CN206912225U - 一种碱性蚀刻液循环再生回用装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,机架、废液暂存槽,所述机架侧面设置有控制器,所述机架上方设置有电解反应槽,所述电解反应槽内部设置有硫酸铜反萃液槽,所述硫酸铜反萃液槽与所述电解反应槽之间设置有单向膜,所述电解反应槽旁边设置有二级水洗槽,所述二级水洗槽旁边设置有三级萃取槽,所述三级萃取槽连接有所述废液暂存槽,所述废液暂存槽连接有蚀刻生产线,所述蚀刻生产线另一端连接有再生液暂存槽,所述再生液暂存槽旁边设置有再生液调配槽,所述再生液调配槽内部设置有浓度检测计,所述二级水洗槽连接有萃取油中转槽。有益效果在于:可以实现循环利用蚀刻液,减少环境污染,降低生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及环保设备技术领域,特别是涉及一种碱性蚀刻液循环再生回用装置。
背景技术
作为电子工业、信息产业和家电行业的基础,近20年来重污染行业之一的印制电路板行业纷纷向中国转移,使得中国的 PCB(印制电路板)行业近年一直保持高于10%的年增长速度,目前有多种规模的 PCB 企业近 3000 家,年产量达到 2 亿平方米,每年消耗精铜在10万吨以上,产出的废液(废蚀刻液)中总铜量在 5 万吨以上,对社会尤其是 PCB 周边地区的水资源构成了严重的危害。蚀刻是 PCB 生产中耗药水量较大的工序,也是产生废液(即危险废物——废蚀刻液,按国家环保总局的废物分类命名)和废水(即一次洗涤废水和二次洗涤废水)最大的工序;一般而言,每生产一平方米正常厚度(18μm)的双面板消耗蚀刻液约为 2—3 升,并出废蚀刻液 2—3 升、一次洗涤废水 50—75 升、二次洗涤废水80——100 升。目前的做法是定时或不定时地从蚀刻槽排出部分铜含量很高的母液——废蚀刻液,同时向其中添加新的蚀刻液。由于蚀刻的最佳铜浓度在 80—100 克/升,而外排时则希望铜浓度越高越好(常在 150——160 克/升),以尽可能提高蚀刻液利用效率,降低溶液总使用量,因此,不论是采用人工间歇排放工艺还是比重控制的连续排放工艺,实际生产中蚀刻液并未处于其最佳技术状态。从经济成本上说,目前的做法对 PCB 企业不利,一方面需花可观的钱购买蚀刻液,外排废蚀刻液交由有处理能力的企业无偿或有偿处理,增加了 PCB 企业的运菅成本和环保压力。
发明内容
本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种碱性蚀刻液循环再生回用装置。
本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:
一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,机架、废液暂存槽,所述机架侧面设置有控制器,所述机架上方设置有电解反应槽,所述电解反应槽内部设置有硫酸铜反萃液槽,所述硫酸铜反萃液槽与所述电解反应槽之间设置有单向膜,所述电解反应槽旁边设置有二级水洗槽,所述二级水洗槽旁边设置有三级萃取槽,所述三级萃取槽连接有所述废液暂存槽,所述废液暂存槽连接有蚀刻生产线,所述蚀刻生产线另一端连接有再生液暂存槽,所述再生液暂存槽旁边设置有再生液调配槽,所述再生液调配槽内部设置有浓度检测计,所述二级水洗槽连接有萃取油中转槽,所述萃取油中转槽旁边设置有洗涤水排放槽。
上述结构中,所述蚀刻生产线排放高含铜(120-130g/L)废液至所述废液暂存槽,高含铜废液经所述废液暂存槽送至所述三级萃取槽,每级萃取可降低废液含铜25-30g/L,大幅被萃取降低铜含量的废液送至所述再生液调配槽进行药剂添加调配,调配好的再生液送至所述再生液暂存槽,由所述再生液暂存槽将合格的再生液送至所述蚀刻生产线使用,萃取油经三级萃取后饱含铜离子再经水洗后进入所述硫酸铜反萃液槽进行反萃取,失去铜离子的萃取油流去所述萃取油中转槽,得到铜离子硫酸铜液进入所述电解反应槽进行电解化学反应,电解反应产生的铜被再次利用制造蚀刻用原液。
进一步的,所述三级萃取槽与所述二级水洗槽连通。
进一步的,所述三级萃取槽与所述再生液调配槽连通。
进一步的,所述电解反应槽外部通过管道再次连接所述硫酸铜反萃液槽。
进一步的,所述二级水洗槽通过管道与所述洗涤水排放槽连通。
进一步的,连接所有工序的管道上均设置有阀门。
进一步的,所述控制器通过螺钉固定在所述机架侧面,所述控制器上设置有触摸操作屏。
本实用新型的有益效果在于:可以实现循环利用蚀刻液,减少环境污染,降低生产成本。
附图说明
图1是本实用新型所述一种碱性蚀刻液循环再生回用装置的结构简图;
图2是本实用新型所述一种碱性蚀刻液循环再生回用装置的工艺流程图;
图3是本实用新型所述一种碱性蚀刻液循环再生回用装置的硫酸铜反萃液循环路向图。
附图标记说明如下:
1、蚀刻生产线;2、废液暂存槽;3、三级萃取槽;4、二级水洗槽;5、电解反应槽;6、萃取油中转槽;7、洗涤水排放槽;8、浓度检测计;9、再生液调配槽;10、再生液暂存槽;11、硫酸铜反萃液槽;12、单向膜;13、机架;14、控制器。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
如图1-图3所示,一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,机架13、废液暂存槽2,机架13侧面设置有控制器14,机架13上方设置有电解反应槽5,电解反应槽5内部设置有硫酸铜反萃液槽11,硫酸铜反萃液槽11与电解反应槽5之间设置有单向膜12,电解反应槽5旁边设置有二级水洗槽4,二级水洗槽4旁边设置有三级萃取槽3,三级萃取槽3连接有废液暂存槽2,废液暂存槽2连接有蚀刻生产线1,蚀刻生产线1另一端连接有再生液暂存槽10,再生液暂存槽10旁边设置有再生液调配槽9,再生液调配槽9内部设置有浓度检测计8,二级水洗槽4连接有萃取油中转槽6,萃取油中转槽6旁边设置有洗涤水排放槽7。
上述结构中,蚀刻生产线1排放高含铜(120-130g/L)废液至废液暂存槽2,高含铜废液经废液暂存槽2送至三级萃取槽3,每级萃取可降低废液含铜25-30g/L,大幅被萃取降低铜含量的废液送至再生液调配槽9进行药剂添加调配,调配好的再生液送至再生液暂存槽10,由再生液暂存槽10将合格的再生液送至蚀刻生产线1使用,萃取油经三级萃取后饱含铜离子再经水洗后进入硫酸铜反萃液槽11进行反萃取,失去铜离子的萃取油流去萃取油中转槽6,得到铜离子硫酸铜液进入电解反应槽5进行电解化学反应,电解反应产生的铜被再次利用制造蚀刻用原液。
进一步的,三级萃取槽3与二级水洗槽4连通,三级萃取槽3与再生液调配槽9连通,电解反应槽5外部通过管道再次连接硫酸铜反萃液槽11,二级水洗槽4通过管道与洗涤水排放槽7连通,连接所有工序的管道上均设置有阀门,控制器14通过螺钉固定在机架13侧面,控制器14上设置有触摸操作屏。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。
Claims (7)
1.一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,其特征在于:机架、废液暂存槽,所述机架侧面设置有控制器,所述机架上方设置有电解反应槽,所述电解反应槽内部设置有硫酸铜反萃液槽,所述硫酸铜反萃液槽与所述电解反应槽之间设置有单向膜,所述电解反应槽旁边设置有二级水洗槽,所述二级水洗槽旁边设置有三级萃取槽,所述三级萃取槽连接有所述废液暂存槽,所述废液暂存槽连接有蚀刻生产线,所述蚀刻生产线另一端连接有再生液暂存槽,所述再生液暂存槽旁边设置有再生液调配槽,所述再生液调配槽内部设置有浓度检测计,所述二级水洗槽连接有萃取油中转槽,所述萃取油中转槽旁边设置有洗涤水排放槽。
2.根据权利要求1所述的一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,其特征在于:所述三级萃取槽与所述二级水洗槽连通。
3.根据权利要求1所述的一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,其特征在于:所述三级萃取槽与所述再生液调配槽连通。
4.根据权利要求1所述的一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,其特征在于:所述电解反应槽外部通过管道再次连接所述硫酸铜反萃液槽。
5.根据权利要求1所述的一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,其特征在于:所述二级水洗槽通过管道与所述洗涤水排放槽连通。
6.根据权利要求1所述的一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,其特征在于:连接所有工序的管道上均设置有阀门。
7.根据权利要求1所述的一种碱性蚀刻液循环再生回用装置,其特征在于:所述控制器通过螺钉固定在所述机架侧面,所述控制器上设置有触摸操作屏。
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CN201720536382.9U CN206912225U (zh) | 2017-05-16 | 2017-05-16 | 一种碱性蚀刻液循环再生回用装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN108867133A (zh) * | 2018-06-28 | 2018-11-23 | 谢章春 | 一种蒸煮液回收利用的碎竹蒸煮设备 |
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2017
- 2017-05-16 CN CN201720536382.9U patent/CN206912225U/zh active Active
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