CN206609299U - 真空恒压系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种真空恒压系统，该真空恒压系统包括真空泵、外部气源、真空规、比例调节阀、真空腔体和控制中心；所述外部气源通过质量流量控制器与所述真空腔体的一端连通，所述真空腔体的另一端依次通过所述真空规和所述比例调节阀与所述真空泵连通，构成闭环控制恒压系统；所述真空规用于实时检测所述真空腔体内的压力，所述控制中心根据所述真空规检测的所述真空腔体内的压力，控制所述比例调节阀和所述质量流量控制器的开启或关闭。本实用新型根据真空规实时检测真空腔体内的压力，控制中心控实时控制比例调节阀和质量流量控制器，实现了真空腔体内真空恒定的实时调整。
Description
技术领域
本实用新型涉及了一种真空恒压系统。
背景技术
管式高温炉常用于各大专院校的实验室。管式高温炉内的真空恒压系统在实验的过程中，需要保证炉内的真空度恒定。保持真空度恒定，目前普遍采用的方法是根据炉内情况通过调节阀进行手动控制，这种方法不能实现动态实时监控，而且炉内真空度变化幅度大，实验操作者缺乏控制经验，增加了控制的难度。
为了解决以上存在的问题，人们一直在寻求一种理想的技术解决方案。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术的不足，从而提供一种结构简单、设计科学、实用性强、操作简单的真空恒压系统。
为了实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种真空恒压系统，该真空恒压系统包括真空泵、外部气源、真空规、比例调节阀、真空腔体和控制中心；
所述外部气源通过质量流量控制器与所述真空腔体的一端连通，所述真空腔体的另一端依次通过所述真空规和所述比例调节阀与所述真空泵连通，构成闭环控制恒压系统；
所述真空规用于实时检测所述真空腔体内的压力，所述控制中心根据所述真空规检测的所述真空腔体内的压力，控制所述比例调节阀和所述质量流量控制器的开启或关闭。
基于上述，所述真空腔体为石英玻璃管，所述真空腔体的两端设置有密封法兰。
基于上述，所述控制中心连接有彩屏显示器和输入键盘。
基于上述，所述比例调节阀和所述真空泵之间设置有一手动挡板阀。
本实用新型相对现有技术具有实质性特点和进步，具体的说，本实用新型根据真空规实时检测真空腔体内的压力，控制中心控实时控制比例调节阀和质量流量控制器，实现了真空腔体内真空恒定的实时调整。本实用新型可以应用于等离子体化学气相沉积设备、管式炉和真空气氛炉的真空恒压。
附图说明
图1是本实用新型的原理图。
具体实施方式
下面通过具体实施方式，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
如图1所示，一种真空恒压系统，该真空恒压系统包括真空泵、外部气源、真空规、比例调节阀、真空腔体和控制中心；所述外部气源通过质量流量控制器与所述真空腔体的一端连通，所述真空腔体的另一端依次通过所述真空规和所述比例调节阀与所述真空泵连通，构成闭环控制恒压系统；所述真空规用于实时检测所述真空腔体内的压力，所述控制中心根据所述真空规检测的所述真空腔体内的压力，控制所述比例调节阀和所述质量流量控制器的开启或关闭。
本实用新型的真空稳定实现包括比例控制法和进气大小控制法：
比例控制法
a、开启外部气源，所述控制中心控制所述质量流量控制器的气体流量恒定；开启比例调节阀，启动真空泵；
b、真空规实时检测真空腔体内的压力；
c、通过所述控制中心实时调整所述比例调节阀的开启度，待实时真空与预设真空相等，即可实现真空的稳定。
进气大小控制法
a、所述控制中心控制所述比例调节阀的开启度大小一定，启动真空泵；
b、真空规实时检测真空腔体内的压力；
c、通过所述控制中心实时调整所述质量流量控制器的进气量，待实时真空与预设真空相等，即可实现真空的稳定。
具体的，所述真空腔体采用石英玻璃管，所述真空腔体的两端设置有密封法兰，方便安装使用。所述控制中心连接有彩屏显示器和输入键盘，可以实时显示真空腔体内的压力大小、比例调节阀的开启度大小以及质量流量控制器的进气量大小，使得整个调整过程更加直观清晰。所述比例调节阀和所述真空泵之间设置有一手动挡板阀，用于真空恒定的手动粗调整。
最后应当说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对其限制；尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细的说明，所属领域的普通技术人员应当理解：依然可以对本实用新型的具体实施方式进行修改或者对部分技术特征进行等同替换；而不脱离本实用新型技术方案的精神，其均应涵盖在本实用新型请求保护的技术方案范围当中。
Claims (4)
1.一种真空恒压系统，其特征在于：该真空恒压系统包括真空泵、外部气源、真空规、比例调节阀、真空腔体和控制中心；
所述外部气源通过质量流量控制器与所述真空腔体的一端连通，所述真空腔体的另一端依次通过所述真空规和所述比例调节阀与所述真空泵连通，构成闭环控制恒压系统；
所述真空规用于实时检测所述真空腔体内的压力，所述控制中心根据所述真空规检测的所述真空腔体内的压力，控制所述比例调节阀和所述质量流量控制器的开启或关闭。
2.根据权利要求1所述的真空恒压系统，其特征在于：所述真空腔体为石英玻璃管，所述真空腔体的两端设置有密封法兰。
3.根据权利要求2所述的真空恒压系统，其特征在于：所述控制中心连接有彩屏显示器和输入键盘。
4.根据权利要求3所述的真空恒压系统，其特征在于：所述比例调节阀和所述真空泵之间设置有一手动挡板阀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201620929686.7U CN206609299U (zh) | 2016-08-24 | 2016-08-24 | 真空恒压系统 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN201620929686.7U CN206609299U (zh) | 2016-08-24 | 2016-08-24 | 真空恒压系统 |
Publications (1)
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| CN206609299U true CN206609299U (zh) | 2017-11-03 |
Family
ID=60170760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| CN201620929686.7U Active CN206609299U (zh) | 2016-08-24 | 2016-08-24 | 真空恒压系统 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108517556A (zh) * | 2018-04-24 | 2018-09-11 | Fd3M公司 | 真空压力控制装置和微波等离子体化学气相沉积装置 |
| CN111288796A (zh) * | 2019-12-27 | 2020-06-16 | 合肥恒力装备有限公司 | 一种真空罐式炉气路控制系统及控制方法 |
| US11469077B2 (en) | 2018-04-24 | 2022-10-11 | FD3M, Inc. | Microwave plasma chemical vapor deposition device and application thereof |
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2016
- 2016-08-24 CN CN201620929686.7U patent/CN206609299U/zh active Active
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