CN206838632U - 一种单晶硅片的清洗沥干装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗槽，所述清洗槽的内腔上端中央设有连杆块，所述清洗槽的一侧壁固定连接有沥干箱，所述清洗槽的上端内侧壁和连杆块的侧壁上均设有滑槽，所述清洗槽在远离沥干箱的外侧壁中间设有长方体卡条块，此装置利用置物框，方便对物品放置篮的放置，以便于对单晶硅片的清洗，通过液压缸推动物品放置篮的移动，以便于水溶液对单晶硅片的冲洗，减少单晶硅片在搅拌的过程中变形，进而影响单晶硅片的质量，利用吹风机和沥干箱方便对清洗后的单晶硅片的风干，减少单晶硅片在运输过程中的污染，利用置物框和滑槽，防止置物框偏离此装置，也保证了此装置的使用寿命。

Description

一种单晶硅片的清洗沥干装置

技术领域

本实用新型涉单晶硅清洗技术领域，具体为一种单晶硅片的清洗沥干装置。

背景技术

单晶硅片清洗是在硅片的加工过程中，每一道工序都涉及到清洗，硅研磨片清洗质量的好坏将直接影响下一道工序，甚至影响器件的成品率和可靠性。传统的手工清洗装置清洗后的研磨硅片上仍然会有许多研磨金刚砂，硅粉末残留。传统的超声波清洗装置导致硅片竖插在承载花篮内，超声波源从底部发生往上发射与硅片表面侧面接触，超洗后硅片表面的污染物会残留堆积在硅片表面，形成局部区域清洗不干净，传统的清洗结构功能单一，清洗后不方便对硅片进行沥干，因此在传递的过程中容易感染细菌等污染源，也不方便对单晶硅片的高效清洗，因此不满足单晶硅片清洗的需求，鉴于此，我们提供一种单晶硅片的清洗沥干装置。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种单晶硅片的清洗沥干装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗槽，所述清洗槽的内腔上端中央设有连杆块，所述清洗槽的一侧壁固定连接有沥干箱，所述沥干箱的一侧壁上镶嵌有吹风机，所述清洗槽的上端内侧壁和连杆块的侧壁上均设有滑槽，其中滑槽内滑动卡接有置物框，所述置物框上卡接有多个物品放置篮，所述物品放置篮的顶端两侧连接有绳索，所述清洗槽在远离沥干箱的外侧壁中间设有长方体卡条块，其中长方体卡条块上固定连接有水平的液压缸，所述液压缸的活塞杆通过连杆固定连接置物框的侧边中间位置。

优选的，所述沥干箱内分为多个沥干室，其中多个沥干室均相互连通。

优选的，所述滑槽的高度大于置物框的边框高度，且置物框的形状为长方形，所述清洗槽上端的滑槽和连杆块侧壁的滑槽在同一水平面内。

优选的，所述置物框的数目为两个，且连杆的数目为两个。

优选的，所述清洗槽和长方体卡条块为固定焊接，且清洗槽高度和长方体卡条块的高度相同。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型结构设计巧妙，操作简单，方便人们使用，利用置物框，方便对物品放置篮的放置，以便于对单晶硅片的清洗，通过液压缸推动物品放置篮的移动，以便于水溶液对单晶硅片的冲洗，减少单晶硅片在搅拌的过程中变形，进而影响单晶硅片的质量，利用吹风机和沥干箱方便对清洗后的单晶硅片的风干，减少单晶硅片在运输过程中的污染，利用置物框和滑槽，防止置物框偏离此装置，也保证了此装置的使用寿命，利用两个置物框和连杆，提高了单晶硅片的清洗效率，也节约了资源，以满足单晶硅片的生产需求。

此装置在使用时，把放有单晶硅片的物品放置篮卡接在清洗槽两边的置物框上，然后启动液压缸，使得液压缸带动置物框在清洗槽内往返运动，清洗结束后，把物品放置篮提出放置在沥干箱内，启动吹风机吹动沥干箱内的物品放置篮，直到物品放置篮上的单晶硅片上没有水滴即可，最后把单晶硅片取下即可完成这一程序操作。

附图说明

图1为本实用新型的俯视结构示意图。

图2为本实用新型A-A的剖视结构示意图。

图3为本实用新型物品放置篮的侧视结构示意图。

图中：清洗槽1、连杆块2、置物框3、沥干箱4、吹风机5、物品放置篮6、绳索61、长方体卡条块7、液压缸8、连杆9、滑槽10。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：

一种单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗槽1，清洗槽1的内腔上端中央设有连杆块2，清洗槽1的一侧壁固定连接有沥干箱4，沥干箱4的一侧壁上镶嵌有吹风机5，沥干箱4内分为多个沥干室，其中多个沥干室均相互连通，利用吹风机5和沥干箱4方便对清洗后的单晶硅片的风干，减少单晶硅片在运输过程中的污染。

清洗槽1的上端内侧壁和连杆块2的侧壁上均设有滑槽10，其中滑槽10内滑动卡接有置物框3，滑槽10的高度大于置物框3的边框高度，且置物框3的形状为长方形，清洗槽1上端的滑槽10和连杆块2侧壁的滑槽10在同一水平面内，置物框3上卡接有多个物品放置篮6，物品放置篮6的顶端两侧连接有绳索61，利用置物框3，方便对物品放置篮6的放置，以便于对单晶硅片的清洗，利用置物框3和滑槽10，防止置物框3偏离此装置，也保证了此装置的使用寿命。

清洗槽1在远离沥干箱4的外侧壁中间设有长方体卡条块7，其中长方体卡条块7上固定连接有水平的液压缸8，清洗槽1和长方体卡条块7为固定焊接，且清洗槽1高度和长方体卡条块7的高度相同，液压缸8的活塞杆通过连杆9固定连接置物框3的侧边中间位置，置物框3的数目为两个，且连杆9的数目为两个，通过液压缸8推动物品放置篮6的移动，以便于水溶液对单晶硅片的冲洗，减少单晶硅片在搅拌的过程中变形，进而影响单晶硅片的质量，利用两个置物框3和连杆9，提高了单晶硅片的清洗效率，也节约了资源，以满足单晶硅片的生产需求。

本实用新型结构设计巧妙，操作简单，方便人们使用，此装置在使用时，把放有单晶硅片的物品放置篮6卡接在清洗槽1两边的置物框3上，然后启动液压缸8，使得液压缸8带动置物框3在清洗槽1内往返运动，清洗结束后，把物品放置篮6提出放置在沥干箱4内，启动吹风机5吹动沥干箱4内的物品放置篮6，直到物品放置篮6上的单晶硅片上没有水滴即可，最后把单晶硅片取下即可完成这一程序操作。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种单晶硅片的清洗沥干装置，包括清洗槽（1），所述清洗槽（1）的内腔上端中央设有连杆块（2），其特征在于：所述清洗槽（1）的一侧壁固定连接有沥干箱（4），所述沥干箱（4）的一侧壁上镶嵌有吹风机（5），所述清洗槽（1）的上端内侧壁和连杆块（2）的侧壁上均设有滑槽（10），其中滑槽（10）内滑动卡接有置物框（3），所述置物框（3）上卡接有多个物品放置篮（6），所述物品放置篮（6）的顶端两侧连接有绳索（61），所述清洗槽（1）在远离沥干箱（4）的外侧壁中间设有长方体卡条块（7），其中长方体卡条块（7）上固定连接有水平的液压缸（8），所述液压缸（8）的活塞杆通过连杆（9）固定连接置物框（3）的侧边中间位置。

2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述沥干箱（4）内分为多个沥干室，其中多个沥干室均相互连通。

3.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述滑槽（10）的高度大于置物框（3）的边框高度，且置物框（3）的形状为长方形，所述清洗槽（1）上端的滑槽（10）和连杆块（2）侧壁的滑槽（10）在同一水平面内。

4.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述置物框（3）的数目为两个，且连杆（9）的数目为两个。

5.根据权利要求1所述的一种单晶硅片的清洗沥干装置，其特征在于：所述清洗槽（1）和长方体卡条块（7）为固定焊接，且清洗槽（1）高度和长方体卡条块（7）的高度相同。