以及金属层5上设置有数个研磨凸起3。
本实用新型的优点是：将研磨主体设置成了层状结构，设置了金属层以及材质较软的树脂层，通过胶木层将金属层和树脂层连接，研磨完成后，在取出塞规时候，不会再对塞规造成二次伤害。
Claims (1)
1.一种塞规用研磨装置，其特征在于，包括研磨主体，在所述研磨主体的侧壁上开设有一缺口，所述研磨主体包括胶木层以及设置在胶木层外部的树脂层和金属层，在所述金属层的两端分别设置有一树脂层，所述的金属层和树脂层将所述的胶木层包围，并与胶木层同轴设置，在所述的树脂层以及金属层上设置有数个研磨凸起。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201720638012.6U CN206982428U (zh) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 一种塞规用研磨装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN201720638012.6U CN206982428U (zh) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 一种塞规用研磨装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN206982428U true CN206982428U (zh) | 2018-02-09 |
Family
ID=61394952
Family Applications (1)
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| CN201720638012.6U Active CN206982428U (zh) | 2017-06-05 | 2017-06-05 | 一种塞规用研磨装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| CN (1) | CN206982428U (zh) |
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2017
- 2017-06-05 CN CN201720638012.6U patent/CN206982428U/zh active Active
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