CN206618919U - 一种触控基板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型实施例提供一种触控基板及显示装置,涉及触控技术领域,可以提高绑定区的遮光层的耐候性。所述触控基板,包括衬底,所述衬底包括触控区和绑定区;所述触控区设置有触控结构,所述绑定区设置有遮光层、以及与所述触控结构中的触控电极电连接的走线端子;还包括覆盖所述衬底的消影层;所述消影层位于所述绑定区的部分,设置在所述走线端子与所述衬底之间。用于触控装置。
Description
技术领域
本实用新型涉及触控技术领域,尤其涉及一种触控基板及显示装置。
背景技术
随着显示及触控技术的发展,人们对触摸屏的要求越来越高,更好的触控性能深受广大消费者的喜爱。相对于电阻式触摸屏,电容式触摸屏具有反应灵敏、不易磨损、只需一次校正或不需校正即可使用等优点,并且电容技术在光损失和系统功耗上优于电阻技术,而OGS (One Glass Solution,简称一体化触控)具有结构简单,轻、薄、透光性好等优点,由于其省掉一片玻璃基板以及贴合工序,因此有利于降低生产成本、提高产品良率。
传统的OGS触控基板,包括衬底,衬底上具有触控区、走线区和绑定区;触控区设置有触控结构,走线区和绑定区设置有遮光层,走线区还设置有位于所述遮光层远离所述衬底一侧且与触控结构中的触控电极连接的走线,绑定区还设置有位于所述遮光层40远离所述衬底100一侧且与所述走线一一对应且电连接的走线端子31(如图3所示),所述走线端子31用于与FPC(Flexible Printed Circuit,简称柔性线路板)进行绑定。在此基础上,为了消除触控区的刻蚀纹,可在触控结构以及走线远离衬底100一侧设置消影层50,通常采用SiOxNy(氮氧化硅)作为消影层50的材料,而为了露出绑定区的走线端子31,需要用刻蚀膏将绑定区的消影层50刻蚀掉。
然而,刻蚀膏对绑定区的消影层50进行刻蚀时,对遮光层40 也会产生影响,具体表现为:在长期受到UV(ultraviolet,简称紫外光)光照的情况下,刻蚀膏涂布范围内、且未被走线端子31覆盖的遮光层40发生变性,如图1所示,在可见光范围内,随着UV光照时间的增加,刻蚀膏涂布范围内、且未被走线端子31覆盖的遮光层 40的反射率逐渐增大,如图2所示,在相同UV光照时间下,相对于没有刻蚀膏作用的遮光层40,受到刻蚀膏作用的遮光层40透过率增大。由于刻蚀膏涂布范围内、且未被走线端子31覆盖的遮光层40 的反射率和折射率都增大,导致其颜色变淡(如图3所示)。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种触控基板及显示装置,可以提高绑定区的遮光层的耐候性。
为达到上述目的,本实用新型的实施例采用如下技术方案:
一方面,提供一种触控基板,包括衬底,所述衬底包括触控区和绑定区;所述触控区设置有触控结构,所述绑定区设置有遮光层、以及与所述触控结构中的触控电极电连接的走线端子;还包括覆盖所述衬底的消影层;所述消影层位于所述绑定区的部分,设置在所述走线端子与所述衬底之间。
优选的,所述消影层位于所述触控区的部分,设置在所述衬底与所述触控结构之间。
优选的,所述衬底还包括走线区,所述走线区设置有走线;所述触控电极与所述走线端子通过所述走线电连接;其中,所述走线与所述触控电极直接接触;所述走线与所述走线端子通过一次构图工艺形成。
进一步优选的,触控基板还包括设置在所述走线区,且位于所述走线远离所述衬底一侧的涂覆保护层。
优选的,所述消影层位于所述绑定区的部分,设置在所述遮光层与所述走线端子之间。
优选的,所述触控电极包括相互绝缘且交叉设置的第一触控电极和第二触控电极;所述第一触控电极在与所述第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接;所述搭桥与所述第二触控电极通过绝缘块隔离。
进一步优选的,走线、走线端子以及所述搭桥通过一次构图工艺形成。
优选的,所述遮光层为黑色遮光层或白色遮光层。
另一方面,提供一种显示装置,包括显示面板,以及设置在所述显示面板出光侧的触控基板,所述触控基板为第一方面所述的触控基板。
本实用新型实施例提供一种触控基板及显示装置,通过将消影层平铺于衬底上,可无需采用刻蚀工艺,因而可简化工艺;在此基础上,通过将消影层位于绑定区的部分,设置在走线端子与衬底之间,相对现有技术,无需为了露出走线端子,而使用刻蚀膏将绑定区的消影层刻蚀掉,因而,在长期UV光照的情况下,不会由于绑定区的遮光层发生变性而导致颜色变淡,提高了绑定区的遮光层的耐候性。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术提供的受刻蚀膏作用的遮光层的反射率随UV光照时间变化的曲线图;
图2为现有技术提供的在UV光照条件下两种不同情况的遮光层的折射率对比图;
图3为现有技术提供的一种遮光层的颜色的变化图;
图4为本实用新型实施例提供的一种触控基板的俯视示意图一;
图5为图4中A-A′向剖视示意图一;
图6为图4中A-A′向剖视示意图二;
图7为图4中B-B′向剖视示意图;
图8为本实用新型实施例提供的一种触控基板的俯视示意图二;
图9(a)为图8中C-C′向剖视示意图一;
图9(b)为图8中C-C′向剖视示意图二。
附图标记:
01-触控区;02-走线区;03-绑定区;10-触控电极;11-第一触控电极;12-第二触控电极;13-搭桥;14-绝缘块;21-走线;22-涂覆保护层;31-走线端子;40-遮光层;50-消影层;100-衬底。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供一种触控基板,如图4-6所示,包括衬底100,衬底100包括触控区01和绑定区03;触控区01设置有触控结构,绑定区 03设置有遮光层40、以及与触控结构中的触控电极10电连接的走线端子 31;还包括覆盖衬底100的消影层50;消影层50位于绑定区03的部分,设置在走线端子31与衬底100之间。
需要说明的是,第一,不对触控结构的具体结构进行限定,只要能实现触控功能即可。图1中触控结构仅为示意。
第二,触控区01为当所述触控基板应用于显示装置时,用于显示画面的区域。绑定区03为位于触控区01的外围,且用于走线端子31与 FPC进行绑定的区域。
第三,消影层50覆盖衬底100,即为消影层50平铺于衬底100上,无需通过刻蚀工艺,只需通过成膜工艺形成即可。
第四,消影层50位于绑定区03的部分,可以设置在走线端子31与遮光层40之间(如图5所示),也可以设置在遮光层40与衬底100之间 (如图6所示)。
其中,消影层50的材料可根据其相对触控结构的具体设置位置而定,只要能起到消除触控区01的刻蚀纹即可。
本实用新型实施例提供一种触控基板,通过将消影层50平铺于衬底100上,可无需采用刻蚀工艺,因而可简化工艺;在此基础上,通过将消影层50位于绑定区03的部分,设置在走线端子31与衬底100 之间,相对现有技术,无需为了露出走线端子31,而使用刻蚀膏将绑定区03的消影层50刻蚀掉,因而,在长期UV光照的情况下,不会由于绑定区03的遮光层40发生变性而导致颜色变淡,提高了绑定区03的遮光层40的耐候性。
在此基础上,优选的,遮光层40的主体材料可以为甲基丙烯酸甲酯,任意颜色的遮光层40都可通过在聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) 中加入相关化学物质得到,例如黑色遮光层可在甲基丙烯酸甲酯中加入石墨得到。
优选的,如图7所示,消影层50位于触控区01的部分,设置在衬底100与触控结构之间。
本实用新型实施例中,通过将消影层50设置在触控结构以及走线端子31下方,使得消影层50更为平坦,提高消影效果。
进一步优选的,消影层50的材料包括五氧化二铌(Nb2O5)和二氧化硅(SiO2)的混合物。
本实用新型实施例中,基于五氧化二铌和二氧化硅的混合物的折射率,当五氧化二铌和二氧化硅的混合物作为消影层50材料,并设置在触控结构与衬底100之间时,可消除触控区01的刻蚀纹。
优选的,如图4所示,衬底100还包括走线区02,走线区02设置有走线21;触控电极10与走线端子31通过走线21电连接;其中,走线21与触控电极10直接接触;走线21与走线端子31通过一次构图工艺形成。
需要说明的是,第一,走线区02为位于触控区01的外围,除去绑定区03的区域。
第二,走线端子31与走线21一一对应。
本实用新型实施例中,无需在触控电极10与走线21之间设置其他结构层,简化工艺。
进一步优选的,如图8、图9(a)和9(b)所示,所述触控基板还包括设置在走线区02,且位于走线21远离衬底100一侧的涂覆保护层 22。
本实用新型实施例中,通过涂覆保护层22可对走线21进行保护,避免受环境湿度影响对走线21造成腐蚀。
优选的,如图5所示,消影层50位于绑定区03的部分,设置在遮光层40与走线端子31之间。
本实用新型实施例中,在工艺制作过程中,通常先通过网印或镀膜的方式在衬底100的走线区02和绑定区03形成遮光层40,再通过磁控溅射的方式形成消影层50,这种制作方式相对于先在衬底100 上形成消影层50,再在消影层50位于走线区02和绑定区03的部分、且远离衬底100的一侧形成遮光层40,工艺流程更简单。
优选的,如图4和图8所示,触控电极10包括相互绝缘且交叉设置的第一触控电极11和第二触控电极12;第一触控电极11在与第二触控电极12交叉的区域通过搭桥13电连接;搭桥13与第二触控电极12通过绝缘块14隔离。
即,绝缘块14设置于搭桥13与第二触控电极12之间。
其中,第一触控电极11和第二触控电极12的材料均为透明导电材料,例如氧化铟锡(ITO)、铟锌氧化物(IZO)等。第一触控电极11和第二触控电极12可以由多个菱形子电极连接构成、多个条形子电极连接构成、多个十字形子电极连接构成或多个雪花型子电极连接构成等。图4和图8以第一触控电极11和第二触控电极12均由多个菱形子电极连接构成进行示意。
需要说明的是,不对搭桥13相对第二触控电极12的位置进行限定,搭桥13可以位于第二触控电极12与衬底100之间,也可以设置在第二触控电极12远离衬底100一侧。
本实用新型实施例将第一触控电极11在交叉区域通过搭桥13 电连接,搭桥13与第二触控电极12通过绝缘块14隔离得到触控结构,工艺成熟,触控性能较好。
进一步优选的,走线21、走线端子31以及搭桥13通过一次构图工艺形成。
本实用新型实施例通过在形成搭桥13的同时形成走线21和走线端子31,可以避免构图工艺次数的增加,降低制备成本。
优选的,遮光层40为黑色遮光层或白色遮光层。
本实用新型实施例中,由于黑色遮光层和白色遮光层实际应用更广泛,因此,相比于其他颜色的遮光层40,制备工艺更成熟。
本实用新型实施例还提供一种显示装置,包括显示面板,以及设置在所述显示面板出光侧的触控基板,所述触控基板为本实用新型前述任一实施例的触控基板。
需要说明的是,所述显示面板可以是液晶显示面板,也可以是有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Display,简称OLED)。
当显示面板为液晶显示面板时,其包括阵列基板、对盒基板以及设置在二者之间的液晶层。其中,阵列基板可以包括薄膜晶体管(Thin Film Transistor,简称TFT),与TFT的漏极电连接的像素电极;进一步的还可以包括公共电极。对盒基板可以包括黑矩阵和彩膜。此处,彩膜可以设置在对盒基板上,也可设置在阵列基板上;公共电极可以设置在阵列基板上,也可设置在对盒基板上。
当显示面板为OLED显示面板时,其包括阵列基板和封装基板。其中,阵列基板可以包括TFT,与TFT的漏极电连接的阳极、阴极、以及位于阳极和阴极之间的有机材料功能层。
本实用新型实施例提供一种显示装置,通过在触控基板上将消影层 50平铺于衬底100上,可无需采用刻蚀工艺,因而可简化工艺;在此基础上,通过将消影层50位于绑定区03的部分,设置在走线端子 31与衬底100之间,相对现有技术,无需为了露出走线端子31,而使用刻蚀膏将绑定区03的消影层50刻蚀掉,因而,在长期UV光照的情况下,不会由于绑定区03的遮光层40发生变性而导致颜色变淡,提高了绑定区03的遮光层40的耐候性。
以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (9)
1.一种触控基板,包括衬底,所述衬底包括触控区和绑定区;所述触控区设置有触控结构,所述绑定区设置有遮光层、以及与所述触控结构中的触控电极电连接的走线端子;其特征在于,还包括覆盖所述衬底的消影层;
所述消影层位于所述绑定区的部分,设置在所述走线端子与所述衬底之间。
2.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述消影层位于所述触控区的部分,设置在所述衬底与所述触控结构之间。
3.根据权利要求2所述的触控基板,其特征在于,所述衬底还包括走线区,所述走线区设置有走线;所述触控电极与所述走线端子通过所述走线电连接;
其中,所述走线与所述触控电极直接接触;所述走线与所述走线端子通过一次构图工艺形成。
4.根据权利要求3所述的触控基板,其特征在于,还包括设置在所述走线区,且位于所述走线远离所述衬底一侧的涂覆保护层。
5.根据权利要求1所述的触控基板,其特征在于,所述消影层位于所述绑定区的部分,设置在所述遮光层与所述走线端子之间。
6.根据权利要求1-5任一项所述的触控基板,其特征在于,所述触控电极包括相互绝缘且交叉设置的第一触控电极和第二触控电极;
所述第一触控电极在与所述第二触控电极交叉的区域通过搭桥电连接;所述搭桥与所述第二触控电极通过绝缘块隔离。
7.根据权利要求6所述的触控基板,其特征在于,走线、走线端子以及所述搭桥通过一次构图工艺形成。
8.根据权利要求1-5任一项所述的触控基板,其特征在于,所述遮光层为黑色遮光层或白色遮光层。
9.一种显示装置,包括显示面板,以及设置在所述显示面板出光侧的触控基板,其特征在于,所述触控基板为权利要求1-8任一项所述的触控基板。
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